專利名稱：襯底處理設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種襯底處理設(shè)備，特別是涉及一種化學(xué)氣相沉積設(shè)備。
背景技術(shù)：
薄膜太陽能電池在弱光條件下仍可發(fā)電，其生產(chǎn)過程能耗低，具備大幅度降低原料損耗和制造成本的潛力，因此，市場對薄膜太陽能電池的需求正逐漸增長，而制造薄膜太陽能電池的技術(shù)和設(shè)備更成為近年來的研究熱點(diǎn)。化學(xué)氣相沉積設(shè)備是常用的薄膜太陽能電池的制造設(shè)備。請參閱圖1，現(xiàn)有技術(shù)中，化學(xué)氣相沉積設(shè)備1包括處理腔11，用于承載待處理襯底14的工作臺12和頂針機(jī)構(gòu)13。所述處理腔11限定了一個密封的空間，所述工作臺12 設(shè)置在所述處理腔11的密封空間中，所述工作臺12上設(shè)置有多個穿透所述工作臺12的頂針孔。所述頂針機(jī)構(gòu)13設(shè)置在所述工作臺12的下方，所述頂針機(jī)構(gòu)13包括多根頂針132 和驅(qū)動所述多根頂針132的驅(qū)動桿131。所述多根頂針132設(shè)置在所述處理腔11的密封空間內(nèi)，并與所述工作臺12上的多個頂針孔對應(yīng)設(shè)置。所述驅(qū)動桿131穿過設(shè)置在處理腔 11上的孔17延伸到所述處理腔11的外部，并與外部的伺服機(jī)構(gòu)(圖中未示)連接。所述頂針132在所述驅(qū)動桿131的推動下，從所述工作臺12上對應(yīng)的頂針孔穿出，從而支撐起放置在所述工作臺12上的襯底14，以方便搬運(yùn)機(jī)械手或其他搬運(yùn)機(jī)構(gòu)(圖中未示)搬運(yùn)所述襯底14。為防止所述處理腔11通過其上的孔17發(fā)生反應(yīng)氣體的泄露，且保證所述處理腔 11內(nèi)的密封空間的密封性，所述化學(xué)氣相沉積設(shè)備1還包括波紋管15。所述波紋管15設(shè)置在處理腔11的相對所述密封空間的外側(cè)。所述波紋管15的其中一端密封連接所述處理腔11的外壁，另一端密封連接所述驅(qū)動桿131位于所述處理腔11外的部分。從而使得所述驅(qū)動桿131與所述處理腔11之間形成波紋管密封，防止所述處理腔11通過其上的孔17 發(fā)生反應(yīng)氣體的泄露。然而，在所述處理腔11內(nèi)對所述襯底14進(jìn)行化學(xué)氣相沉積處理時，反應(yīng)氣體會通過所述處理腔11上的孔17進(jìn)入到所述波紋管15的內(nèi)部，并在所述波紋管15的內(nèi)壁上發(fā)生反應(yīng)并沉積。所述反應(yīng)沉積物會損壞所述波紋管15的性能，使得所述波紋管15的使用壽命縮短，增加了所述化學(xué)氣相沉積設(shè)備1的維護(hù)保養(yǎng)費(fèi)用，而且還降低了所述化學(xué)氣相沉積設(shè)備1的使用效率。

實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型的目的在于提供一種襯底處理設(shè)備，其通過設(shè)置密封機(jī)構(gòu)，能有效解決現(xiàn)有技術(shù)中波紋管被反應(yīng)氣體侵蝕損害的問題。為達(dá)上述目的，本實(shí)用新型提供一種襯底處理設(shè)備，其包括處理腔和直線運(yùn)動裝置；所述處理腔具有開孔；所述直線運(yùn)動裝置包括驅(qū)動桿和波紋管；所述驅(qū)動桿穿過所述處理腔上的開孔并延伸到所述處理腔外，所述驅(qū)動桿能夠沿其軸線方向做直線運(yùn)動并在所述襯底處理設(shè)備處理襯底時處于第一位置；所述波紋管的一端密封連接所述處理腔的開孔周圍的處理腔外壁，另一端密封連接所述驅(qū)動桿位于所述處理腔外的部分；所述襯底處理設(shè)備還包含密封機(jī)構(gòu)，所述密封機(jī)構(gòu)包括設(shè)置在位于處理腔內(nèi)部的驅(qū)動桿上的密封板，所述密封板在所述驅(qū)動桿處于第一位置時，密封所述開孔。