專利名稱：氧化鋁涂層、帶涂層產(chǎn)品及其制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及氧化鋁涂層和帶涂層產(chǎn)品，特別是用于諸如機械加工、車削和銑削的材料去除應(yīng)用的帶涂層刀頭(cutting insert)。更具體地，本發(fā)明涉及其中涂層包含α氧化鋁或κ氧化鋁或α和κ氧化鋁的混合物的涂層的帶涂層刀頭、以及制造該涂層和帶涂層刀頭的方法。
背景技術(shù)：
迄今為止，帶涂層刀頭已被用于材料去除應(yīng)用中。該涂層典型包含表現(xiàn)出耐磨性的硬質(zhì)難熔材料。在刀頭上使用涂層的一個主要目的是延長刀頭的使用壽命。在大量的專利文獻中公開了其中涂層方案包含氧化鋁涂層的這種涂層方案的例子，在以下說明這些專利文獻中的示例性的專利文獻。授權(quán)給Ishii等的美國專利No. 6156383看來意識到具有其上淀積α氧化鋁層的氧化層是有益的。授權(quán)給Chudo等的美國專利No. 4720437提到，TiCO或TiCNO可提高氧化鋁層的結(jié)合。授權(quán)給Nakamura等的美國專利No. 5770261看起來顯示了在900°C的溫度下在 TiCNO層和TiCO層上淀積氧化鋁。美國’ 261專利看起來顯示了多層涂層方案。授權(quán)給 Mitsubishi Materials Corp.的歐洲專利申請 No. 0900860A2 (和授權(quán)給 Ichikawa 等的美國專利No. 6207262B1)看起來公開了淀積TiCO或TiCNO然后在這些含Ti層中的任一個上淀積氧化鋁。授權(quán)給Mitsubishi Materials Corp.的歐洲專利申請No. 0786536A1 (和授權(quán)給mda等的美國專利No. 5985427)看起來顯示了在950°C的溫度下涂覆到TiCNO層或TiCO 層上的氧化鋁層。授權(quán)給Mitsubishi Materials Corp.的歐洲專利申請No. 0686707A1公開了在碳氧化鈦層或碳氮氧化鈦層上CVD淀積χ型氧化鋁。授權(quán)給Sandvik AB的歐洲專利申請No. 1209255A2涉及在TiCNO層上淀積具有含 Ti條紋區(qū)域的等軸晶粒的α氧化鋁層的涂層方案。α氧化鋁層的淀積溫度為約1000°C。授權(quán)給^shimura等的美國專利申請No. 6093479涉及包含在TiCNO層或TiCO上淀積氧化鋁的涂層方案。在850 1000°C的溫度下涂覆氧化鋁，但該氧化鋁是κ氧化鋁或其中κ含量大于α含量的κ和α氧化鋁的組合。授權(quán)給NGK Spark Plug的歐洲專利No. 0247630給出在TiCNO層上淀積氧化鋁的例子。授權(quán)給Mitsubishi Materials Corp.的歐洲專利No. (^63747B1公開了富含粘接劑的基體上的涂層方案。該涂層包含淀積在TiCO和TiCNO上的氧化鋁。從以上文獻可清楚地看出，在過去已使用了許多不同的用于刀頭(cutting insert)的涂層方案。根據(jù)這些專利文獻，這些涂層方案中的每一個都提供一定的優(yōu)點。盡管已存在被認(rèn)為提供一定優(yōu)點的涂層方案，但是一直存在繼續(xù)延長使用壽命以及提高帶涂層刀頭的性能特性的要求。因此，非常希望提供改進的氧化鋁涂層和諸如帶涂層刀頭的帶涂層產(chǎn)品，其中，該涂層包含α氧化鋁(或Κ氧化鋁或α-K氧化鋁)的涂層并且該刀頭在材料去除應(yīng)用中有用，其中該刀頭具有延長的工具使用壽命。還希望提供改進的氧化鋁涂層和諸如帶涂層刀頭的帶涂層產(chǎn)品，其中，該涂層包含α氧化鋁(或κ氧化鋁或α-κ氧化鋁)的涂層且該刀頭在材料去除應(yīng)用中有用，其中該刀頭表示出提高的性能特性。

