專(zhuān)利名稱(chēng)：淀積掩模和具有該淀積掩模的掩模組件的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及淀積掩模和具有該淀積掩模的掩模組件，更具體而言，涉及能夠在形 成有機(jī)發(fā)光顯示設(shè)備的有機(jī)層的過(guò)程中提高有機(jī)物質(zhì)淀積效率的淀積掩模和具有該淀積 掩模的掩模組件。
背景技術(shù)：
近來(lái)，信息技術(shù)的日益重要導(dǎo)致了用于可視地顯示電信息信號(hào)的顯示技術(shù)的進(jìn) 展。因而，已經(jīng)開(kāi)發(fā)出具有包括輕薄設(shè)計(jì)、低重量和低功耗優(yōu)異性能的多種平板顯示器，并 快速地取代了常規(guī)的陰極射線(xiàn)管(CRT)。平板顯示器的代表性例子可以包括液晶顯示器(LCD)、等離子體顯示板(PDP)、 場(chǎng)致發(fā)射顯示器(FED)、電致發(fā)光顯示器(ELD)、電潤(rùn)濕顯示器(EWD)和有機(jī)發(fā)光二極管 (OLED)顯示器。在上述顯示器中，有機(jī)發(fā)光二極管(以下稱(chēng)為“0LED”)使用有機(jī)發(fā)光二極管顯示 圖像。OLED被設(shè)計(jì)成借助于通過(guò)重新組合電子和空穴而產(chǎn)生的激子能量(exciton energy) 來(lái)產(chǎn)生特定波長(zhǎng)的光。這種OLED的優(yōu)點(diǎn)是顯示特性?xún)?yōu)異(例如高對(duì)比度和快速響應(yīng)時(shí)間) 和容易實(shí)現(xiàn)靈活顯示，并且其可以被分類(lèi)為理想的下一代顯示器。在常規(guī)的OLED中，限定了多個(gè)子像素排列成矩陣的有源區(qū)和被稱(chēng)為無(wú)源區(qū)的剩 余區(qū)。每個(gè)子像素包括薄膜晶體管和有機(jī)發(fā)光二極管。該有機(jī)發(fā)光二極管包括第一電極、 有機(jī)層和第二電極。該有機(jī)層包括空穴注入層、空穴輸送層、發(fā)光層、電子輸送層和電子注 入層。具有上述構(gòu)造的OLED通過(guò)向第一電極和第二電極施加幾伏電壓而顯示圖像。由此， 穿過(guò)有機(jī)層的電流引起發(fā)光。亦即，OLED利用如下的原理顯示圖像，該原理使用由回落到 基態(tài)的激子而產(chǎn)生的剩余能量來(lái)發(fā)光。激子是通過(guò)重新組合從第一電極和第二電極注入的 空穴和電子而產(chǎn)生。同時(shí)，在有機(jī)層形成過(guò)程中，使用掩模組件形成與子像素相對(duì)應(yīng)的發(fā)光區(qū)。在 該情況下，掩模組件包括框架和淀積掩模，其中，該框架與該淀積掩模連接，該淀積掩模 由金屬或塑料薄膜形成并包括與有源區(qū)相對(duì)應(yīng)的孔徑區(qū)和位于該孔徑區(qū)以外的攔截區(qū) (intercepting area)。在該掩模組件中，淀積掩模在非折疊狀態(tài)下是平的并且例如通過(guò)焊 接與框架連接。該框架被配置為維持該淀積掩模的平坦?fàn)顟B(tài)。為了通過(guò)同時(shí)制造多個(gè)有機(jī)發(fā)光顯示器以實(shí)現(xiàn)產(chǎn)量的提高，或者為了增大有機(jī)發(fā) 光顯示器的尺寸，需要逐漸增大襯底的尺寸。這使得必須與襯底相對(duì)應(yīng)地增大掩模組件的 尺寸。如上所述，當(dāng)單個(gè)淀積掩模構(gòu)成了大的掩模組件時(shí)，淀積掩模應(yīng)當(dāng)具有大的尺寸。 因此，即使淀積掩模在伸展?fàn)顟B(tài)下與框架連接，淀積掩模也可能在重量的作用下發(fā)生凹陷。 該凹陷的淀積掩模可能不會(huì)與襯底緊密接觸，由此難以根據(jù)設(shè)計(jì)的圖案執(zhí)行有機(jī)物質(zhì)的淀 積。此外，如果向淀積掩模施加過(guò)大的張力，該張力可能使淀積掩模的圖案發(fā)生變形，使得 難以根據(jù)設(shè)計(jì)的圖案執(zhí)行有機(jī)材料的淀積。