所述密封機(jī)構(gòu)還包括密封墊圈，所述密封墊圈設(shè)置在所述處理腔上的所述開孔周圍的處理腔內(nèi)壁上；在所述驅(qū)動桿處于第一位置時，所述密封板壓緊所述密封墊圈。所述密封板上設(shè)置有至少一圈環(huán)狀凸起結(jié)構(gòu)，所述環(huán)狀突起結(jié)構(gòu)設(shè)置在所述密封板面向所述開孔的一側(cè)面上，所述處理腔上的開孔周圍的處理腔內(nèi)壁上對應(yīng)設(shè)置有至少一圈環(huán)狀凹陷結(jié)構(gòu)；在所述驅(qū)動桿處于第一位置時，所述環(huán)狀凸起結(jié)構(gòu)與所述環(huán)狀凹陷結(jié)構(gòu)相對應(yīng)匹配形成迷宮密封結(jié)構(gòu)。所述密封板包括一固定在所述驅(qū)動桿上的支撐板，一密封片，以及多個彈性元件； 所述密封片設(shè)置在所述支撐板面向所述處理腔上的開孔的一側(cè)，所述多個彈性元件設(shè)置在所述支撐板和所述密封片之間、并連接所述支撐板和所述密封片。所述彈性元件為U型彈簧。所述密封片的厚度< Imm ；更優(yōu)選的，所述密封片的厚度< 0. 5mm。所述襯底處理設(shè)備還包括設(shè)置在所述處理腔內(nèi)的傳輸輥?zhàn)?，所述傳輸輥?zhàn)优c所述驅(qū)動桿位于所述處理腔內(nèi)部分的一端連接，所述驅(qū)動桿能夠驅(qū)動所述傳輸輥?zhàn)愚D(zhuǎn)動。所述襯底處理設(shè)備還包括多根頂針，所述驅(qū)動桿連接所述多根頂針并驅(qū)動所述多根頂針運(yùn)動。所述襯底處理設(shè)備為化學(xué)氣相沉積設(shè)備，所述處理腔為化學(xué)氣相沉積腔。綜上所述，本實(shí)用新型中的襯底處理設(shè)備，由于在驅(qū)動桿位于處理腔密封空間內(nèi)的部分上設(shè)置有至少包含一密封板的密封機(jī)構(gòu)，在襯底處理設(shè)備對襯底進(jìn)行沉積處理時， 通過該密封板可密封處理腔上的開孔，防止處理腔內(nèi)的反應(yīng)氣體通過該開孔進(jìn)入波紋管內(nèi)部，并與其內(nèi)壁發(fā)生反應(yīng)，從而保護(hù)波紋管免受損害。本實(shí)用新型中的襯底處理設(shè)備，由于在驅(qū)動桿位于處理腔密封空間內(nèi)的部分上設(shè)置有至少包含一密封板的密封機(jī)構(gòu)，尤其可延長波紋管的使用壽命，因此也相應(yīng)的延長襯底處理設(shè)備的維護(hù)周期，從而提高生產(chǎn)效率，降低成本及維護(hù)費(fèi)用。

圖1是現(xiàn)有技術(shù)中化學(xué)氣相沉積設(shè)備的剖面結(jié)構(gòu)示意圖；圖2是本實(shí)用新型化學(xué)氣相沉積設(shè)備第一實(shí)施方式的剖面結(jié)構(gòu)示意圖；圖3是圖2所示化學(xué)氣相沉積設(shè)備實(shí)施例一中的直線運(yùn)動裝置結(jié)構(gòu)示意圖；圖4是圖2所示化學(xué)氣相沉積設(shè)備實(shí)施例二中的直線運(yùn)動裝置結(jié)構(gòu)示意圖；圖5是圖2所示化學(xué)氣相沉積設(shè)備實(shí)施例三中的直線運(yùn)動裝置結(jié)構(gòu)示意圖；圖6是本實(shí)用新型化學(xué)氣相沉積設(shè)備第二實(shí)施方式的剖面結(jié)構(gòu)示意圖圖7是圖6所示化學(xué)氣相沉積設(shè)備俯視結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施方式
