專利名稱：蒸發(fā)源和具有該蒸發(fā)源的沉積設備的制作方法
技術領域：
所描述的技術總體上涉及用于制造平板顯示器的蒸發(fā)源和具有該蒸發(fā)源的沉積 設備。
背景技術：
由于平板顯示器的輕的重量和薄的輪廓，它們已經替代了陰極射線管顯示器。這 樣的顯示器的典型示例包括液晶顯示器(LCD)和有機發(fā)光二極管顯示器(OLED)。OLED通 常具有較好的亮度和視角的特性，并且不需要背光，從而可以將它們實現(xiàn)為超薄顯示器。這些OLED利用通過陰極和陽極注入到有機薄膜中的電子和空穴復合而形成激子 的現(xiàn)象來顯示圖像，因此通過激子的去激作用而釋放的能量來發(fā)射具有特定波長的光。通常，通過光刻方法或沉積方法在由例如玻璃、不銹鋼或合成樹脂形成的基板上 選擇性地形成陰極、陽極和有機薄膜來制造OLED顯示器。在沉積方法中，沉積材料蒸發(fā)或 升華、在真空下沉積并被選擇性地蝕刻。可選擇地，使用按預定的圖案具有多個縫隙的掩模 組件來選擇性地沉積沉積材料。光刻方法通常需要將光致抗蝕劑施加到預定區(qū)域，然后對施加的光致抗蝕劑執(zhí)行 濕蝕刻或者干蝕刻。在去除或蝕刻光致抗蝕劑的過程中，濕氣會滲透。對于在濕氣存在時 發(fā)生降解的材料(例如，有機薄膜)而言，沉積是用來形成薄膜的主要方法。

發(fā)明內容
一個發(fā)明方面在于一種用于制造平板顯示器的沉積噴嘴具有使陰影效應最小化 的結構的蒸發(fā)源和的具有該蒸發(fā)源的沉積設備，實現(xiàn)了平板顯示器的層的基本均勻的沉 積。另一方面在于一種蒸發(fā)源，該蒸發(fā)源包括熔罐，在其一側是敞開的并儲存沉積材 料；噴嘴部分，位于熔罐的敞開側上并具有多個噴嘴，每個噴嘴在噴嘴的內壁的預定區(qū)域上 傾斜；加熱器，加熱熔罐；外殼，容納熔罐、噴嘴部分和加熱器。噴嘴部分具有小于60°的最 大噴射角。另一方面在于一種沉積設備，該沉積設備包括處理室；蒸發(fā)源，位于處理室的一 側上并包括在噴嘴的內壁的預定區(qū)域上傾斜的至少一個噴嘴；基板固定器，設置成與蒸發(fā) 源相對；掩模組件，設置在基板固定器和蒸發(fā)源之間并具有多個縫隙，每個縫隙具有以第一 傾斜角向掩模組件的表面傾斜的側壁。另一方面在于一種用于制造平板顯示器的蒸發(fā)源，該蒸發(fā)源包括熔罐，在其一側 是敞開的并被構造為儲存沉積材料；噴嘴部分，位于熔罐的敞開側上并包括多個噴嘴，其 中，每個噴嘴具有被構造為噴射穿過噴嘴的沉積材料的側壁，所述側壁具有傾斜部分；加熱 器，被構造為加熱熔罐；外殼，被構造為容納熔罐、噴嘴部分和加熱器，其中，噴嘴部分具有 小于大約60°的最大噴射角。在上述源中，熔罐沿一個方向延伸并包括劃分熔罐的內部空間的至少一個分隔件。在上述源中，至少一個分隔件包括形成在分隔件的上部的槽。 在上述源中，側壁具有比傾斜部分更靠近熔罐的非傾斜部分，其中，傾斜部分具有
滿足下式的高度(h)
權利要求
1.一種蒸發(fā)源，用于制造平板顯示器，所述蒸發(fā)源包括熔罐，在其一側是敞開的并被構造為儲存沉積材料；噴嘴部分，位于熔罐的敞開側上并包括多個噴嘴，其中，每個噴嘴具有被構造為噴射穿 過噴嘴的沉積材料的側壁，側壁具有傾斜部分；加熱器，被構造為加熱熔罐；外殼，被構造為容納熔罐、噴嘴部分和加熱器，其中，噴嘴部分具有小于60°的最大噴射角。
2.如權利要求1所述的蒸發(fā)源，其中，所述熔罐沿一個方向延伸并包括劃分熔罐的內 部空間的至少一個分隔件。
3.如權利要求2所述的蒸發(fā)源，其中，所述至少一個分隔件包括形成在分隔件的上部 的槽。
4.如權利要求1所述的蒸發(fā)源，其中，側壁具有比所述傾斜部分更靠近熔罐的非傾斜 部分，其中，傾斜部分具有滿足下式的高度h :ηtan(90-—)tan^h=-j-Rtan(90-y)-tan^其中，θ是噴嘴部分的最大噴射角，R是噴嘴的寬度。
5.如權利要求1所述的蒸發(fā)源，其中，側壁具有比傾斜部分更靠近熔罐的非傾斜部分， 其中，傾斜部分具有頂部和比頂部更靠近熔罐的底部，傾斜部分逐漸地傾斜，使得頂部的內 部寬度大于底部的內部寬度，傾斜部分的底部的厚度t滿足下式1 ~atan(90-y)—tan<9其中，θ是噴嘴部分的最大噴射角，R是噴嘴的寬度，厚度t與側壁的非傾斜部分的厚 度相同。