為了解決上述問(wèn)題，已經(jīng)嘗試使用多個(gè)淀積掩模(以下稱(chēng)為“分離(split)淀積掩 模”)來(lái)構(gòu)成與大的襯底相對(duì)應(yīng)的大的掩模組件。具體而言，在該掩模組件中，多個(gè)分離淀 積掩模連續(xù)地平行布置，并例如經(jīng)由焊接而連接至框架。在該情況下，該多個(gè)分離淀積掩模 中的每一個(gè)具有相對(duì)小的尺寸，因此不會(huì)發(fā)生凹陷。然而，在分離淀積掩模之間的邊界處可 能出現(xiàn)間隙，并且有機(jī)材料可能會(huì)穿過(guò)這些間隙從而意外地淀積在發(fā)光區(qū)以外。這會(huì)使得 后續(xù)有機(jī)物質(zhì)淀積過(guò)程中的有機(jī)物質(zhì)淀積效率劣化，并可能使得有機(jī)發(fā)光顯示器的均勻性 劣化。因此，包括多個(gè)分離淀積掩模的掩模組件需要對(duì)這些間隙進(jìn)行屏蔽。

發(fā)明內(nèi)容
因而，本發(fā)明旨在提供一種大致消除了由于相關(guān)技術(shù)的限制和缺點(diǎn)而導(dǎo)致的一個(gè) 或更多個(gè)問(wèn)題的淀積掩模和具有該淀積掩模的掩模組件。本發(fā)明的一個(gè)目的是提供一種具有對(duì)多個(gè)連續(xù)布置的淀積掩模之間的邊界處的 間隙進(jìn)行屏蔽的構(gòu)造的淀積掩模，以及具有該淀積掩模的掩模組件。本發(fā)明的其他優(yōu)點(diǎn)、目的和特征將在以下說(shuō)明書(shū)中部分地進(jìn)行闡述，并且在本領(lǐng) 域技術(shù)人員研究了以下說(shuō)明書(shū)后將部分地變得清楚，或者可以通過(guò)實(shí)施本發(fā)明而獲知。本 發(fā)明的目的和其他優(yōu)點(diǎn)可以通過(guò)在書(shū)面描述、權(quán)利要求書(shū)及附圖中具體指出的結(jié)構(gòu)來(lái)實(shí)現(xiàn) 并獲得。為了實(shí)現(xiàn)這些目的和其他優(yōu)點(diǎn)并根據(jù)本發(fā)明的目的，如此處具體說(shuō)明和廣泛描述 的，本發(fā)明提供了一種掩模組件，其包括用于使有機(jī)物質(zhì)通過(guò)的孔徑區(qū)和與該孔徑區(qū)外部 的區(qū)域相對(duì)應(yīng)的攔截區(qū)，其中，所述淀積掩模的兩端分別具有非對(duì)稱(chēng)角形截面。根據(jù)本發(fā)明的另一方面，提供了一種包括多個(gè)淀積掩模以及與所述多個(gè)淀積掩模 相連接的框架的掩模組件，在該淀積掩模中，限定了用于使有機(jī)物質(zhì)通過(guò)的孔徑區(qū)以及與 該孔徑區(qū)外部的區(qū)域相對(duì)應(yīng)的攔截區(qū)，每個(gè)淀積掩模的兩端分別具有非對(duì)稱(chēng)的角形截面。應(yīng)理解的是，本發(fā)明的以上概述和以下詳述都是示例性和解釋性的，旨在提供對(duì) 要求保護(hù)的發(fā)明的進(jìn)一步解釋。


附圖被包括進(jìn)來(lái)以提供對(duì)本發(fā)明的進(jìn)一步理解，并且被并入而構(gòu)成了本申請(qǐng)的一 部分，附圖例示了本發(fā)明的實(shí)施方式，并與說(shuō)明書(shū)一起用于解釋本發(fā)明的原理。在附圖中，圖1是例示根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施方式的用于實(shí)現(xiàn)有機(jī)物質(zhì)淀積過(guò)程的設(shè)備的 截面圖；圖2是例示根據(jù)本發(fā)明的該實(shí)施方式的掩模組件的平面圖；圖3是例示圖2中的區(qū)域A的放大平面圖；圖4是沿著圖3中的B-B’線(xiàn)截取的截面圖；以及圖5是例示根據(jù)本發(fā)明的該實(shí)施方式的用于在淀積掩模的兩個(gè)邊緣處形成角形 圖案(horn-shaped pattern)的過(guò)程的圖。