以下結(jié)合圖2 圖7，以化學(xué)氣相沉積設(shè)備為例，詳細(xì)說明本實(shí)用新型的幾個較佳
4實(shí)施方式。如圖2所示，是本實(shí)用新型的化學(xué)氣相沉積設(shè)備第一實(shí)施方式的剖面結(jié)構(gòu)示意圖。所述化學(xué)氣相沉積設(shè)備3包括處理腔31和直線運(yùn)動裝置。所述處理腔31用于承載待處理襯底34的工作臺32和直線運(yùn)動裝置。所述處理腔31限定了一個密封的空間，所述工作臺32設(shè)置在所述處理腔31的密封空間中，所述工作臺32上設(shè)置有多個穿透所述工作臺 32的頂針孔，在所述工作臺32的下方分別對應(yīng)每個頂針孔設(shè)置有多根頂針332。其中所述的直線運(yùn)動裝置通過驅(qū)動頂針332作升降運(yùn)動以支撐襯底34或?qū)⒁r底放置在所述工作臺 32上。所述直線運(yùn)動裝置包含驅(qū)動桿33和波紋管35。所述驅(qū)動桿33穿過設(shè)置在處理腔 31上的開孔37延伸到所述處理腔31的外部，并與外部的伺服驅(qū)動機(jī)構(gòu)(圖中未示)連接；所述服驅(qū)動機(jī)構(gòu)驅(qū)動所述驅(qū)動桿33沿所述驅(qū)動桿33軸線方向做直線運(yùn)動。所述頂針332在所述驅(qū)動桿33的推動下，從所述工作臺32上對應(yīng)的頂針孔穿出，從而支撐起放置在所述工作臺32上的襯底34，以方便搬運(yùn)機(jī)械手或其他搬運(yùn)機(jī)構(gòu)(圖中未示)搬運(yùn)所述襯底34。在所述化學(xué)氣相沉積設(shè)備處理襯底34時，所述頂針332在所述驅(qū)動桿33的帶動下回收，基板被放置在所述工作臺32上，此時，所述驅(qū)動桿33處于第一位置。所述波紋管35設(shè)置在位于處理腔31外部的驅(qū)動桿33上。所述波紋管35的其中一端密封連接所述處理腔31上的開孔37周圍的處理腔外壁，另一端密封連接所述驅(qū)動桿33位于所述處理腔31外的部分。 從而使得所述驅(qū)動桿33與所述處理腔31之間形成波紋管密封，防止所述處理腔31通過其上的開孔37發(fā)生反應(yīng)氣體的泄露，保證所述處理腔31內(nèi)的密封空間的密封性。進(jìn)一步，所述化學(xué)氣相沉積設(shè)備還包含密封機(jī)構(gòu)36，所述密封機(jī)構(gòu)36包括設(shè)置在位于處理腔31內(nèi)部的驅(qū)動桿33上的密封板361。所述密封板361在所述驅(qū)動桿33處于第一位置時，密封所述開孔37。在所述化學(xué)氣相沉積設(shè)備3對所述襯底34進(jìn)行化學(xué)氣相沉積處理的過程中，所述密封機(jī)構(gòu)36的密封板361密封所述處理腔31上的開孔37，使得處理腔31內(nèi)的反應(yīng)氣體不會通過處理腔31上的開孔37進(jìn)入到所述波紋管35的內(nèi)部，并在波紋管35的內(nèi)壁上發(fā)生反應(yīng)，損壞波紋管35的性能。實(shí)施例一如圖3所示，是示出了本發(fā)明的上述第一實(shí)施方式中的直線運(yùn)動裝置的實(shí)施例一的結(jié)構(gòu)示意圖。其中，所述密封機(jī)構(gòu)36包括密封板361和括密封墊圈362。所述密封板361 設(shè)置在位于處理腔31內(nèi)部的驅(qū)動桿33上；所述密封墊圈362設(shè)置在所述處理腔31上的所述開孔37周圍的處理腔內(nèi)壁上；在所述驅(qū)動桿33處于第一位置時，所述密封板361壓緊所述密封墊圈362。 當(dāng)所述化學(xué)氣相沉積設(shè)備3準(zhǔn)備對所述襯底34進(jìn)行化學(xué)氣相沉積處理時，所述直線運(yùn)動裝置的驅(qū)動桿33向下做直線運(yùn)動，并帶動所述多根頂針332也向下做直線運(yùn)動，從而將支撐在頂針332上的襯底34放置在所述工作臺32上。