專利名稱：研磨機(jī)、研磨方法、顯示裝置的制造方法和顯示裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明的實(shí)施例的各方面涉及一種研磨機(jī)和一種使用該研磨機(jī)的研磨方法，更具體地說，涉及一種研磨機(jī)、一種使用該研磨機(jī)的面板的研磨方法、一種使用該研磨方法的顯示面板的制造方法和一種通過該制造方法制造的顯示裝置。
背景技術(shù)：
在顯示裝置中，平板顯示器是輪廓扁平且薄的薄顯示裝置。例如，這樣的平板顯示器包括液晶顯示器、有機(jī)發(fā)光二極管顯示器。平板顯示器包括用于顯示圖像的顯示面板。通常，顯示面板通過將母面板切割成期望尺寸的單元來形成，母面板通過將其上形成有用于圖像顯示的裝置等的上基底和下基底結(jié)合在一起來形成。例如，母面板的切割工藝包括通過切割輪形成切割凹槽的工藝或通過斷裂機(jī)使切斷凹槽斷裂的工藝?？梢酝ㄟ^該切割工藝將具有期望尺寸的顯示面板與母面板分離。然而，在切割表面的邊緣上會(huì)出現(xiàn)水平裂紋或垂直裂紋，并且在形成切割凹槽的部分處會(huì)產(chǎn)生諸如塑性變形的缺陷。為了消除這些缺陷，已經(jīng)想到以切割輪的減小的插入深度進(jìn)行切割的方法；然而， 通過該方法在修補(bǔ)裂紋方面存在局限性。此外，已經(jīng)使用通過具有大晶粒尺寸和高硬度的研磨石(例如鉆石)來研磨切割表面的邊緣的方法來消除缺陷。這可以消除由切割導(dǎo)致的缺陷，但是與研磨之前的表面粗糙度相比，表面粗糙度增大。增大的表面粗糙度導(dǎo)致面板的強(qiáng)度降低。因此，該研磨方法會(huì)不能實(shí)現(xiàn)期望的面板強(qiáng)度。在該背景技術(shù)部分公開的上述信息僅是為了增進(jìn)對(duì)所描述的技術(shù)的背景技術(shù)的理解，因此其可能包含在這個(gè)國家對(duì)本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說已知的、不構(gòu)成現(xiàn)有技術(shù)的信息。

發(fā)明內(nèi)容
根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的一方面，一種研磨機(jī)能夠修補(bǔ)切割表面的邊緣上的裂紋。根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的另一方面，一種顯示面板的研磨方法可以修補(bǔ)切割表面的邊緣上的裂紋，并可以提高面板的強(qiáng)度。根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的進(jìn)一步的各方面，一種液晶顯示器和一種有機(jī)發(fā)光顯示器包括面板的被研磨的切割表面的邊緣，一種液晶顯示器和有機(jī)發(fā)光二極管顯示器的制造方法包括所述面板的切割表面的邊緣的研磨方法。根據(jù)本發(fā)明的示例性實(shí)施例，一種研磨機(jī)包括研磨單元，包括研磨表面；軸，連接到所述研磨單元，用于使所述研磨單元旋轉(zhuǎn)。所述研磨單元包含修補(bǔ)劑和研磨劑的混合物以及聚氨酯甲酸酯，與所述軸的旋轉(zhuǎn)軸垂直的平面和所述研磨表面之間的角度α滿足 1° < α < 7°。在一個(gè)實(shí)施例中，相對(duì)于所述研磨單元的總重量，所述研磨單元包含30重量％至
550重量％的聚氨酯甲酸酯，所述總重量的剩余部分包含所述混合物，相對(duì)于所述混合物的總重量，所述混合物包含作為修補(bǔ)劑的50重量％至60重量％的氧化鈰。所述研磨劑可以包括氧化鋯、碳化硅和氧化鋁中的至少一種。所述研磨表面可以具有多個(gè)孔。根據(jù)本發(fā)明的另一示例性實(shí)施例，一種研磨方法包括使包括研磨單元的研磨機(jī)圍繞軸的旋轉(zhuǎn)軸旋轉(zhuǎn)，所述研磨單元包括研磨表面和連接到所述研磨單元的所述軸；使包括結(jié)合在一起的第一基底和第二基底的面板移動(dòng)至所述研磨機(jī)，并將所述面板的邊緣帶到所述研磨機(jī)的所述研磨表面，以研磨所述邊緣。與所述軸的旋轉(zhuǎn)軸垂直的平面和所述研磨表面之間的角度α滿足1° ^ α ，與所述軸的所述旋轉(zhuǎn)軸垂直的平面和所述面板的外表面之間的角度β滿足10° < β <60°，所述面板的所述外表面與所述面板的切割表面垂直且面對(duì)所述研磨機(jī)的研磨表面。所述研磨機(jī)的旋轉(zhuǎn)速度可以為IOOOrpm至10，OOOrpm，所述面板的移動(dòng)速度可以為0. Im/分鐘至IOm/分鐘。相對(duì)于所述研磨單元的總重量，所述研磨單元可以包含作為粘結(jié)劑的30重量％ 至50重量％的聚氨酯甲酸酯，所述總重量的剩余部分可以包含修補(bǔ)劑和研磨劑的混合物， 其中，相對(duì)于所述混合物的總重量，所述混合物可以包含作為修補(bǔ)劑的50重量％至60重量％的氧化鈰。所述研磨劑可以包括氧化鋯、碳化硅和氧化鋁中的至少一種。所述研磨表面可以具有多個(gè)孔。根據(jù)本發(fā)明的另一示例性實(shí)施例，一種液晶顯示器包括第一基底，包括形成在所述第一基底上的薄膜晶體管；第二基底，面對(duì)所述第一基底并結(jié)合到所述第一基底，且包括形成在所述第二基底上的濾色器。與彼此面對(duì)的所述第一基底和所述第二基底的表面相對(duì)的外表面的至少一個(gè)邊緣包括圓形部分。所述圓形部分的曲率半徑可以是其上設(shè)有所述至少一個(gè)邊緣的所述第一基底或所述第二基底的厚度的1/20至1/5。此外，所述圓形部分的曲率半徑可以為20 μ m至 80 μ m0根據(jù)本發(fā)明的另一示例性實(shí)施例，一種液晶顯示器的制造方法包括在第一基底上形成薄膜晶體管；在第二基底上形成濾色器；通過將所述第一基底和所述第二基底結(jié)合在一起來形成母面板；在所述第一基底和所述第二基底之間注入液晶。