發(fā)明內(nèi)容
在一個形式中，本發(fā)明是一種帶涂層體，該帶涂層體包括基體；和基體上的涂層方案。該涂層方案包含α氧化鋁涂層，該α氧化鋁涂層在α氧化鋁涂層的表面表現(xiàn)出片狀晶粒形貌。在另一形式中，本發(fā)明是包含基體的帶涂層體。在基體上存在涂層方案，其中，該涂層方案包含K氧化鋁涂層，該K氧化鋁涂層在K氧化鋁涂層的表面上表現(xiàn)出透鏡狀晶粒形貌或多面體-透鏡狀晶粒形貌。在另一形式中，本發(fā)明是包含基體的帶涂層體。在基體上存在涂層方案，其中，該涂層方案包括含α氧化鋁和κ氧化鋁的氧化鋁涂層，并且其中該涂層在氧化鋁涂層的表面上表現(xiàn)出大的多刻面晶粒形貌或多面體-多刻面晶粒形貌。在另一形式中，本發(fā)明是包含基體的帶涂層體。在基體上存在涂層方案，其中，涂層方案包含選自包含α氧化鋁涂層和κ氧化鋁涂層和κ-α氧化鋁涂層的組的氧化鋁涂層，該涂層是在約750 約920°C的溫度下通過化學(xué)氣相淀積被施加的。在另一形式中，本發(fā)明是一種用于涂覆基體的方法，該方法包括以下步驟在約 750 約920°C的溫度下通過化學(xué)氣相淀積施加α氧化鋁涂層，其中，該α氧化鋁涂層在其表面表現(xiàn)出片狀晶粒形貌。在另一形式中，本發(fā)明是一種用于涂覆基體的方法，該方法包括以下步驟在約 750 約920°C的溫度下通過化學(xué)氣相淀積施加κ氧化鋁涂層，其中，該κ氧化鋁涂層在其表面表現(xiàn)出透鏡狀晶粒形貌或多面體-透鏡狀晶粒形貌。在另一形式中，本發(fā)明是一種用于涂覆基體的方法，該方法包括以下步驟在約 750 約920°C的溫度下通過化學(xué)氣相淀積施加α-κ氧化鋁涂層，其中，該α-Κ氧化鋁涂層在其表面表現(xiàn)出大的多刻面晶粒形貌或多面體-多刻面晶粒形貌。在另一形式中，本發(fā)明是一種帶涂層體，該帶涂層體包括含多晶立方氮化硼的基體。在該基體上存在涂層方案，其中涂層方案包含氧化鋁涂層。該氧化鋁涂層是以下涂層中的一個在表面上具有片狀晶粒形貌的α氧化鋁涂層；或在表面上具有透鏡狀晶粒形貌或在表面上具有多面體-透鏡狀晶粒形貌的κ氧化鋁涂層；或在表面上具有大的多刻面晶粒形貌或在表面上具有多面體-多刻面晶粒形貌的α-κ氧化鋁涂層。


以下是構(gòu)成本專利申請一部分的附圖的簡要說明圖1是本發(fā)明的帶涂層刀頭的特定實施方案的等距視圖，其中，帶涂層刀頭具有施加了涂層的基體；圖2是沿圖1的剖面線2-2切取的圖1的刀頭的橫截面視圖，其中，示出帶涂層刀頭的一個角；圖3是按照本發(fā)明的試驗No. 7淀積的涂層方案的一個特定實施方案的彩色顯微照片，其中，顯微照片示出由參照線和圖例(legend)標(biāo)識的不同涂層，并且顯微照片在其上具有10微米的比例尺；圖4是通過掃描電子顯微鏡(SEM)以15000X的放大倍數(shù)對按照本發(fā)明的試驗 No. 1的方法涂覆的帶涂層刀頭的特定實施方案的氧化鋁(外)涂層的表面拍攝的顯微照片，其中，該氧化鋁涂層具有片狀晶粒形貌，并且顯微照片在其上具有4微米的比例尺；圖5是通過掃描電子顯微鏡(SEM)以15000X的放大倍數(shù)對現(xiàn)有技術(shù)的帶涂層刀頭的高溫氧化鋁(外)涂層的表面拍攝的顯微照片，該顯微照片在其上具有4微米的比例尺；圖6是按照本發(fā)明的試驗No. 