與此同時，設(shè)置在處理腔31內(nèi)部的驅(qū)動桿33上的密封板361跟隨所述驅(qū)動桿33下移，并當(dāng)所述驅(qū)動桿33處于第一位置時，密封板361壓緊所述密封墊圈362。此時，由于所述密封板361壓緊所述密封墊圈362， 從而密封所述處理腔31上的開孔37。當(dāng)在處理腔31內(nèi)對所述襯底34進(jìn)行化學(xué)氣相沉積處理時，由于所述處理腔31上的開孔37已經(jīng)被密封機(jī)構(gòu)36所密封，因此，反應(yīng)氣體無法進(jìn)入所述波紋管35的內(nèi)部，從而可以保護(hù)所述波紋管35免受損害。[0032]當(dāng)在處理腔31內(nèi)對所述襯底34的化學(xué)氣相沉積處理完成后，所述驅(qū)動桿33進(jìn)行直線上移運(yùn)動，并推動所述多根頂針332支撐起所述襯底34，使得所述襯底34離開所述工作臺32，以方便機(jī)械手或其他搬運(yùn)機(jī)構(gòu)取走所述襯底34。與此同時，設(shè)置在位于處理腔31 內(nèi)部的驅(qū)動桿33上的密封板361也跟隨所述驅(qū)動桿33上移，所述密封板361與所述密封墊圈362所構(gòu)成的密封機(jī)構(gòu)36被解除密封。但由于此時化學(xué)氣相沉積設(shè)備3已經(jīng)停止對所述襯底34進(jìn)行沉積處理，因此即使密封機(jī)構(gòu)36的密封被解除，也不會再有反應(yīng)氣體通過處理腔31上的開孔37而進(jìn)入所述波紋管35中，進(jìn)而損壞其性能。實(shí)施例二如圖4所示，是示出了本發(fā)明的上述第一實(shí)施方式中的直線運(yùn)動裝置的實(shí)施例二的結(jié)構(gòu)示意圖。本實(shí)施例中的直線運(yùn)動裝置的結(jié)構(gòu)與上述實(shí)施例一中所述的直線運(yùn)動裝置的結(jié)構(gòu)基本相同，區(qū)別僅在于所述的密封機(jī)構(gòu)36。本實(shí)施例中的密封機(jī)構(gòu)36包含密封板 361和密封墊圈362。與實(shí)施例一中相同，所述密封板361設(shè)置在位于處理腔31內(nèi)部的驅(qū)動桿33上；所述密封墊圈362設(shè)置在所述處理腔31上的所述開孔37周圍的處理腔內(nèi)壁上。 進(jìn)一步，本實(shí)施例中的所述密封板361面向所述開孔37的一側(cè)面上設(shè)置有至少一圈環(huán)狀凸起結(jié)構(gòu)363，所述處理腔31上的開孔37周圍的處理腔內(nèi)壁上設(shè)置有對應(yīng)所述至少一圈環(huán)狀凸起結(jié)構(gòu)363的至少一圈環(huán)狀凹陷結(jié)構(gòu)364 ；在所述驅(qū)動桿33處于第一位置時，所述環(huán)狀凸起結(jié)構(gòu)363與所述環(huán)狀凹陷結(jié)構(gòu)364相對應(yīng)匹配形成密封。當(dāng)所述化學(xué)氣相沉積設(shè)備3準(zhǔn)備對所述襯底34進(jìn)行化學(xué)氣相沉積處理時，所述直線運(yùn)動裝置的驅(qū)動桿33向下做直線運(yùn)動，并帶動所述多根頂針332也向下做直線運(yùn)動，從而將支撐在頂針332上的襯底34放置在所述工作臺32上。與此同時，設(shè)置在位于處理腔 31內(nèi)部的驅(qū)動桿33上的密封板361跟隨所述驅(qū)動桿33下移，并當(dāng)所述驅(qū)動桿33處于第一位置時，密封板361壓緊所述密封墊圈362。此時，所述密封板361上的環(huán)狀凸起結(jié)構(gòu)363 同時緊密嵌設(shè)到對應(yīng)的環(huán)狀凹陷結(jié)構(gòu)364中。