具體實(shí)施例方式下面將詳細(xì)說(shuō)明本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方式，在附圖中例示了本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方式的實(shí)施例。在附圖中盡可能用相同的附圖標(biāo)記指代相同或相似的部分。這里，將參照附圖詳細(xì)說(shuō)明根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施方式的淀積掩模和掩模組件。首先，將描述使用掩模組件的有機(jī)物質(zhì)淀積過(guò)程。圖1是例示根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施方式的用于實(shí)現(xiàn)有機(jī)物質(zhì)淀積過(guò)程的設(shè)備的截面 圖。如圖1所示，有機(jī)物質(zhì)淀積設(shè)備包括腔室10，該腔室10的內(nèi)部維持真空；淀積源 20，其布置在腔室10中用于釋放有機(jī)物質(zhì)；掩模組件100，其布置在淀積源20上方；襯底 30，其布置在掩模組件100上方；以及磁單元40，其布置成與掩模組件100相對(duì)，并且在該 磁單元40與掩模組件100之間插入有襯底30。在有機(jī)材料淀積到襯底30上的過(guò)程中，腔室10的內(nèi)部維持高真空和高溫。在 該情況下，雖然圖中未示出，但為了維持高真空，可以在腔室10中設(shè)置類(lèi)似TMPCTurb0 Molecular Pump，渦輪分子泵)的真空泵。并且雖然未示出，但有機(jī)材料淀積設(shè)備例如可以 進(jìn)一步包括用于對(duì)有機(jī)物質(zhì)的淀積厚度進(jìn)行測(cè)量的厚度監(jiān)控傳感器、用于根據(jù)測(cè)得的有 機(jī)物質(zhì)的厚度對(duì)淀積源20的操作進(jìn)行控制的控制器、以及用于阻擋從淀積源發(fā)出的有機(jī) 物質(zhì)的擋板(shutter)。淀積源20設(shè)置在腔室10的下部，并且呈用于使有機(jī)物質(zhì)煮沸蒸發(fā)(boil off)的 坩堝形式。掩模組件100包括用于使淀積的物質(zhì)選擇性經(jīng)過(guò)的淀積掩模110、以及與淀積掩 模110相連接的多邊形框架120。下面將更詳細(xì)地說(shuō)明根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施方式的掩模組件 100。襯底30包括有源區(qū)，在該有源區(qū)中多個(gè)單元呈矩陣布置；有機(jī)物質(zhì)，其淀積在該 有源區(qū)上；以及偽區(qū)，其與該有源區(qū)外部的區(qū)域相對(duì)應(yīng)。在該情況下，掩模組件100的淀積 掩模Iio包括與襯底30的有源區(qū)相對(duì)應(yīng)的孔徑區(qū)。雖然未示出，但該有機(jī)物質(zhì)淀積設(shè)備可 以進(jìn)一步包括用于將位于腔室10內(nèi)的襯底30與掩模組件100彼此對(duì)準(zhǔn)的對(duì)準(zhǔn)器。接著，將根據(jù)圖2至圖4詳細(xì)說(shuō)明根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施方式的掩模組件100和淀積 掩模110。圖2是例示根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施方式的掩模組件的平面圖，圖3是例示圖2中的區(qū) 域A的放大平面圖，圖4是沿著圖3中的B-B ’線(xiàn)截取的截面圖。如圖2所示，根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施方式的掩模組件100包括多個(gè)淀積掩模110，以及 框架120。這里，該多個(gè)淀積掩模110中的每一個(gè)包括與襯底30的有源區(qū)相對(duì)應(yīng)的孔徑區(qū) 111，以及與孔徑區(qū)111外部的區(qū)域相對(duì)應(yīng)的攔截區(qū)112?？