1涂覆的粘結(jié)(cemented)(鈷)碳化鎢基體的氧化鋁涂層的X射線衍射圖案，其中，通過其相應(yīng)的峰標(biāo)出α相氧化鋁以及氮化鈦、碳氮化鈦和碳化鎢的存在；圖7是按照本發(fā)明的試驗No. 2涂覆的帶涂層燒結(jié)(碳化物)碳化鎢基體表面的顯微照片(放大倍數(shù)等于10000Χ)，其中，存在α相氧化鋁和K相氧化鋁的混合物，且以 α相氧化鋁為主要的相，并且，該顯微照片表明，α-Κ相氧化鋁涂層具有大的多刻面氧化鋁晶粒從而在表面呈現(xiàn)出大多刻面晶粒的形貌；圖8是按照本發(fā)明的試驗No. 2涂覆的粘結(jié)的(鈷)碳化鎢基體的X射線衍射圖案，其中，該X射線衍射圖案是在圖7的顯微照片的位置附近拍攝的，并且該X射線衍射圖案揭示了，該氧化鋁涂層包含由相應(yīng)相的峰表示的α晶相和κ晶相氧化鋁的混合物，并且，通過相應(yīng)的峰的存在表明了碳化鎢、氮化鈦和碳氮化鈦的存在；圖9是按照本發(fā)明的試驗No. 5施加到粘結(jié)的(鈷)碳化鎢基體的氧化鋁涂層的表面的顯微照片(放大倍數(shù)等于5000Χ)，其中，該氧化鋁涂層是κ氧化鋁，并且，該顯微照片表明，κ氧化鋁涂層在其表面具有多面體-透鏡狀晶粒形貌；圖10是按照本發(fā)明的試驗No. 4涂覆的碳化鎢基體的氧化鋁涂層的表面顯微照片 (放大倍數(shù)等于10000Χ)，其中，該氧化鋁涂層包含α相氧化鋁和K相氧化鋁的混合物，并且，該顯微照片表明，該α-Κ氧化鋁涂層具有多面體氧化鋁晶粒和多刻面氧化鋁晶粒的混合物，從而在其表面上呈現(xiàn)出多面體-多刻面晶粒形貌；圖11是按照本發(fā)明的試驗No. 4涂覆的帶涂層的粘結(jié)的(鈷)碳化鎢基體的X射線衍射圖案，其中，κ-α氧化鋁、碳化鎢、氮化鈦和碳氮化鈦的存在由它們的相應(yīng)的峰標(biāo)注；圖12是按照本發(fā)明的試驗No. 5涂覆的帶涂層的粘結(jié)的(鈷)碳化鎢基體的X射線衍射圖案，其中，該氧化鋁涂層是由相應(yīng)的峰標(biāo)注的κ晶相(以及由相應(yīng)的峰標(biāo)注的痕量α相氧化鋁)，并且，碳化鎢、氮化鈦和碳氮化鈦的存在由它們的相應(yīng)的峰標(biāo)注；圖13是按照本發(fā)明的試驗No. 8淀積到粘結(jié)的(鈷)碳化鎢上的κ氧化鋁涂層的表面的顯微照片(放大倍數(shù)等于5000Χ)，其中，該顯微照片表明，κ氧化鋁涂層在表面具有透鏡狀晶粒形貌；
圖14是按照本發(fā)明的試驗No. 8涂覆的帶涂層碳化鎢基體的X射線衍射圖案，其中，κ氧化鋁、碳化鎢、氮化鈦和碳氮化鈦的存在由它們的相應(yīng)的峰標(biāo)注；圖15是通過高溫CVD淀積到基體上的現(xiàn)有技術(shù)的κ氧化鋁涂層的表面的顯微照片(放大倍數(shù)等于5000X)，其中，該顯微照片表明，該κ氧化鋁涂層在表面具有塊狀晶粒形貌。