由此，所述環(huán)狀凸起結(jié)構(gòu)363和所述環(huán)狀凹陷結(jié)構(gòu)364構(gòu)成所述密封板361與所述處理腔31內(nèi)壁之間的密封，從而進(jìn)一步提高所述密封板361與所述處理腔31內(nèi)壁之間的密封效果，保證波紋管35免受反應(yīng)氣體的損害。實(shí)施例三如圖5所示，是示出了本發(fā)明的上述第一實(shí)施方式中的直線運(yùn)動裝置的實(shí)施例三的結(jié)構(gòu)示意圖。本實(shí)施例中的直線運(yùn)動裝置的結(jié)構(gòu)與上述兩個實(shí)施例中所述的直線運(yùn)動裝置的結(jié)構(gòu)基本相同，區(qū)別僅在于所述的密封機(jī)構(gòu)36。本實(shí)施例中的密封機(jī)構(gòu)36包含密封板361，所述密封板361固定設(shè)置在所述驅(qū)動桿33位于所述處理腔31密封空間的部分上。 所述密封板361包括一固定在所述驅(qū)動桿33上的支撐板365，一密封片367，以及多個彈性元件366 ；所述密封片367設(shè)置在所述支撐板365面向所述處理腔31上的開孔37的一側(cè)， 即設(shè)置在面向所述驅(qū)動桿33下移方向的一側(cè)面上；所述多個彈性元件366設(shè)置在所述支撐板365和所述密封片367之間、并連接所述支撐板365和所述密封片367的彈性元件366。 所述密封片367的厚度< 1mm，優(yōu)選地所述密封片367的厚度< 0. 5mm。因?yàn)楫?dāng)所述密封片 367較薄時，其可以在壓力作用下產(chǎn)生適當(dāng)?shù)男巫儯瑥亩@得更好的密封效果。當(dāng)所述化學(xué)氣相沉積設(shè)備3準(zhǔn)備對所述襯底34進(jìn)行化學(xué)氣相沉積處理時，所述直線運(yùn)動裝置的驅(qū)動桿33向下做直線運(yùn)動，并帶動所述多根頂針332也向下做直線運(yùn)動，從而將支撐在頂針332上的襯底34放置在所述工作臺32上。與此同時，設(shè)置在位于處理腔31內(nèi)部的驅(qū)動桿33上的密封板361跟隨所述驅(qū)動桿33下移，并當(dāng)所述驅(qū)動桿33處于第一位置時，所述密封板367覆蓋住處理腔31上的開孔37周圍的處理腔內(nèi)壁；然后在壓力作用下，所述支撐板365通過按壓所述彈性元件366，進(jìn)一步壓緊所述密封板367，并且使得密封板367產(chǎn)生適當(dāng)形變，從而實(shí)現(xiàn)密封所述處理腔31上的開孔37，使得反應(yīng)氣體無法進(jìn)入所述波紋管35的內(nèi)部，保護(hù)所述波紋管35免受損害。本實(shí)施例中的密封機(jī)構(gòu)36可以不使用所述密封墊圈362，因此可以用于高溫的、 不適用密封墊圈的化學(xué)氣相沉積設(shè)備中，使得在高溫下也能對波紋管35保持良好的密封效果。請同時參閱圖6和圖7，圖6是本實(shí)用新型化學(xué)氣相沉積設(shè)備第二實(shí)施方式的剖面結(jié)構(gòu)示意圖，圖7是圖6所示化學(xué)氣相沉積設(shè)備俯視結(jié)構(gòu)示意圖。該化學(xué)氣相沉積設(shè)備 3是一個連續(xù)的基板處理設(shè)備，其包括處理腔31，用于承載待處理基板34的工作臺32和直線運(yùn)動裝置。所述處理腔31限定了一個密封的空間，所述工作臺32設(shè)置在所述處理腔31 的密封空間中。所述的直線運(yùn)動裝置通過驅(qū)動傳輸輥?zhàn)?31來傳輸基板34。所述直線運(yùn)動裝置包含驅(qū)動桿33和波紋管35。其中，所述驅(qū)動桿33穿過設(shè)置在處理腔31上的開孔37延伸到所述處理腔31的外部，并與外部的伺服驅(qū)動機(jī)構(gòu)(圖中未示) 連接。