蚣?20呈多邊形框架形式(例如 圖2中的矩形框架)?？蚣?20的上端和下端通過(guò)例如焊接而連接至該多個(gè)連續(xù)布置的平 面淀積掩模110。該多個(gè)淀積掩模110在受到預(yù)定張力而伸展開(kāi)的狀態(tài)下連接至框架120。 連接至伸展開(kāi)的淀積掩模110的框架120用于維持對(duì)該多個(gè)淀積掩模110施加的張力，由 此使淀積掩模110保持平面狀。如圖3所示，該多個(gè)淀積掩模110中每一個(gè)的孔徑區(qū)111包括多個(gè)單元圖案113。 該多個(gè)單元圖案113被設(shè)置成分別與布置在襯底30的有源區(qū)中的多個(gè)單元31相對(duì)應(yīng)，從 而產(chǎn)生與該多個(gè)單元31相對(duì)應(yīng)的發(fā)光區(qū)。在該情況下，每個(gè)單元圖案113的寬度X大于相 應(yīng)單元31的寬度。雖然未示出，但考慮到有機(jī)物質(zhì)的壽命或所發(fā)出的顏色的強(qiáng)度，例如與藍(lán)色單元31相對(duì)應(yīng)的單元圖案113的尺寸可以比與綠色單元和紅色單元31相對(duì)應(yīng)的單元 圖案113的尺寸大。該多個(gè)淀積掩模110中每一個(gè)的兩端由于邊緣圖案而具有不對(duì)稱(chēng)的尖截面。在該 情況下，該邊緣圖案可以具有不對(duì)稱(chēng)角形(asymmetric horn-shaped)截面或不對(duì)稱(chēng)箭頭形 截面。該邊緣圖案使得兩個(gè)相鄰淀積掩模110的至少一部分在淀積掩模110之間的邊界處 彼此交疊而不增加厚度。由于相鄰淀積掩模110的至少一部分彼此交疊，因此能夠遮蔽相 鄰淀積掩模110之間的間隙。例如，如圖4所示，彼此相鄰的第一淀積掩模IlOa和第二淀積掩模IlOb被布置成 彼此交疊。具體而言，形成在第一淀積掩模IlOa的一端處的邊緣圖案11 具有如下截面，在 該截面中，形成在上表面的第一扇形與形成在下表面的第二扇形在指向第一淀積掩模IlOa 外部的第一接觸部處彼此交匯。在該情況下，第一扇形具有第一半徑和第一中心角，并且通 過(guò)對(duì)第一淀積掩模IlOa的邊緣的上表面進(jìn)行刻蝕而形成。此外，第二扇形具有比第一半徑 小的第二半徑和比第一中心角小的第二中心角，并且通過(guò)對(duì)第一淀積掩模IlOa的邊緣的 下表面進(jìn)行刻蝕而形成。由于第一扇形和第二扇形具有不同的中心角和不同半徑，因此第一淀積掩模IlOa 的一端具有非對(duì)稱(chēng)角形(或非對(duì)稱(chēng)箭頭形)的截面。在該情況下，第一淀積掩模IlOa的兩 端可以具有不同的截面，或者具有相同的截面。當(dāng)然，應(yīng)注意的是，在一個(gè)淀積掩模的一端 處形成的邊緣圖案的截面不同于在另一個(gè)淀積掩模的相對(duì)端處形成的邊緣圖案的截面，以 使得相鄰淀積掩模的至少一部分能夠彼此交疊。具體而言，形成在與第一淀積掩模IlOa相鄰的第二淀積掩模IlOb的一端處的邊 緣圖案114b具有如下截面，在該截面中，形成在上表面的第三扇形與形成在下表面的第四 扇形在指向第二淀積掩模IlOb外部的第二接觸部處彼此交匯。在該情況下，第三扇形具有 第三半徑和第三中心角，并且通過(guò)對(duì)第二淀積掩模IlOb的邊緣的上表面進(jìn)行刻蝕而形成。 此外，第四扇形具有比第三半徑大的第四半徑和比第三中心角大的第四中心角，并且通過(guò) 對(duì)第二淀積掩模IlOb的邊緣的下表面進(jìn)行刻蝕而形成。由于第三扇形和第四扇形具有不同的中心角和不同的半徑，因此第二淀積掩模 IlOb的一端具有非對(duì)稱(chēng)角形(或非對(duì)稱(chēng)箭頭形)的截面。在該情況下，第二淀積掩模IlOb 的兩端可以形成為具有不同的截面，或者具有相同的截面。當(dāng)然，應(yīng)注意的是，在一個(gè)淀積 掩模的一端處形成的邊緣圖案的截面不同于在另一個(gè)淀積掩模的相對(duì)端處形成的邊緣圖 案的截面，以使得相鄰淀積掩模的至少一部分能夠彼此交疊。具體而言，為了使相鄰淀積掩模的至少一部分能夠彼此交疊，必須將相鄰淀積掩 模的邊緣圖案的接觸部放置在彼此不同的位置處。