所述方法還包括沿所述母面板的單元的邊界進(jìn)行切割，以將面板分離；將所述面板移動(dòng)至研磨機(jī)，并將所述面板的切割表面的至少一個(gè)邊緣帶到所述研磨機(jī)的研磨表面，以研磨所述至少一個(gè)邊緣，所述研磨機(jī)是可旋轉(zhuǎn)的且包括研磨單元，所述研磨單元包括所述研磨表面和連接到所述研磨單元的軸。與所述軸的旋轉(zhuǎn)軸垂直的平面和所述研磨表面之間的角度α滿足 1° ^ α ^ 7°，與所述軸的所述旋轉(zhuǎn)軸垂直的平面和所述面板的外表面之間的角度β滿足10° < β <60°，所述面板的所述外表面與所述面板的切割表面垂直且面對(duì)所述研磨機(jī)的研磨表面。所述研磨機(jī)的所述研磨單元的直徑可以小于將被研磨的所述至少一個(gè)邊緣的長度。根據(jù)本發(fā)明的另一示例性實(shí)施例，一種有機(jī)發(fā)光二極管顯示器包括第一基底，包括形成在所述第一基底上的薄膜晶體管和有機(jī)發(fā)光二極管；第二基底，面對(duì)所述第一基底并結(jié)合到所述第一基底。所述第一基底的與面對(duì)所述第二基底的表面相對(duì)的外表面的至少一個(gè)邊緣包括圓形部分。所述圓形部分的曲率半徑可以為所述第一基底的厚度的1/20至1/5。此外，所述圓形部分的曲率半徑可以為20 μ m至80 μ m。所述第二基底可以包括玻璃，所述第二基底的與面對(duì)所述第一基底的表面相對(duì)的外表面的至少一個(gè)邊緣可以包括圓形部分。所述第二基底可以由包括多個(gè)薄膜的堆疊的封裝層形成。根據(jù)本發(fā)明的另一示例性實(shí)施例，一種有機(jī)發(fā)光二極管顯示器的制造方法包括 在第一基底上順序地形成薄膜晶體管和有機(jī)發(fā)光二極管；通過將第二基底結(jié)合到所述第一基底上來形成母面板。此外，所述方法包括沿所述母面板的單元的邊界進(jìn)行切割，以將面板分離；將所述面板移動(dòng)至研磨機(jī)，并將所述第一基底的切割表面的至少一個(gè)邊緣帶到所述研磨機(jī)的研磨表面，以研磨所述至少一個(gè)邊緣，所述研磨機(jī)是可旋轉(zhuǎn)的且包括研磨單元， 所述研磨單元包括所述研磨表面和連接到所述研磨單元的軸。與所述軸的旋轉(zhuǎn)軸垂直的平面和所述研磨表面之間的角度α滿足1° ^ α ，與所述軸的所述旋轉(zhuǎn)軸垂直的平面和所述面板的外表面之間的角度β滿足10° < β <60°，所述面板的所述外表面與所述面板的切割表面垂直且面對(duì)所述研磨機(jī)的研磨表面。所述研磨機(jī)的所述研磨單元的直徑可以小于所述第一基底的將被研磨的所述至少一個(gè)邊緣的長度。所述第二基底可以包括玻璃，所述第一基底和所述第二基底可以通過施加到所述第一基底或所述第二基底上的密封劑結(jié)合在一起。所述方法還可以包括使所述第二基底的切割表面的至少一個(gè)邊緣接觸所述研磨機(jī)的所述研磨表面，以研磨所述第二基底的所述切割表面的所述至少一個(gè)邊緣。所述研磨機(jī)的所述研磨單元的直徑可以小于所述第二基底的將被研磨的所述至少一個(gè)邊緣的長度。所述第二基底可以由包括多個(gè)有機(jī)膜和無機(jī)膜的堆疊的封裝層形成，所述第一基底和所述第二基底可以通過使用紫外光使所述封裝層固化而結(jié)合在一起。根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的各方面，通過均勻地且有效地研磨面板可以消除或減少在切割面板之后在切割表面的邊緣上產(chǎn)生的諸如裂紋的缺陷。此外，通過減小切割表面的邊緣的表面粗糙度可以保持面板的強(qiáng)度。此外，通過在制造工藝中抑制或減少產(chǎn)品的缺陷可以提高產(chǎn)率。


通過參照附圖詳細(xì)描述本發(fā)明的一些示例性實(shí)施例，本發(fā)明的以上和其它特征及優(yōu)點(diǎn)對(duì)于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說將變得更加明顯。圖1是根據(jù)本發(fā)明示例性實(shí)施例的研磨機(jī)的透視圖。圖2是沿II-II線截取的圖1的研磨機(jī)的剖視圖。圖3是示出了根據(jù)本發(fā)明示例性實(shí)施例的研磨面板的邊緣的工藝的透視圖。圖4Α和圖4Β是示出了如沿圖3的A方向和B方向觀看的研磨面板的邊緣的工藝的側(cè)視圖，圖4C是沿圖3的IV-IV線截取的剖視圖。圖5Α至圖5C是將根據(jù)本發(fā)明示例性實(shí)施例的研磨工藝之后的面板的邊緣與對(duì)比示例的研磨工藝之后的面板的邊緣進(jìn)行比較的照片。圖6A至圖6D是示出了根據(jù)本發(fā)明示例性實(shí)施例的液晶顯示器的制造工藝的示圖。圖7A至圖7D是示出了根據(jù)本發(fā)明示例性實(shí)施例的有機(jī)發(fā)光二極管顯示器的制造工藝的示圖。圖8A至圖8D是示出了根據(jù)本發(fā)明另一示例性實(shí)施例的有機(jī)發(fā)光二極管顯示器的制造工藝的示圖。
具體實(shí)施例方式在下面的詳細(xì)描述中，通過舉例說明的方式示出并描述了本發(fā)明的一些示例性實(shí)施例。本領(lǐng)域技術(shù)人員將認(rèn)識(shí)到，在不脫離本發(fā)明的范圍的情況下，可以以各種方式修改所描述的示例性實(shí)施例。然而，為了理解本發(fā)明并將本發(fā)明的范圍傳達(dá)給本領(lǐng)域技術(shù)人員，這些示例性實(shí)施例是通過示例的方式提供的。在一些示例性實(shí)施例的以下描述中且在附圖中，相同的標(biāo)號(hào)始終指示相同的元件。此外，為了清楚和便于描述，可以示出在附圖中示出的一些組件的尺寸和/或厚度，本發(fā)明不限于在附圖中示出的尺寸和/或厚度。此外，在附圖中，為了清楚起見，可以夸大層、 區(qū)域等的尺寸和/或厚度。另外，應(yīng)當(dāng)理解的是，當(dāng)將諸如層、膜、區(qū)域或基底的元件稱作 “在”另一元件“上”時(shí)，該元件可以直接在另一元件上，或者也可以存在中間元件。圖1是根據(jù)本發(fā)明示例性實(shí)施例的研磨機(jī)的透視圖，圖2是沿II-II線截取的圖 1的研磨機(jī)的剖視圖。