所述驅(qū)動桿33能夠沿其軸線方向做直線運(yùn)動，所述傳輸輥331連接到所述驅(qū)動桿 33位于所述處理腔內(nèi)的一端，并在在所述驅(qū)動桿33的推動下，向處理腔31內(nèi)的方向直線轉(zhuǎn)動，用于支撐并傳輸基板34，并在所述化學(xué)氣相沉積設(shè)備3處理基板34時處于第一位置。 當(dāng)將基板34傳輸?shù)教幚砬?1內(nèi)的工作臺32上方時，多根頂針(圖未示)從所述傳輸輥331 抬升起所述基板34，傳輸輥331在所述驅(qū)動桿33的驅(qū)動下，向處理腔31外的方向直線移動回縮，所述多跟頂針下降，所述基板34被放置在工作臺32上，隨后基板34在處理腔31內(nèi)進(jìn)行沉積、蝕刻等處理。所述波紋管35設(shè)置在位于處理腔31外部的驅(qū)動桿33上。所述波紋管35的其中一端密封連接所述處理腔31上的開孔37周圍的反應(yīng)腔外壁，另一端密封連接所述驅(qū)動桿 33位于所述處理腔31外的部分。從而使得所述驅(qū)動桿33與所述處理腔31之間形成波紋管密封，防止所述處理腔31通過其上的開孔37發(fā)生反應(yīng)氣體的泄露，保證所述處理腔31 內(nèi)的密封空間的密封性。進(jìn)一步，所述直線運(yùn)動裝置還包含密封機(jī)構(gòu)36，由于所述密封機(jī)構(gòu)36與實(shí)施方式一中所述的三種不同實(shí)施例中任意一個相同，在此不再一一贅述。綜上所述，本實(shí)用新型中的襯底處理設(shè)備及其直線運(yùn)動裝置，由于在驅(qū)動桿位于處理腔密封空間內(nèi)的部分上設(shè)置有密封機(jī)構(gòu)，在襯底處理設(shè)備對襯底/基板進(jìn)行沉積等處理時，可以密封處理腔上的開孔，防止反應(yīng)氣體進(jìn)入波紋管內(nèi)部，從而保護(hù)波紋管免受損害，延長使用壽命，相應(yīng)也延長襯底處理設(shè)備的維護(hù)周期，降低成本。盡管本實(shí)用新型的內(nèi)容已經(jīng)通過上述優(yōu)選實(shí)施例作了詳細(xì)介紹，但應(yīng)當(dāng)認(rèn)識到上述的描述不應(yīng)被認(rèn)為是對本實(shí)用新型的限制。在本領(lǐng)域技術(shù)人員閱讀了上述內(nèi)容后，對于本實(shí)用新型的多種修改和替代都將是顯而易見的。因此，本實(shí)用新型的保護(hù)范圍應(yīng)由所附的權(quán)利要求來限定。
權(quán)利要求1.一種襯底處理設(shè)備，其包括處理腔(31)和直線運(yùn)動裝置；所述處理腔(31)具有開孔(37 )；所述直線運(yùn)動裝置包括驅(qū)動桿(33 )和波紋管(35 )；所述驅(qū)動桿(33)穿過所述處理腔(31)上的開孔(37)并延伸到所述處理腔(31)外，所述驅(qū)動桿(33)能夠沿其軸線方向做直線運(yùn)動并在所述襯底處理設(shè)備處理襯底時處于第一位置；所述波紋管(35)的一端密封連接所述處理腔(31)的開孔(37)周圍的處理腔外壁，另一端密封連接位于所述處理腔(31)外的所述驅(qū)動桿(33)；其特征在于，所述襯底處理設(shè)備還包含密封機(jī)構(gòu)(36)，所述密封機(jī)構(gòu)(36)包括設(shè)置在位于所述處理腔(31)內(nèi)部的驅(qū)動桿(33)上的密封板(361)，所述密封板(361)在所述驅(qū)動桿(33)處于第一位置時，密封所述開孔(37)。
2.如權(quán)利要求1所述襯底處理設(shè)備，其特征在于，所述密封機(jī)構(gòu)(36)還包括密封墊圈 (362)，所述密封墊圈(362)設(shè)置在所述處理腔(31)上的所述開孔(37)周圍的處理腔內(nèi)壁上；在所述驅(qū)動桿(33)處于第一位置時，所述密封板(361)壓緊所述密封墊圈(362)。