具體實施例方式參照附圖，圖1和圖2表示本發(fā)明的特定實施方案，其中將帶涂層的刀頭通稱為 20。帶涂層刀頭20包含基體22?；w22可由大量基體材料中的任一種制成。用于基體的示例性材料包含但不限于粘結(jié)的碳化物、碳化物、陶瓷、金屬陶瓷和多晶立方氮化硼(PcBN)。示例性粘結(jié)碳化物包含鈷粘結(jié)碳化鎢，其中，鈷含量最高約15重量％，從而還包含沒有任何鈷的碳化鎢基體。在粘結(jié)的(鈷)碳化鎢的情況下，基體可表現(xiàn)出在基體的表面開始并向內(nèi)延伸的富集粘接劑的區(qū)域。作為另一替代方案，粘結(jié)碳化物基體可不存在粘接劑富集。粘結(jié)碳化物基體也可包含一種或更多種添加劑，例如以下元素和/或它們的化合物中的一種或更多種鈦、鈮、 釩、鉭、鉻、鋯和/或鉿。粘結(jié)碳化物基體也可在其中包含氮。示例性陶瓷包含氮化硅基陶瓷、SiAlON基陶瓷、碳氮化鈦基陶瓷、二硼化鈦基陶瓷和氧化鋁基陶瓷。示例性金屬陶瓷包含具有鎳-鈷粘接劑和高水平的鈦的金屬陶瓷，還可包含碳化鎢和碳化鈦。金屬陶瓷也可在其中包含氮。示例性PcBN材料包含具有陶瓷或金屬粘接劑的PcBN材料。PcBN材料可以以大量的基本方式與刀頭結(jié)合使用。對于一種方式，PcBN刀頭(insert)可被釬焊到刀頭體 (cutting insert body)上。對于另一種方式，PcBN刀頭可以是完全頂端(full top)刀頭。對于另一種方式，刀頭可以是PcBN的實心件(solid piece)。示例性PcBN基體包含具有所給出的成分的以下PcBN材料。PcBN成分No. 1具有等于約12重量％鈷粘接劑和約88重量％立方氮化硼的成分。 PcBN成分No. 1 —般用于對硬鋼和鑄鐵開槽，用于調(diào)節(jié)硬鋼中的厚件斷續(xù)切割和/或用于超合金加工。PcBN成分No. 2具有等于約50重量％碳化鈦粘接劑和約50重量％立方氮化硼的成分。PcBN成分No. 2—般用于硬鋼的精加工。PcBN成分No. 3具有等于約10重量％的包含氮化鋁和碳化硅和二硼化鈦的粘接劑和約90重量％的立方氮化硼，其中，氮化鋁是粘接劑的主要成分。PcBN成分No. 4具有等于約18重量％的氮化鋁粘接劑和約82重量％的立方氮化硼的成分。使用PcBN成分No. 3和4的刀頭一般是PcBN的實心件，其中，這種刀頭一般用于硬和軟鑄鐵上，用于調(diào)節(jié)厚件的斷續(xù)切割。帶涂層刀頭20具有側(cè)面(flank surface) M和前刀面(rake surface)洸。側(cè)面 M和前刀面26相交在其交線上形成切削刃觀。帶涂層刀頭20在其中包含孔30?？?0用于將刀頭20固定到刀架上。帶涂層刀頭20具有由圖2中括弧(braCket)32示出的涂層方案。該特定的涂層方案32包含四個涂層。以下說明這些涂層中的每一個。
通過化學(xué)氣相淀積將底涂層34施加到基體22的表面上。在一些情況下，可以在涂覆之前對基體的表面進行處理，例如通過包含硬粒子的漿液進行沖擊。一種示例類型的表面處理是用包含水和氧化鋁粒子的漿液濕噴表面。在另外一些情況下，在涂覆之前不對表面進行處理。在該涂層方案中，底涂層34包含氮化鈦；但是，應(yīng)當(dāng)理解，底涂層的成分可取決于基體材料的成分，以實現(xiàn)涂層與基體的最佳粘接。例如，在基體是PcBN或陶瓷的情況下，可以施加氧化鋁的底層。在圖1和圖2的這種涂層方案中，在該處理步驟中用以淀積氮化鈦底涂層34的氣體是H2、N2*TiCl4?？梢栽诩s850 920°C的溫度下施加底涂層34。