將參照這些附圖描述根據(jù)示例性實(shí)施例的研磨機(jī)。根據(jù)示例性實(shí)施例的研磨機(jī)10包括研磨單元11和軸13。研磨單元11包括用于直接接觸將被研磨的對(duì)象且充分地研磨該對(duì)象的研磨表面Ila和在內(nèi)部形成的通常為圓柱形的凹槽lib。軸13將扭矩傳遞到研磨單元11，從而能夠使研磨表面Ila通過高速旋轉(zhuǎn)執(zhí)行研磨操作。具體地說，軸13連接到由外部電源驅(qū)動(dòng)的電機(jī)(未示出)，并且旋轉(zhuǎn)，因此將扭矩傳遞到研磨單元11。參照?qǐng)D2，示例性實(shí)施例中的研磨表面1 Ia不是平面的，而是相對(duì)于與旋轉(zhuǎn)軸AX正交或垂直的平面VP以特定的角度傾斜。即，示例性實(shí)施例中的研磨單元11的端部具有通常為圓錐形的形狀，其中，研磨表面Ila是傾斜的。這在研磨操作期間在將被研磨的對(duì)象和研磨表面Ila之間提供了均勻的或基本上均勻的接觸，因此提高了研磨效率和產(chǎn)品產(chǎn)率， 稍后將對(duì)此詳細(xì)地進(jìn)行描述。這樣，在示例性實(shí)施例中，從研磨表面Ila延伸的斜面SP相對(duì)于與旋轉(zhuǎn)軸AX垂直的平面VP具有預(yù)定的角度α。斜面SP和平面VP之間的角度α具有在Γ至7°的范圍內(nèi)的值。如果角度α小于1°，則研磨表面Ila具有接近于平面的形狀，從而會(huì)在早期階段使研磨表面Ila的內(nèi)部磨損，并且會(huì)在那里形成階梯部分。如果角度α超過7°，則研磨的均勻性會(huì)劣化。因此，在示例性實(shí)施例中，斜面SP和平面VP之間的角度α在Γ和7°之間。在一個(gè)實(shí)施例中，研磨單元11由通過將修補(bǔ)劑和研磨劑的混合物與粘結(jié)劑混合所制備的材料來形成。在示例性實(shí)施例中，使用聚氨酯甲酸酯作為粘結(jié)劑。因?yàn)橥ㄟ^使用聚氨酯甲酸酯作為粘結(jié)劑可以在研磨表面Ila中形成孔，所以可以獲得較軟材料的研磨表
8面11a。因此，可以避免當(dāng)由鉆石形成研磨機(jī)時(shí)因高硬度而由研磨引起的粗糙剖面的問題?？梢砸?0重量％至50重量％包含由聚氨酯甲酸酯形成的粘結(jié)劑。在示例性實(shí)施例中，研磨單元11由30重量％至50重量％的聚氨酯甲酸酯形成，剩余部分包括修補(bǔ)劑和研磨劑的混合物。用于修補(bǔ)將被研磨的對(duì)象的裂紋等的修補(bǔ)劑可以是氧化鈰(CeO2)。此外，將被混合以提高研磨效果的研磨劑可以包括氧化鋯(ZrO2)、碳化硅(SiC)和氧化鋁(Al2O3)中的至少一種。在示例性實(shí)施例中，修補(bǔ)劑和研磨劑的混合物包括50重量％至60重量％的修補(bǔ)劑，即，氧化鈰。此外，可以將用作研磨劑的氧化鋯、碳化硅和氧化鋁混合在一起，例如，每一種為10重量％或更多。這樣，通過與包含聚氨酯甲酸酯的粘結(jié)劑一起使用包含氧化鈰的修補(bǔ)劑和包含氧化鋯的研磨劑，可以修補(bǔ)裂紋，可以獲得足夠的研磨效果，并可以形成由于孔而具有軟度的研磨單元11。圖3是示出了根據(jù)本發(fā)明示例性實(shí)施例的研磨面板的邊緣的工藝的透視圖，圖4A 和圖4B是如沿圖3的A方向和B方向觀看的側(cè)視圖，圖4C是沿圖3的IV-IV線截取的剖視圖?，F(xiàn)在將參照這些附圖描述根據(jù)本發(fā)明示例性實(shí)施例的研磨方法。參照?qǐng)D3，在示例性實(shí)施例中，通過將具有結(jié)合在一起的上基底21和下基底23的母面板切割成單元來形成面板20，將面板20移動(dòng)至圍繞旋轉(zhuǎn)軸AX以高速旋轉(zhuǎn)的研磨機(jī) 10，并且面板20經(jīng)歷研磨工藝。根據(jù)示例性實(shí)施例，研磨機(jī)10具有上面參考圖1和圖2描述的形狀和材料。即，研磨表面相對(duì)于與旋轉(zhuǎn)軸AX垂直的平面以1°至7°的角度α傾斜，研磨單元由包含聚氨酯甲酸酯的粘結(jié)劑、包含氧化鈰的修補(bǔ)劑和包含氧化鋯的研磨劑形成。如上所述，研磨機(jī)10的研磨表面相對(duì)于與旋轉(zhuǎn)軸AX垂直的平面以預(yù)定的角度α 傾斜，由此使得研磨表面和面板20的邊緣僅在相對(duì)于研磨表面的中心的一側(cè)彼此直接接觸。參照?qǐng)D4Α至圖4C，因?yàn)檠心C(jī)10的研磨表面相對(duì)于與旋轉(zhuǎn)軸AX正交或垂直的平面VP 形成具有預(yù)定角度α的斜面SP，所以研磨表面具有接觸部分CP，隨著面板20移動(dòng)，接觸部分CP使面板20的邊緣和研磨表面僅在研磨單元的一側(cè)彼此接觸。研磨機(jī)10圍繞旋轉(zhuǎn)軸 AX旋轉(zhuǎn)，因此研磨面板20的接觸研磨機(jī)10的邊緣，由此使得研磨表面在接觸部分CP處與面板20的邊緣基本上均勻接觸。在具有形成為與旋轉(zhuǎn)軸垂直的平面的研磨表面的研磨機(jī)的情況下，與在上面描述的研磨機(jī)10中不同，隨著面板移動(dòng)，面板的邊緣移動(dòng)至平面的研磨表面。因此，在相對(duì)于研磨表面的中心的兩側(cè)形成接觸部分，因此同時(shí)對(duì)兩側(cè)進(jìn)行研磨。在這種情況下，過度的負(fù)荷會(huì)被施加到研磨表面的內(nèi)部，因此，研磨表面的內(nèi)部會(huì)首先被磨損，并且會(huì)形成階梯部分。 在形成階梯部分的情況下，需要用于使研磨表面平坦化的工藝。此外，因?yàn)樵谙鄬?duì)于研磨表面的中心具有不同旋轉(zhuǎn)方向的兩側(cè)上同時(shí)進(jìn)行研磨，所以會(huì)在面板的邊緣上形成不規(guī)則性。通過對(duì)比，使用根據(jù)上述示例性實(shí)施例的研磨機(jī)10，因?yàn)檠心C(jī)10的研磨表面形成有斜面SP，所以可以在研磨表面上均勻地進(jìn)行研磨操作。因此，可以避免在研磨表面的特定位置處形成階梯部分的問題。