6.如權利要求1所述的蒸發(fā)源，其中，側壁具有比傾斜部分更靠近熔罐的非傾斜部分，其中，傾斜部分具有滿足下式的高度h和厚度t :h θ y = tan(90-y)其中，θ是噴嘴部分的最大噴射角，傾斜部分具有頂部和比頂部更靠近熔罐的底部，傾 斜部分逐漸地傾斜使得頂部的內部寬度大于底部的內部寬度，t是傾斜部分的底部的厚度， 該厚度與側壁的非傾斜部分的厚度相同。
7.如權利要求1所述的蒸發(fā)源，其中，儲存在所述熔罐中的沉積材料包括有機材料。
8.如權利要求1所述的蒸發(fā)源，其中，所述熔罐的數(shù)量大于1。
9.如權利要求1所述的蒸發(fā)源，其中，所述側壁具有比傾斜部分更靠近熔罐的非傾斜 部分，非傾斜部分的高度高于傾斜部分的高度。
10.一種沉積設備，用于制造平板顯示器，所述沉積設備包括 蒸發(fā)源，被構造為容納和噴射沉積材料；掩模組件，具有多個縫隙并被構造為通過縫隙將沉積材料沉積到基板上，其中，每個縫隙具有以第一傾斜角向掩模組件的表面傾斜的側壁；基板固定器，被構造為固定基板并定位成相對于掩模組件與蒸發(fā)源相對； 處理室，被構造為容納蒸發(fā)源、基板固定器和掩模組件， 其中，蒸發(fā)源具有小于第一傾斜角的最大噴射角。
11.如權利要求10所述的沉積設備，其中，蒸發(fā)源的最大噴射角小于60°。
12.如權利要求10所述的沉積設備，其中，所述蒸發(fā)源包括 熔罐，在其一側是敞開的并被構造為儲存沉積材料；噴嘴部分，位于熔罐的敞開側上并具有多個噴嘴，其中，每個噴嘴具有被構造為通過噴 射穿過噴嘴的沉積材料的側壁，所述側壁具有i)傾斜部分和ii)非傾斜部分，非傾斜部分 比傾斜部分更靠近熔罐；加熱器，被構造為加熱熔罐；外殼，被構造為容納熔罐、噴嘴部分和加熱器。
13.如權利要求12所述的沉積設備，其中，傾斜部分具有滿足下式的高度h β
14.如權利要求12所述的沉積設備，其中，傾斜部分具有頂部和比頂部更靠近熔罐的 底部，其中，傾斜部分逐漸地傾斜，使得頂部的內部寬度大于底部的內部寬度，傾斜部分的 底部的厚度t滿足下式
15.如權利要求12所述的沉積設備，其中，傾斜部分具有滿足下式的高度h和厚度t
16.如權利要求10所述的沉積設備，其中，所述沉積設備還包括被構造為按預定的方 向互換蒸發(fā)源的傳送單元。
17.一種蒸發(fā)源，用于制造平板顯示器，所述蒸發(fā)源包括容器，被構造為儲存沉積材料；噴嘴，與容器流體連通，其中，噴嘴具有被構造為將沉積材料噴射到要被沉積的基板 上的側壁，側壁具有傾斜部分，傾斜部分具有頂部和比頂部更靠近容器的底部，傾斜部分的 頂部相對于底部形成傾斜角，使得頂部的內部寬度大于底部的內部寬度，所述傾斜角大于 60°且小于90° ；外殼，被構造為容納容器和噴嘴。
18.如權利要求17所述的蒸發(fā)源，其中，噴嘴具有小于60°的最大噴射角。
19.如權利要求17所述的蒸發(fā)源，其中，側壁包括比傾斜部分更靠近容器的非傾斜部 分，其中，傾斜部分的底部的厚度t滿足下式
20.如權利要求17所述的蒸發(fā)源，其中，側壁包括比傾斜部分更靠近容器的非傾斜部 分，其中，傾斜部分具有滿足下式的高度h和厚度t
全文摘要
本發(fā)明公開了一種蒸發(fā)源。在一個實施例中，蒸發(fā)源包括i)熔罐，在其一側是敞開的并被構造為儲存沉積材料；ii)噴嘴部分，位于熔罐的敞開側上并包括多個噴嘴，其中，每個噴嘴具有被構造為噴射穿過噴嘴的沉積材料的側壁，側壁具有傾斜部分。蒸發(fā)源還包括i)加熱器，被構造為加熱熔罐；ii)外殼，被構造為容納熔罐、噴嘴部分和加熱器，其中，噴嘴部分具有小于大約60°的最大噴射角。
文檔編號C23C14/04GK102102176SQ201010601150
公開日2011年6月22日 申請日期2010年12月17日 優(yōu)先權日2009年12月22日
發(fā)明者盧喆來, 崔丞鎬, 明承鎬, 鄭石源 申請人:三星移動顯示器株式會社