作為選擇性范圍，可以在約890 910°C的溫度下施加底涂層34。淀積底涂層34的處理的壓力和持續(xù)時間變化，以實現(xiàn)希望的涂層厚度。對于底涂層34的厚度，作為一種選擇性范圍，底涂層34的厚度的范圍在大于0微米和約3微米之間。 作為另一選擇性范圍，底涂層34的厚度的范圍在大于0微米和約1微米之間。作為又一選擇性范圍，底涂層34的厚度的范圍在大于0微米和約0. 5微米之間?？梢岳斫?，底涂層34 的特定厚度可根據(jù)刀頭的特定應(yīng)用變化。在底涂層34上通過化學(xué)氣相淀積施加中間涂層36。用于該處理步驟中的氣體是 H2, N2, CH3CN和TiCl4?？梢杂弥T如乙烷和氮氣、甲烷和氮氣的其它氣體混合物以及其它公知的混合物施加中間涂層。中間涂層36包含碳氮化鈦。在約800 920°C的溫度下施加中間涂層36。作為選擇性的范圍，可以在約850 920°C的溫度下施加中間涂層36。作為另一選擇性的范圍，可以在約870 910°C的溫度下施加中間涂層36。淀積中間涂層36的處理的壓力和持續(xù)時間變化，以實現(xiàn)希望的涂層厚度。在這點上，中間涂層36的厚度的范圍可為約1 25微米。作為選擇性范圍，中間涂層的厚度的范圍可為約3 15微米。作為另一選擇性范圍，中間涂層的厚度的范圍可為約1 5微米。 中間涂層36的厚度的另一選擇性范圍為約5 25微米。在中間涂層36上通過化學(xué)氣相淀積施加改性涂層38。用于該處理步驟中的氣體是H2、N2和TiCl4、AlCl3、HCl、C0、C02和CH3CN0改性涂層38可包含鈦、鋁、氮、氧和碳。當(dāng)存在所有的上述元素時，申請人認(rèn)為改性涂層38包含碳氮氧化鈦鋁(TiAWCN)。但是，存在改性層包含多個層的一些情況，其中這些層包含碳氮氧化鈦(TiOCN)和/或氮氧化鈦(TiON) 以及碳氮氧化鈦鋁。在約750 920°C的溫度下施加改性涂層38。作為選擇性溫度范圍， 在約850 920°C的溫度下施加改性涂層38。作為另一選擇性溫度范圍，可以在約870 890°C的溫度下施加改性涂層38。淀積改性涂層38的處理的壓力和持續(xù)時間變化，以實現(xiàn)希望的涂層厚度。在這點上，改性涂層38的厚度的范圍為約0. 5 5微米。作為選擇性范圍，改性涂層38的厚度的范圍可為約1 1.5微米。中間涂層36和改性層38的總的組合厚度的范圍為約1 30微米。作為選擇性范圍，中間涂層36和改性涂層38的總的組合厚度的范圍為約1. 5 25微米。在改性涂層38上通過化學(xué)氣相淀積施加外涂層40。用于該處理步驟中的氣體是 H2、N2、A1C13、HC1、CO、COdnH2Stj外涂層40包含氧化鋁，并可包含多個氧化鋁層。從以下公開可清楚地看到，氧化鋁層的結(jié)晶相可只包含α相、或只包含κ相、或包含α和κ相的混合物。在按照本發(fā)明淀積α氧化鋁層的情況下，α氧化鋁涂層40的表面在其表面表現(xiàn)出片狀晶粒形貌。在按照本發(fā)明淀積κ氧化鋁層的情況下，κ氧化鋁涂層40的表面在其表面表現(xiàn)出透鏡狀晶粒形貌或多面體-透鏡狀晶粒形貌。在按照本發(fā)明淀積氧化鋁層的情況下，α-κ氧化鋁涂層40的表面在其表面表現(xiàn)出大的多刻面晶粒形貌或多面體-多刻面晶粒形貌。在約750 920°C的溫度下施加氧化鋁涂層40。用于施加氧化鋁涂層40的其它選擇性的溫度范圍包含約800 920°C的溫度；約850 920°C的溫度；和約865 895°C 的溫度。