此外，因?yàn)閮H在研磨表面的一側(cè)發(fā)生接觸，所以沿不變的方向執(zhí)行研磨操作，由此可以抑制或減少面板的邊緣上的不規(guī)則性的問題。因此，可以延長研磨機(jī)的壽命，并且可以通過減少缺陷來提高產(chǎn)品的產(chǎn)率。另外，在研磨單元的中心處形成通常為圓柱形的凹槽，這防止或基本上防止了在研磨操作期間施加過度的負(fù)荷。雖然在圖4A和圖4B中示出關(guān)于上基底21和下基底23通過密封構(gòu)件25結(jié)合在一起的結(jié)構(gòu)，但是本發(fā)明的實(shí)施例不應(yīng)解釋為局限于此，而是相反， 上基底21和下基底23可以以各種方式結(jié)合在一起。在示例性實(shí)施例中，參照?qǐng)D4B，面板20移向研磨機(jī)10，使得與研磨機(jī)10的旋轉(zhuǎn)軸 AX正交或垂直的平面VP相對(duì)于具有將被研磨的邊緣的面板20的頂表面具有預(yù)定的角度 β。如果與旋轉(zhuǎn)軸AX垂直的平面VP和面板20的頂表面之間的角度β小于10°，則研磨機(jī)10的研磨表面被過多地磨損，并且過度的壓力施加到面板20的頂表面，從而會(huì)在研磨工藝中產(chǎn)生缺陷。另一方面，如果角度β超過60°，則會(huì)研磨除了期望被研磨的面板20的頂表面的邊緣之外的其它部分。因此，在示例性實(shí)施例中，與旋轉(zhuǎn)軸AX正交或垂直的平面VP 和面板20的頂表面之間的角度β可以在10°和60°之間。在示例性實(shí)施例中，研磨機(jī)10以高速旋轉(zhuǎn)，從而實(shí)現(xiàn)充分的研磨，而面板20以低速移動(dòng)。在示例性實(shí)施例中，考慮到研磨效率，研磨機(jī)10的旋轉(zhuǎn)速度和面板20的移動(dòng)速度可以在預(yù)定范圍內(nèi)。如果研磨機(jī)10的旋轉(zhuǎn)速度小于lOOOrpm，則面板20的邊緣部分不會(huì)被充分地研磨。另一方面，如果研磨機(jī)10的旋轉(zhuǎn)速度超過10，OOOrpm，則由于高旋轉(zhuǎn)速度會(huì)產(chǎn)生振動(dòng)， 由此難以執(zhí)行均勻的研磨。因此，在示例性實(shí)施例中，研磨機(jī)10的旋轉(zhuǎn)速度在IOOOrpm和 10，OOOrpm 之間。在示例性實(shí)施例中，面板20的移動(dòng)速度在0. Im/分鐘至IOm/分鐘的范圍內(nèi)。通常，面板20的移動(dòng)速度越小，研磨就更加充分和均勻。然而，如果面板20的移動(dòng)速度小于 0. Im/分鐘，則會(huì)難以控制研磨工藝，并且由于低處理速度會(huì)降低生產(chǎn)產(chǎn)率。相反，如果面板 20的移動(dòng)速度超過IOm/分鐘，則將不能獲得充分的研磨，因此，會(huì)降低研磨效率，并且會(huì)產(chǎn)生缺陷。這樣，在示例性實(shí)施例中，考慮到研磨效率、處理速度等，研磨機(jī)10的旋轉(zhuǎn)速度和面板20的移動(dòng)速度可以選擇為以上定義的范圍內(nèi)的期望值。圖5A至圖5C是將根據(jù)本發(fā)明示例性實(shí)施例的研磨工藝之后的面板的邊緣與對(duì)比示例的研磨工藝之后的面板的邊緣進(jìn)行比較的照片。將參照這些照片描述根據(jù)示例性實(shí)施例的研磨機(jī)和使用該研磨機(jī)的研磨方法的效果。圖5A是示出了面板的一個(gè)切割表面的放大照片，如下獲得所述面板的所述一個(gè)切割表面通過切割輪在具有結(jié)合在一起的上基底和下基底的母面板上形成切割凹槽；使切割凹槽和切割表面的邊緣部分?jǐn)嗔巡⑦M(jìn)行切割。由此，可以看出在形成切割凹槽并使切割凹槽斷裂的邊緣部分上形成多個(gè)不規(guī)則缺陷(例如裂紋)。圖5B是示出了切割表面的放大照片，在通過由鉆石制成的研磨石研磨圖5A的切割表面的邊緣和切割表面的邊緣部分之后獲得所述切割表面，由此可以看出，看得見的裂紋與圖5A的裂紋相比要少，但是表面粗糙度增大。表面粗糙度的增大導(dǎo)致基底的強(qiáng)度劣化，因此，使用由鉆石制成的研磨石的研磨工藝可以帶來基底或面板的強(qiáng)度劣化的問題。圖5C是示出了切割表面的放大照片，在切割母面板并由根據(jù)本發(fā)明示例性實(shí)施例的研磨機(jī)研磨面板的切割表面的邊緣和切割表面的邊緣部分之后獲得所述切割表面。在由根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的研磨機(jī)研磨面板的邊緣之后，消除或減少了諸如裂紋的不規(guī)則缺陷，另外，與使用由鉆石制成的研磨石的研磨操作不同，沒有增大表面粗糙度。由此可以看出，可以通過形成根據(jù)示例性實(shí)施例的研磨機(jī)獲得上述效果具有研磨表面具有斜面且相對(duì)于由鉆石制成的研磨石通過包含聚氨酯甲酸酯、氧化鈰和研磨劑由軟材料制成的結(jié)構(gòu)。可以通過切割輪在兩個(gè)基底上形成切割凹槽，然后使切割凹槽斷裂來執(zhí)行面板切割工藝，由此切割表面的不接觸切割輪的內(nèi)邊緣部分基本上垂直于面板的頂表面和底表面。因此，在切割表面的內(nèi)邊緣上沒有產(chǎn)生諸如裂紋的缺陷，因此，可以不需要單獨(dú)的研磨操作。雖然在照片中未示出，但是面板的厚度越小，對(duì)于由切割引起的諸如裂紋的缺陷， 面板就越容易碎。因此，對(duì)于與大尺寸面板相比具有相對(duì)小厚度的中等和小尺寸面板，可以預(yù)計(jì)根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的研磨機(jī)和研磨方法的效果更好。在下文中，將描述通過使用根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的研磨機(jī)和使用該研磨機(jī)的研磨方法而形成的各種平板顯示器及其制造方法。圖6A至圖6D示出了根據(jù)本發(fā)明示例性實(shí)施例的液晶顯示器的制造工藝。將參照?qǐng)D6A至圖6D描述根據(jù)示例性實(shí)施例的液晶顯示器及其制造方法。