具體而言，如圖4所示，在第一淀積掩模 IlOa的一端的截面中，第一扇形和第二扇形在位于第一位置的第一接觸部彼此交匯，并且 在第二淀積掩模IlOb的一端的截面中，第三扇形和第四扇形在位于比該第一位置更高的 第二位置處的第二接觸部彼此交匯。這樣，這兩個(gè)接觸部在第一淀積掩模IlOa與第二淀積 研究IlOb之間的邊界處不彼此交匯，因此，兩個(gè)相鄰淀積掩模IlOa和IlOb的至少一部分 可以彼此交疊。下面，將描述形成根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施方式的淀積掩模110的兩端處的邊緣圖案的過(guò)程。圖5是例示根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施方式的形成淀積掩模的邊緣圖案的過(guò)程的圖。首先，制備金屬或塑料薄膜200。接著，執(zhí)行主刻蝕過(guò)程以對(duì)薄膜200的一端的上 表面進(jìn)行刻蝕，從而形成具有第一半徑和第一中心角的第一扇形。接著，執(zhí)行第二刻蝕過(guò) 程以對(duì)薄膜200的該端的下表面進(jìn)行刻蝕，從而形成具有第二半徑和第二中心角的第二扇 形。另外，執(zhí)行第三刻蝕過(guò)程以對(duì)薄膜200的上表面的另一端進(jìn)行刻蝕，從而形成具有第三 半徑和第三中心角的第三扇形。接著，執(zhí)行第四刻蝕過(guò)程以對(duì)薄膜200的下表面的另一端 進(jìn)行刻蝕，從而形成具有第四半徑和第四中心角的第四扇形。可以根據(jù)主刻蝕過(guò)程和第二 刻蝕過(guò)程的刻蝕強(qiáng)度，來(lái)控制第一扇形和第二扇形彼此交匯的第一接觸點(diǎn)。此外，可以根據(jù) 第三刻蝕過(guò)程和第四刻蝕過(guò)程的刻蝕強(qiáng)度，來(lái)控制第三扇形和第四扇形彼此交匯的第二接 觸點(diǎn)。第一接觸點(diǎn)和第二接觸點(diǎn)是非對(duì)稱(chēng)的。主刻蝕過(guò)程至第四刻蝕過(guò)程可以是濕刻蝕過(guò) 程，以確保形成平緩(gentle)的邊緣圖案?？梢酝ㄟ^(guò)調(diào)節(jié)主刻蝕過(guò)程和第二刻蝕過(guò)程中的刻蝕掩模，而與邊緣圖案同時(shí)形成 單元圖案(圖4中的113)。根據(jù)以上描述可知，根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施方式，通過(guò)設(shè)置多個(gè)淀積掩模(每個(gè)淀積 掩模具有相對(duì)小的尺寸和相對(duì)輕的重量)連續(xù)地平行布置的掩模組件，能夠防止淀積掩模 由于重量而導(dǎo)致的凹陷。在該情況下，每個(gè)淀積掩模的兩端由于邊緣圖案而具有非對(duì)稱(chēng)的 箭頭形截面或角形截面，使得連續(xù)布置的相鄰淀積掩模的至少一部分在相鄰淀積掩模之間 的邊界處彼此交疊。因而，能夠遮蔽連續(xù)布置的淀積掩模之間的邊界處的間隙。這使得能 夠根據(jù)設(shè)計(jì)而在襯底上淀積有機(jī)物質(zhì)，由此提高了有機(jī)物質(zhì)的淀積效率和制成的有機(jī)發(fā)光 顯示器的均勻性。對(duì)本領(lǐng)域技術(shù)人員而言明顯的是，在不脫離本發(fā)明的精神或范圍的情況下可以對(duì) 本發(fā)明做出多種修改和變型。因此，本發(fā)明旨在包含落入所附權(quán)利要求書(shū)及其等同物范圍 內(nèi)的對(duì)本發(fā)明的修改和變型。本申請(qǐng)要求2010年1月28日提出的韓國(guó)專(zhuān)利申請(qǐng)No. P2010-0007778的優(yōu)先權(quán)， 以引證方式將其合并于此，如同在此進(jìn)行了充分闡述。
權(quán)利要求