淀積外涂層40的處理的壓力和持續(xù)時間變化，以實現(xiàn)希望的涂層厚度。氧化鋁涂層40的厚度的一種范圍為約1 20微米。氧化鋁涂層40的厚度的選擇性范圍為約2 3 微米。氧化鋁涂層40的厚度的另一選擇性范圍為約4 15微米。氧化鋁涂層40的厚度的另一選擇性范圍為約6 12微米。整個涂層方案32的總厚度的范圍為約3 40微米。作為選擇性范圍，涂層方案 32的總厚度的范圍為約20 35微米。作為選擇性范圍，涂層方案32的總厚度的范圍為約 8 12微米。作為另一選擇性范圍，涂層方案的總厚度的范圍為約5 7微米。以下的表1-1給出在基體上淀積涂層方案的中等溫度化學(xué)氣相淀積(MT-CVD)方法的特定實施方案即本發(fā)明的試驗No. 1的處理步驟。本發(fā)明的試驗No. 1是用于涂覆本文圖4的刀頭(或基體)的MT-CVD處理。本發(fā)明的試驗No. 1還是用于涂覆確定為本文表 1-5中的本發(fā)明刀頭的刀頭的處理。表 1-1本發(fā)明試驗No. 1的處理參數(shù)
權(quán)利要求
1.一種帶涂層體，包括基體；和基體上的涂層方案，其中，該涂層方案包含K氧化鋁涂層，該K氧化鋁涂層在K氧化鋁涂層的表面表現(xiàn)出透鏡狀晶粒形貌或多面體-透鏡狀晶粒形貌。
2.根據(jù)權(quán)利要求1的帶涂層體，其中，該κ氧化鋁涂層是在750 920°C的溫度下通過化學(xué)氣相淀積被施加的。
3.根據(jù)權(quán)利要求1的帶涂層體，其中，該涂層方案還包括通過化學(xué)氣相淀積施加的改性涂層，其中該改性涂層包含氧和鋁和選自碳與氮中的一種或更多種和選自元素周期表的第IVB族元素中的一種或更多種；κ氧化鋁涂層被施加到改性涂層上；以及，該涂層方案還包含通過化學(xué)氣相淀積施加的包含元素周期表的第IVB族元素中的一種或更多種的碳氮化物的中間涂層，且改性涂層被施加到該中間涂層上；該涂層方案還包含通過化學(xué)氣相淀積施加到基體上的包含元素周期表的第IVB族元素中的一種或更多種的氮化物的底涂層， 該中間涂層被施加到底涂層上。
4.根據(jù)權(quán)利要求1的帶涂層體，其中，該基體包含粘結(jié)的碳化物、陶瓷、金屬陶瓷和多晶立方氮化硼中的一種。
5.根據(jù)權(quán)利要求1的帶涂層體，其中，帶涂層體包含帶涂層刀頭，該帶涂層刀頭具有前刀面和側(cè)面和在前刀面與側(cè)面的結(jié)合處的切削刃。
6.根據(jù)權(quán)利要求1的帶涂層體，其中，該涂層方案還包含κ氧化鋁涂層上的一個或更多個涂層。
7.根據(jù)權(quán)利要求1的帶涂層體，其中，該涂層方案包括基體上的氧化鋁底涂層。
8.一種帶涂層體，包括基體；和基體上的涂層方案，其中，該涂層方案包括含α氧化鋁和κ氧化鋁的κ-α氧化鋁涂層，其中，該κ-α涂層在氧化鋁涂層的表面表現(xiàn)出多面體-多刻面晶粒形貌。
9.根據(jù)權(quán)利要求8的帶涂層體，其中，該κ-α氧化鋁涂層是在750 920°C的溫度下通過化學(xué)氣相淀積施加的。