根據(jù)示例性實(shí)施例的液晶顯示器的液晶顯示面板包括其上形成有薄膜晶體管TFT 的TFT基底110和其上形成有濾色器CF的CF基底120。圖6A示出了 TFT基底110和CF 基底120的顯示區(qū)域的放大部分。參照?qǐng)D6A，在TFT基底110上順序地形成柵電極111、柵極絕緣層112、半導(dǎo)體層113和阻抗接觸層114。此外，在阻抗接觸層114上形成源電極115 和漏電極116，在源電極115和漏電極116上形成保護(hù)層117，在保護(hù)層117上形成像素電極 118，并將像素電極118連接到漏電極116。此外，在CF基底120上形成濾色器(未示出) 和用于將電壓施加到CF基底120的共電極121。另外，為了舉例說明的目的，將上面描述的液晶顯示面板的內(nèi)部結(jié)構(gòu)示為一個(gè)示例，本發(fā)明的范圍不限于該內(nèi)部結(jié)構(gòu)，并可以應(yīng)用于具有以不同方式修改的結(jié)構(gòu)的液晶顯示面板。在如上制備了 TFT基底110和CF基底120之后，通過將密封劑施加到位于CF基底120的顯示區(qū)域外部的非顯示區(qū)域上并將基底110、120結(jié)合在一起來形成母面板。然后， 通過UV光曝光等使密封劑固化，以形成密封構(gòu)件130，在TFT基底110和CF基底120之間注入液晶。參照?qǐng)D6B，使用切割輪30沿母面板上的單元的邊界形成切割凹槽，并使切割凹槽斷裂，由此將面板分離。根據(jù)該工藝，可以在TFT基底110和CF基底120中的至少一個(gè)上形成切割凹槽。雖然已經(jīng)關(guān)于相鄰于單元的邊界形成密封構(gòu)件130的情況描述了示例性實(shí)施例，但是密封構(gòu)件130可以形成為跨過兩個(gè)相鄰的單元，從而與單元的邊界疊置。在這種情況下，通過切割密封構(gòu)件的頂部以形成切割凹槽并使切割凹槽斷裂來執(zhí)行切割母面板以使面板分離的工藝。參照?qǐng)D6C，切割母面板以使面板分離，然后使用研磨機(jī)10來研磨切割表面的邊緣。在圖6C中示出的研磨機(jī)10的形狀和材料與上面參考圖1和圖2描述的研磨機(jī)的形狀和材料相同。雖然在一個(gè)示例性實(shí)施例中，為了容易地控制研磨工藝，研磨機(jī)10包括直徑比面板的一側(cè)的長度小的研磨單元，但是本發(fā)明的實(shí)施例不限于此，根據(jù)面板的期望尺寸和其它工藝條件，可以改變研磨機(jī)和面板的相對(duì)尺寸。
不需要研磨切割表面的TFT基底110和CF基底120彼此相鄰的內(nèi)邊緣，因?yàn)槟抢镄纬傻闹T如裂紋的缺陷并不是顯著問題。需要研磨TFT基底110和CF基底120的切割表面的外邊緣，以消除諸如裂紋的缺陷，并提高強(qiáng)度。因此，在示例性實(shí)施例中，沿TFT基底110 和CF基底120的切割表面的外邊緣執(zhí)行研磨操作。在示例性實(shí)施例中，可以選擇性地研磨 TFT基底110和CF基底120的切割表面的外邊緣中的諸如裂紋的缺陷是顯著問題的邊緣， 因此，可以研磨一個(gè)至八個(gè)邊緣。通過如上所述使用研磨機(jī)10執(zhí)行研磨操作，完成了液晶顯示面板的制造，然后將印刷電路板、背光組件和含有背光組件的模具框架結(jié)合到液晶顯示面板，由此獲得根據(jù)本發(fā)明示例性實(shí)施例的液晶顯示器。如圖6D所示，在被研磨的外邊緣上形成圓形部分R。在示例性實(shí)施例中，圓形部分的曲率半徑的值為其上形成有圓形部分R的基底的厚度的1/20至1/5。如這里定義的，描述圓形部分R時(shí)的術(shù)語“圓形”包括圓形或橢圓形輪廓的剖面或具有三條或更多條直線的多邊形輪廓的剖面。也就是說，圓形部分的形成包括平坦表面形成并連接在兩個(gè)相鄰的平面之間的情況以及曲線形成在兩個(gè)相鄰的平面之間的情況。此外，如這里使用的，圓形部分 R的“曲率半徑”是指當(dāng)剖面為圓形或橢圓形時(shí)剖面的曲率半徑，并且是指當(dāng)剖面為多邊形時(shí)同時(shí)接觸三條邊或更多條邊的橢圓或圓的曲率半徑。根據(jù)上面描述的液晶顯示器的制造方法，通過使用研磨機(jī)10研磨切割表面的邊緣，可以消除或減少由切割引起的在邊緣部分上產(chǎn)生的諸如裂紋的缺陷，并可以提高面板的強(qiáng)度。此外，面板的厚度越小，對(duì)于由切割引起的諸如裂紋的缺陷，面板越容易受到影響。 因此，對(duì)于中等或小尺寸的面板，可以預(yù)計(jì)更好的效果。圖7A至圖7D示出了根據(jù)本發(fā)明示例性實(shí)施例的有機(jī)發(fā)光二極管顯示器的制造工藝?，F(xiàn)在將參照?qǐng)D7A至圖7D描述根據(jù)示例性實(shí)施例的有機(jī)發(fā)光二極管顯示器及其制造方法。根據(jù)示例性實(shí)施例的有機(jī)發(fā)光二極管顯示器的有機(jī)發(fā)光顯示面板包括其上形成有薄膜晶體管和有機(jī)發(fā)光二極管230的顯示基底210以及面對(duì)顯示基底210的封裝基底 2400圖7A示出了顯示基底210的顯示區(qū)域的放大部分。參照?qǐng)D7A，在顯示基底210上順序地形成緩沖層211、驅(qū)動(dòng)半導(dǎo)體層213、柵極絕緣層215、柵電極217和層間絕緣層219，在層間絕緣層219上形成源電極221和漏電極223，并且源電極221和漏電極223分別連接到驅(qū)動(dòng)半導(dǎo)體層213的源區(qū)和漏區(qū)，由此形成薄膜晶體管。在層間絕緣層219、源電極221 和漏電極223上形成平坦化層225和像素限定層227，在平坦化層225上順序地形成將通過接觸孔連接到漏電極223的像素電極231、有機(jī)發(fā)射層233和共電極235，由此形成有機(jī)發(fā)光二極管230。根據(jù)有機(jī)發(fā)光二極管顯示器的驅(qū)動(dòng)方法，像素電極231可以是正極，共電極235可以是負(fù)極，或反之亦然。另外，為了舉例說明的目的，將上面描述的有機(jī)發(fā)光顯示面板的內(nèi)部結(jié)構(gòu)示為一個(gè)示例，本發(fā)明的范圍不限于該內(nèi)部結(jié)構(gòu)，并可以應(yīng)用于具有以不同方式修改的結(jié)構(gòu)的有機(jī)發(fā)光顯示面板。在如上所述制備了其上形成有薄膜晶體管和有機(jī)發(fā)光二極管230的顯示基底210 以及由玻璃制成的封裝基底240之后，通過將密封劑施加到兩個(gè)基底中的至少一個(gè)并將兩個(gè)基底210、240結(jié)合在一起來形成母面板。然后，通過UV光曝光等使密封劑固化，從而形成密封構(gòu)件250。