1.一種淀積掩模，該淀積掩模的兩端具有尖的截面，使得當(dāng)該淀積掩模與其他淀積掩 模連續(xù)地平行布置時(shí)，相鄰淀積掩模的至少一部分在所述相鄰淀積掩模之間的邊界處彼此交疊。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的淀積掩模，其中，所述淀積掩模的一端的截面不同于相鄰淀 積掩模的相對(duì)端的截面。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的淀積掩模，其中，所述截面為非對(duì)稱(chēng)角形或非對(duì)稱(chēng)箭頭形。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的淀積掩模，其中，所述截面具有在指向所述淀積掩模的外部 的接觸部彼此交匯的第一扇形和第二扇形，所述第一扇形形成在上表面處并具有第一半徑 和第一中心角，所述第二扇形形成在下表面處并具有不同于所述第一半徑的第二半徑和不 同于所述第一中心角的第二中心角，并且其中，所述淀積掩模的接觸部與相鄰淀積掩模的 接觸部不交匯。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的淀積掩模，其中，所述淀積掩模包括使有機(jī)物質(zhì)通過(guò)的孔徑 區(qū)，以及與所述孔徑區(qū)外部的區(qū)域相對(duì)應(yīng)的攔截區(qū)。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的淀積掩模，其中，所述孔徑區(qū)包括分別與布置在襯底的有源 區(qū)中的多個(gè)單元相對(duì)應(yīng)的多個(gè)單元圖案。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的淀積掩模，其中，各個(gè)單元圖案的寬度大于相對(duì)應(yīng)單元的寬度。
8.根據(jù)權(quán)利要求6或7所述的淀積掩模，其中，與藍(lán)色單元相對(duì)應(yīng)的單元圖案的尺寸大 于與綠色單元或紅色單元相對(duì)應(yīng)的單元圖案的尺寸。
9.一種掩模組件，其包括連續(xù)地平行布置的根據(jù)權(quán)利要求1至8中任意一項(xiàng)所述的多個(gè)淀積掩模；以及 框架，其與所述多個(gè)淀積掩模相連接。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的掩模組件，其中，所述多個(gè)淀積掩模在受到預(yù)定張力而伸展 開(kāi)的狀態(tài)下被連接至所述框架。
11.根據(jù)權(quán)利要求9所述的掩模組件，其中，所述框架為多邊形框架的形式。
12.根據(jù)權(quán)利要求9所述的掩模組件，其中，所述框架通過(guò)焊接而連接至所述多個(gè)淀積掩模。
13.—種制造淀積掩模的方法，其包括以下步驟 淀積膜；對(duì)所述膜的上表面的一端進(jìn)行刻蝕以形成第一扇形； 對(duì)所述膜的下表面的一端進(jìn)行刻蝕以形成第二扇形； 其中，所述第一扇形和所述第二扇形在第一接觸點(diǎn)彼此交匯。
14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的方法，該方法進(jìn)一步包括以下步驟 對(duì)所述膜的所述上表面的另一端進(jìn)行刻蝕以形成第三扇形；對(duì)所述膜的所述下表面的另一端進(jìn)行刻蝕以形成第四扇形； 其中，所述第三扇形和所述第四扇形在第二接觸點(diǎn)彼此交匯； 其中，所述第一接觸點(diǎn)和所述第二接觸點(diǎn)是非對(duì)稱(chēng)的。
全文摘要
本發(fā)明涉及淀積掩模和具有該淀積掩模的掩模組件。本發(fā)明公開(kāi)了一種能夠提高淀積效率的淀積掩模和具有該淀積掩模的掩模組件。所述淀積掩模的兩端具有尖的截面，使得當(dāng)?shù)矸e掩模連續(xù)地平行布置時(shí)，相鄰淀積掩模的至少一部分在所述相鄰淀積掩模之間的邊界處彼此交疊。
文檔編號(hào)C23C14/04GK102140619SQ20101062028
公開(kāi)日2011年8月3日 申請(qǐng)日期2010年12月31日 優(yōu)先權(quán)日2010年1月28日
發(fā)明者樸鐘賢, 李一鉉, 金泰亨 申請(qǐng)人:樂(lè)金顯示有限公司