10.根據(jù)權(quán)利要求8的帶涂層體，其中，該涂層方案還包括通過化學(xué)氣相淀積施加的改性涂層，其中改性涂層包含氧和鋁和選自碳與氮中的一種或更多種和選自元素周期表的第IVB族元素中的一種或更多種；κ-α氧化鋁涂層被施加在改性涂層上；以及，該涂層方案還包含通過化學(xué)氣相淀積施加的包含元素周期表的第IVB族元素中的一種或更多種的碳氮化物的中間涂層，且改性涂層被施加到該中間涂層上；該涂層方案還包含通過化學(xué)氣相淀積施加到基體上的包含元素周期表的第IVB族元素中的一種或更多種的氮化物的底涂層，該中間涂層被施加到底涂層上。
11.根據(jù)權(quán)利要求8的帶涂層體，其中，該基體包含粘結(jié)的碳化物、陶瓷、金屬陶瓷和多晶立方氮化硼中的一種。
12.根據(jù)權(quán)利要求8的帶涂層體，其中，該帶涂層體包含帶涂層刀頭，該帶涂層刀頭具有前刀面和側(cè)面和在前刀面與側(cè)面的結(jié)合處的切削刃。
13.根據(jù)權(quán)利要求8的帶涂層體，其中，該涂層方案還包含κ-α氧化鋁涂層上的一個或更多個涂層。
14.根據(jù)權(quán)利要求8的帶涂層體，其中，該涂層方案包括基體上的氧化鋁底涂層。
15.一種帶涂層體，包括基體；和基體上的涂層方案，其中，該涂層方案包含選自在表面上具有片狀晶粒形貌的α氧化鋁涂層和在表面上具有透鏡狀晶粒形貌或在表面上具有多面體-透鏡狀晶粒形貌的κ氧化鋁涂層和具有多面體-多刻面晶粒形貌的κ-α氧化鋁涂層的氧化鋁涂層，該涂層是在 750 850°C的溫度下通過化學(xué)氣相淀積被施加的。
16.根據(jù)權(quán)利要求15的帶涂層體，其中，該氧化鋁涂層包含α氧化鋁。
17.根據(jù)權(quán)利要求15的帶涂層體，其中，該氧化鋁涂層包含κ氧化鋁。
18.根據(jù)權(quán)利要求15的帶涂層體，其中，該氧化鋁涂層包含α-κ氧化鋁涂層。
19.一種用于涂覆基體的方法，包括以下步驟在750 920°C的溫度下通過化學(xué)氣相淀積施加κ氧化鋁涂層，其中，該κ氧化鋁涂層在其表面表現(xiàn)出透鏡狀晶粒形貌或多面體-透鏡狀晶粒形貌。
20.一種用于涂覆基體的方法，包括以下步驟在750 920°C的溫度下通過化學(xué)氣相淀積施加α-κ氧化鋁涂層，其中，該α-Κ氧化鋁涂層在其表面表現(xiàn)出多面體-多刻面晶粒形貌。
21.—種帶涂層體，包括包含多晶立方氮化硼的基體；和基體上的涂層方案，其中，該涂層方案包含氧化鋁涂層，其中，該氧化鋁涂層是以下涂層中的一個在表面上具有片狀晶粒形貌的α氧化鋁涂層；或在表面上具有透鏡狀晶粒形貌或在表面上具有多面體-透鏡狀晶粒形貌的κ氧化鋁涂層；或在表面上具有多面體-多刻面晶粒形貌的α-Κ氧化鋁涂層；及該涂層方案還包含施加到基體上的氧化鋁的底涂層。
全文摘要
本申請涉及氧化鋁涂層、帶涂層產(chǎn)品及其制造方法。包含基體(22)和基體上的涂層方案(32)的帶涂層體?；w(22)上的涂層方案(32)，其中，該涂層方案包含在α氧化鋁涂層(40)的表面上具有片狀晶粒形貌的α氧化鋁涂層(40)；或在其表面上表現(xiàn)出透鏡狀晶粒形貌或多面體-透鏡狀晶粒形貌的κ氧化鋁涂層(40)；或在表面上表現(xiàn)出大的多刻面晶粒形貌或多面體-多刻面晶粒形貌的α-κ氧化鋁涂層(40)。
文檔編號C23C30/00GK102162090SQ20111007393
公開日2011年8月24日 申請日期2005年3月10日 優(yōu)先權(quán)日2004年3月12日
發(fā)明者A·S·小蓋茨, C·G·麥克納尼, P·K·梅赫羅特拉, P·R·萊希特 申請人:鈷碳化鎢硬質(zhì)合金公司