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在將顯示基底210和封裝基底240結(jié)合在一起之后，通過與上面描述的液晶顯示器的制造工藝相似的方法來分離和研磨面板。參照?qǐng)D7B，在將顯示基底210和封裝基底240結(jié)合在一起之后，使用切割輪30沿母面板上的單元的邊界形成切割凹槽，并使切割凹槽斷裂，由此將面板分離。根據(jù)該工藝， 可以在顯示基底210和封裝基底240中的至少一個(gè)上形成切割凹槽。雖然已經(jīng)關(guān)于相鄰于單元的邊界形成密封構(gòu)件250的情況描述了示例性實(shí)施例，但是密封構(gòu)件250可以形成為跨過兩個(gè)相鄰的單元，從而與單元的邊界疊置。在這種情況下，通過切割密封構(gòu)件的頂部以形成切割凹槽并使切割凹槽斷裂來執(zhí)行切割母面板以使面板分離的工藝。參照?qǐng)D7C，切割母面板以使面板分離，然后使用研磨機(jī)10研磨切割表面的邊緣。 研磨機(jī)10的形狀和材料與上面參考圖1和圖2描述的研磨機(jī)的形狀和材料相同。雖然在示例性實(shí)施例中，為了容易地控制研磨工藝，研磨機(jī)10包括直徑比面板的一側(cè)的長度小的研磨單元，但是本發(fā)明的實(shí)施例不限于此，根據(jù)面板的期望尺寸和其它工藝條件，可以改變研磨機(jī)和面板的相對(duì)尺寸。如上面關(guān)于液晶顯示面板所述，不需要研磨切割表面的顯示基底210和封裝基底 240彼此相鄰的內(nèi)邊緣，因?yàn)槟抢镄纬傻闹T如裂紋的缺陷并不是顯著問題。然而，需要研磨顯示基底210和封裝基底240的切割表面的外邊緣，以消除或減少諸如裂紋的缺陷，并提高強(qiáng)度。因此，在示例性實(shí)施例中，沿顯示基底210和封裝基底240的切割表面的外邊緣執(zhí)行研磨操作。在示例性實(shí)施例中，可以選擇性地研磨顯示基底210和封裝基底MO的切割表面的外邊緣中的諸如裂紋的缺陷是顯著問題的邊緣，因此，可以研磨一個(gè)至八個(gè)邊緣。通過如上所述使用研磨機(jī)10執(zhí)行研磨操作，完成了有機(jī)發(fā)光顯示面板的制造，然后將印刷電路板、框架等結(jié)合到有機(jī)發(fā)光顯示面板，由此獲得根據(jù)本發(fā)明示例性實(shí)施例的有機(jī)發(fā)光顯示器。如圖7D所示，在使用研磨機(jī)10研磨的外邊緣上形成圓形部分R。在示例性實(shí)施例中，圓形部分的曲率半徑的值為其上形成有圓形部分R的基底的厚度的1/20至1/5。根據(jù)示例性實(shí)施例的有機(jī)發(fā)光二極管顯示器的制造方法，通過使用研磨機(jī)10研磨切割表面的邊緣，可以消除或減少由切割引起的在邊緣部分上產(chǎn)生的諸如裂紋的缺陷， 并可以提高面板的強(qiáng)度。此外，面板的厚度越小，對(duì)于由切割引起的諸如裂紋的缺陷，面板越容易受到影響。因此，對(duì)于中等或小尺寸的面板，可以預(yù)計(jì)更好的效果。圖8A至圖8D示出了根據(jù)本發(fā)明另一示例性實(shí)施例的有機(jī)發(fā)光二極管顯示器的制造工藝。現(xiàn)在將參照?qǐng)D8A至圖8D描述根據(jù)另一示例性實(shí)施例的有機(jī)發(fā)光二極管顯示器及其制造方法。根據(jù)另一示例性實(shí)施例的有機(jī)發(fā)光二極管顯示器的有機(jī)發(fā)光顯示面板的結(jié)構(gòu)與圖7A至圖7D的有機(jī)發(fā)光顯示面板的結(jié)構(gòu)類似。即，參照?qǐng)D8A，在顯示基底310上順序地形成緩沖層311、驅(qū)動(dòng)半導(dǎo)體層313、柵極絕緣層315、柵電極317和層間絕緣層319，在層間絕緣層319上形成源電極321和漏電極323，并且源電極321和漏電極323分別連接到驅(qū)動(dòng)半導(dǎo)體層313的源區(qū)和漏區(qū)，由此形成薄膜晶體管。在層間絕緣層319、源電極321和漏電極 323上形成平坦化層325和像素限定層327，在平坦化層325上順序地形成將通過接觸孔連接到漏電極323的像素電極331、有機(jī)發(fā)射層333和共電極335，由此形成有機(jī)發(fā)光二極管 330。另外，為了舉例說明的目的，將上面描述的有機(jī)發(fā)光顯示面板的內(nèi)部結(jié)構(gòu)示為一個(gè)示例，本發(fā)明的范圍不限于該內(nèi)部結(jié)構(gòu)，并可以應(yīng)用于具有以不同方式修改的結(jié)構(gòu)的有機(jī)發(fā)光顯示面板。根據(jù)示例性實(shí)施例的有機(jī)發(fā)光顯示面板具有包括有機(jī)膜340a和無機(jī)膜340b的堆疊的封裝層340，封裝層340形成為用于密封顯示基底310的結(jié)構(gòu)。具體地說，在一個(gè)實(shí)施例中，有機(jī)膜340a由紫外光固化材料形成，并且堆疊有機(jī)膜340a和無機(jī)膜340b，然后通過紫外光照射使有機(jī)膜340a固化，由此形成封裝層340。因此，可以在有機(jī)發(fā)光二極管330和封裝層340之間進(jìn)一步形成紫外光阻擋膜，從而防止或基本上防止由紫外光照射引起的有機(jī)發(fā)光二極管顯示器的特性變化。