3.如權(quán)利要求1或2所述襯底處理設(shè)備，其特征在于，所述密封板(361)上設(shè)置有至少一圈環(huán)狀凸起結(jié)構(gòu)(363)，所述環(huán)狀突起結(jié)構(gòu)(363)設(shè)置在所述密封板(361)面向所述開孔(37)的一側(cè)面上，所述處理腔(31)上的開孔(37)周圍的處理腔內(nèi)壁上對應(yīng)設(shè)置有至少一圈環(huán)狀凹陷結(jié)構(gòu)(364);在所述驅(qū)動桿(33)處于第一位置時，所述環(huán)狀凸起結(jié)構(gòu)(363)與所述環(huán)狀凹陷結(jié)構(gòu)(364)相對應(yīng)匹配形成密封。
4.如權(quán)利要求1所述襯底處理設(shè)備，其特征在于，所述密封板(361)包括一固定在所述驅(qū)動桿(33)上的支撐板(365)，一密封片(367)，以及多個彈性元件(366)；所述密封片 (367)設(shè)置在所述支撐板(365)面向所述處理腔(31)上的開孔(37)的一側(cè)，所述多個彈性元件(366 )設(shè)置在所述支撐板(365 )和所述密封片(367 )之間、并連接所述支撐板(365 )和所述密封片(367)。
5.如權(quán)利要求4所述襯底處理設(shè)備，其特征在于，所述彈性元件(366)為U型彈簧。
6.如權(quán)利要求4或5所述襯底處理設(shè)備，其特征在于，所述密封片(367)的厚度<1mm。
7.如權(quán)利要求6所述襯底處理設(shè)備，其特征在于，所述密封片(367)的厚度<0. 5mm。
8.如權(quán)利要求1所述襯底處理設(shè)備，其特征在于，所述襯底處理設(shè)備還包括設(shè)置在所述處理腔內(nèi)的傳輸輥?zhàn)?331)，所述傳輸輥?zhàn)?331)與所述驅(qū)動桿(33)位于所述處理腔內(nèi)部分的一端連接，所述驅(qū)動桿(33)能夠驅(qū)動所述傳輸輥?zhàn)?331)轉(zhuǎn)動。
9.如權(quán)利要求1所述襯底處理設(shè)備，其特征在于，所述襯底處理設(shè)備還包括多根頂針 (332)，所述驅(qū)動桿(33)連接所述多根頂針(332)并驅(qū)動所述多根頂針(332)運(yùn)動。
10.如權(quán)利要求1所述襯底處理設(shè)備，其特征在于，該襯底處理設(shè)備為化學(xué)氣相沉積設(shè)備，所述處理腔(31)為化學(xué)氣相沉積腔。
專利摘要本實(shí)用新型公開了一種襯底處理設(shè)備，包括處理腔和直線運(yùn)動裝置；處理腔具有開孔；直線運(yùn)動裝置包括驅(qū)動桿和波紋管；驅(qū)動桿穿過所述處理腔上的開孔并延伸到處理腔外，且驅(qū)動桿能夠沿其軸線方向做直線運(yùn)動并在襯底處理設(shè)備處理襯底時處于第一位置；波紋管的一端密封連接處理腔開孔周圍的處理腔外壁，另一端密封連接驅(qū)動桿位于處理腔外的部分；所述襯底處理設(shè)備還包含密封機(jī)構(gòu)，其包括設(shè)置在位于處理腔內(nèi)部的驅(qū)動桿上的密封板，該密封板在驅(qū)動桿處于第一位置時，密封開孔。本實(shí)用新型通過在驅(qū)動桿位于處理腔密封空間內(nèi)的部分上設(shè)置密封機(jī)構(gòu)，以密封處理腔上的開孔，防止反應(yīng)氣體進(jìn)入波紋管內(nèi)部，從而有效解決現(xiàn)有技術(shù)中波紋管被反應(yīng)氣體侵蝕損害的問題。
文檔編號C23C16/44GK202116643SQ20112020715
公開日2012年1月18日 申請日期2011年6月20日 優(yōu)先權(quán)日2011年6月20日
發(fā)明者戶高良二, 李一成, 趙函一 申請人:理想能源設(shè)備(上海)有限公司