此外，雖然已經(jīng)關(guān)于有機(jī)膜340a和無機(jī)膜340b的雙層結(jié)構(gòu)的示例描述了示例性實(shí)施例，但是本發(fā)明的實(shí)施例不限于此，而是相反，本發(fā)明的實(shí)施例可以具有多個(gè)有機(jī)膜和無機(jī)膜堆疊的兩層或更多層的多層結(jié)構(gòu)。在將封裝層340結(jié)合到顯示基底310上之后，通過與上面參考圖7A至圖7D描述的液晶顯示器的制造工藝類似的方法分離和研磨面板。參照?qǐng)D8B，在將封裝層340結(jié)合到顯示基底310上之后，使用切割輪30沿母面板上的單元的邊界形成切割凹槽，并使切割凹槽斷裂，由此將面板分離。此時(shí)，沿顯示基底310 上的單元的邊界形成切割凹槽。參照?qǐng)D8C，切割母面板以使面板分離，然后使用研磨機(jī)10研磨切割表面的邊緣。 研磨機(jī)10的形狀和材料與上面參考圖1和圖2描述的研磨機(jī)的形狀和材料相同。雖然在示例性實(shí)施例中，為了容易地控制研磨工藝，研磨機(jī)10包括直徑比面板的一側(cè)的長度小的研磨單元，但是本發(fā)明的實(shí)施例不限于此，根據(jù)面板的期望尺寸和其它工藝條件，可以改變研磨機(jī)和面板的相對(duì)尺寸。在示例性實(shí)施例中，通過堆疊有機(jī)膜340a和無機(jī)膜340b形成封裝層340，從而不需要研磨切割表面的邊緣中的封裝層340上的邊緣，因?yàn)樵谀抢镄纬傻闹T如裂紋的缺陷不是顯著問題。然而，需要研磨顯示基底310的切割表面的邊緣，從而消除諸如裂紋的缺陷， 并提高強(qiáng)度，因此，沿顯示基底310的切割表面的邊緣執(zhí)行研磨操作。在示例性實(shí)施例中， 可以選擇性地研磨顯示基底310的切割表面的邊緣中的諸如裂紋的缺陷是顯著問題的邊緣，因此，可以研磨一個(gè)至四個(gè)邊緣。通過如上所述使用研磨機(jī)10執(zhí)行研磨操作，完成了有機(jī)發(fā)光顯示面板的制造，然后將印刷電路板、框架等結(jié)合到有機(jī)發(fā)光顯示面板，由此獲得根據(jù)本發(fā)明示例性實(shí)施例的有機(jī)發(fā)光二極管顯示器。如圖8D所示，在使用研磨機(jī)10研磨的顯示基底310的邊緣上形成圓形部分R。在示例性實(shí)施例中，圓形部分的曲率半徑的值為其上形成有圓形部分R的基底的厚度的1/20 至 1/5。根據(jù)上面描述的有機(jī)發(fā)光二極管顯示器的制造方法，通過使用研磨機(jī)10研磨顯示基底310的切割表面的邊緣，可以消除或減少由切割引起的在邊緣部分上產(chǎn)生的諸如裂紋的缺陷，并可以提高面板的強(qiáng)度。此外，面板的厚度越小，對(duì)于由切割引起的諸如裂紋的缺陷，面板越容易受到影響。因此，對(duì)于中等或小尺寸的面板，可以預(yù)計(jì)更好的效果。雖然已經(jīng)結(jié)合特定的示例性實(shí)施例示出并描述了本發(fā)明，但是本發(fā)明不限于這些示例性實(shí)施例。雖然結(jié)合目前被視為在一定程度上為示例性的實(shí)施例的內(nèi)容描述了本公開，但應(yīng)
14當(dāng)理解，本發(fā)明不限于所公開的實(shí)施例，而是相反，本發(fā)明意在覆蓋包括在權(quán)利要求的范圍內(nèi)的各種修改和等同布置。
權(quán)利要求
1.一種研磨機(jī)，所述研磨機(jī)包括 研磨單元，包括研磨表面；軸，連接到所述研磨單元，用于使所述研磨單元旋轉(zhuǎn)， 其中，所述研磨單元包含修補(bǔ)劑和研磨劑的混合物以及聚氨酯甲酸酯， 其中，與所述軸的旋轉(zhuǎn)軸垂直的平面和所述研磨表面之間的角度α滿足 1° < α < 7°。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的研磨機(jī)，其中，相對(duì)于所述研磨單元的總重量，所述研磨單元包含30重量％至50重量％的聚氨酯甲酸酯，所述總重量的剩余部分包含所述混合物， 相對(duì)于所述混合物的總重量，所述混合物包含作為修補(bǔ)劑的50重量％至60重量％的氧化鈰。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的研磨機(jī)，其中，所述研磨劑包括氧化鋯、碳化硅和氧化鋁中的至少一種。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的研磨機(jī)，其中，所述研磨表面具有多個(gè)孔。
5.一種研磨方法，所述研磨方法包括使包括研磨單元的研磨機(jī)圍繞軸的旋轉(zhuǎn)軸旋轉(zhuǎn)，所述研磨單元包括研磨表面和連接到所述研磨單元的所述軸；使包括結(jié)合在一起的第一基底和第二基底的面板移動(dòng)至所述研磨機(jī)，并將所述面板的邊緣帶到所述研磨機(jī)的所述研磨表面，以研磨所述邊緣，其中，與所述軸的旋轉(zhuǎn)軸垂直的平面和所述研磨表面之間的角度α滿足 1° ^ α ，與所述軸的所述旋轉(zhuǎn)軸垂直的平面和所述面板的外表面之間的角度β滿足10° < β <60°，所述面板的所述外表面與所述面板的切割表面垂直且面對(duì)所述研磨機(jī)的研磨表面。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的研磨方法，其中，所述研磨機(jī)的旋轉(zhuǎn)速度為IOOOrpm至 10，OOOrpm0
7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的研磨方法，其中，所述面板的移動(dòng)速度為0.Im/分鐘至IOm/ 分鐘。
8.根據(jù)權(quán)利要求5所述的研磨方法，其中，相對(duì)于所述研磨單元的總重量，所述研磨單元包含作為粘結(jié)劑的30重量％至50重量％的聚氨酯甲酸酯，所述總重量的剩余部分包含修補(bǔ)劑和研磨劑的混合物，其中，相對(duì)于所述混合物的總重量，所述混合物包含作為修補(bǔ)劑的50重量％至60重量％的氧化鈰。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的研磨方法，其中，所述研磨劑包括氧化鋯、碳化硅和氧化鋁中的至少一種。
10.根據(jù)權(quán)利要求5所述的研磨方法，其中，所述研磨表面具有多個(gè)孔。
11.一種液晶顯示器，所述液晶顯示器包括第一基底，包括形成在所述第一基底上的薄膜晶體管；第二基底，面對(duì)所述第一基底并結(jié)合到所述第一基底，且包括形成在所述第二基底上的濾色器，其中，與彼此面對(duì)的所述第一基底和所述第二基底的表面相對(duì)的外表面的至少一個(gè)邊緣包括圓形部分。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的液晶顯示器，其中，所述圓形部分的曲率半徑是其上設(shè)有所述至少一個(gè)邊緣的所述第一基底或所述第二基底的厚度的1/20至1/5。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的液晶顯示器，其中，所述圓形部分的曲率半徑為20μ m至 80 μ m0
14.一種液晶顯示器的制造方法，所述方法包括 在第一基底上形成薄膜晶體管；在第二基底上形成濾色器；通過將所述第一基底和所述第二基底結(jié)合在一起來形成母面板； 在所述第一基底和所述第二基底之間注入液晶； 沿所述母面板的單元的邊界進(jìn)行切割，以將面板分離；將所述面板移動(dòng)至研磨機(jī)，并將所述面板的切割表面的至少一個(gè)邊緣帶到所述研磨機(jī)的研磨表面，以研磨所述至少一個(gè)邊緣，所述研磨機(jī)是可旋轉(zhuǎn)的且包括研磨單元，所述研磨單元包括所述研磨表面和連接到所述研磨單元的軸，其中，與所述軸的旋轉(zhuǎn)軸垂直的平面和所述研磨表面之間的角度α滿足 1° ^ α ，與所述軸的所述旋轉(zhuǎn)軸垂直的平面和所述面板的外表面之間的角度β滿足10° < β <60°，所述面板的所述外表面與所述面板的切割表面垂直且面對(duì)所述研磨機(jī)的研磨表面。
15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的方法，其中，所述研磨機(jī)的所述研磨單元的直徑小于將被研磨的所述至少一個(gè)邊緣的長度。
16.一種有機(jī)發(fā)光二極管顯示器，所述有機(jī)發(fā)光二極管顯示器包括 第一基底，包括形成在所述第一基底上的薄膜晶體管和有機(jī)發(fā)光二極管； 第二基底，面對(duì)所述第一基底并結(jié)合到所述第一基底，其中，所述第一基底的與面對(duì)所述第二基底的表面相對(duì)的外表面的至少一個(gè)邊緣包括圓形部分。
17.根據(jù)權(quán)利要求16所述的有機(jī)發(fā)光二極管顯示器，其中，所述圓形部分的曲率半徑為所述第一基底的厚度的1/20至1/5。
18.根據(jù)權(quán)利要求17所述的有機(jī)發(fā)光二極管顯示器，其中，所述圓形部分的曲率半徑力 20ymg80ym。
19.根據(jù)權(quán)利要求16所述的有機(jī)發(fā)光二極管顯示器，其中，所述第二基底包括玻璃。
20.根據(jù)權(quán)利要求19所述的有機(jī)發(fā)光二極管顯示器，其中，所述第二基底的與面對(duì)所述第一基底的表面相對(duì)的外表面的至少一個(gè)邊緣包括圓形部分。
21.根據(jù)權(quán)利要求16所述的有機(jī)發(fā)光二極管顯示器，其中，所述第二基底由包括多個(gè)薄膜的堆疊的封裝層形成。
22.—種有機(jī)發(fā)光二極管顯示器的制造方法，所述方法包括 在第一基底上順序地形成薄膜晶體管和有機(jī)發(fā)光二極管； 通過將第二基底結(jié)合到所述第一基底上來形成母面板； 沿所述母面板的單元的邊界進(jìn)行切割，以將面板分離；將所述面板移動(dòng)至研磨機(jī)，并將所述第一基底的切割表面的至少一個(gè)邊緣帶到所述研磨機(jī)的研磨表面，以研磨所述至少一個(gè)邊緣，所述研磨機(jī)是可旋轉(zhuǎn)的且包括研磨單元，所述研磨單元包括所述研磨表面和連接到所述研磨單元的軸，其中，與所述軸的旋轉(zhuǎn)軸垂直的平面和所述研磨表面之間的角度α滿足 1° ^ α，與所述軸的所述旋轉(zhuǎn)軸垂直的平面和所述面板的與所述面板外表面之間的角度β滿足10° < β <60°，所述面板的所述外表面與所述面板的切割表面垂直且面對(duì)所述研磨機(jī)的研磨表面。
23.根據(jù)權(quán)利要求22所述的方法，其中，所述研磨機(jī)的所述研磨單元的直徑小于所述第一基底的將被研磨的所述至少一個(gè)邊緣的長度。
24.根據(jù)權(quán)利要求22所述的方法，其中，所述第二基底包括玻璃，所述第一基底和所述第二基底通過施加到所述第一基底或所述第二基底上的密封劑結(jié)合在一起。
25.根據(jù)權(quán)利要求M所述的方法，所述方法還包括使所述第二基底的切割表面的至少一個(gè)邊緣接觸所述研磨機(jī)的所述研磨表面，以研磨所述第二基底的所述切割表面的所述至少一個(gè)邊緣。
26.根據(jù)權(quán)利要求25所述的方法，其中，所述研磨機(jī)的所述研磨單元的直徑小于所述第二基底的將被研磨的所述至少一個(gè)邊緣的長度。
27.根據(jù)權(quán)利要求22所述的方法，其中，所述第二基底由包括多個(gè)有機(jī)膜和無機(jī)膜的堆疊的封裝層形成，所述第一基底和所述第二基底通過使用紫外光使所述封裝層固化而結(jié)合在一起。
全文摘要
一種研磨機(jī)包括研磨單元，包括研磨表面；軸，連接到所述研磨單元，用于使所述研磨單元旋轉(zhuǎn)。所述研磨單元包含修補(bǔ)劑和研磨劑的混合物以及聚氨酯甲酸酯，與所述軸的旋轉(zhuǎn)軸垂直的平面和所述研磨表面之間的角度α滿足1°≤α≤7°。
文檔編號(hào)B24B37/00GK102189486SQ20111004939
公開日2011年9月21日 申請(qǐng)日期2011年2月25日 優(yōu)先權(quán)日2010年3月11日
發(fā)明者崔元佑, 徐東旭, 鄭宗燮, 金寬洙 申請(qǐng)人:三星移動(dòng)顯示器株式會(huì)社