專利名稱：一種用于超薄基底的鍍膜夾具的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及光學(xué)鍍膜，特別特別是涉及到鍍膜時(shí)用的一種鍍膜夾具，尤其適合超薄基底的真空鍍膜。
背景技術(shù)：
鍍膜技術(shù)通常是在真空條件下采用物理或化學(xué)方法，使物體表面獲得所需的膜體。當(dāng)今真空鍍膜技術(shù)及設(shè)備擁有十分寬泛的應(yīng)用領(lǐng)域，并且在未來(lái)也擁有十分廣闊的發(fā)展前景。真空鍍膜技術(shù)特別用在制造大規(guī)模集成電路的電學(xué)膜、數(shù)字式縱向與橫向均可磁化的數(shù)據(jù)紀(jì)錄儲(chǔ)存膜中。還用于制作能充分展示和應(yīng)用各種光學(xué)特性的光學(xué)膜、在計(jì)算機(jī)顯示用的感光膜、在TFT、PDP平面顯示器上的導(dǎo)電膜和增透膜、在建筑、汽車行業(yè)上應(yīng)用的玻璃鍍膜和裝飾膜、在包裝領(lǐng)域用防護(hù)膜、阻隔膜。另外，在裝飾材料上具有各種功能裝飾效果的功能膜，在工、模具上應(yīng)用的耐磨超硬膜，在納米材料研究方面的各種功能性薄膜等等都是真空鍍膜技術(shù)及設(shè)備在廣泛應(yīng)用的基礎(chǔ)上得到的不斷發(fā)展的技術(shù)領(lǐng)域分支。在通常情況下，光學(xué)鍍膜對(duì)于真空環(huán)境要求更嚴(yán)，很小的缺陷都會(huì)影響其光學(xué)性能。鍍膜前，一般需要將玻璃基底清洗或擦拭干凈至無(wú)任何灰塵和污點(diǎn)后，放入特定的夾具中，為了最大的利用鍍膜效率，夾具直徑和鍍膜均勻區(qū)相仿，夾取方式多采用螺絲或彈簧固定。但對(duì)于某些特定領(lǐng)域，如超薄基底，如采用以上方式裝夾，基底在裝夾和鍍膜過(guò)程中容易因夾具和膜層的應(yīng)力而碎裂，造成鍍膜效率十分低。
發(fā)明內(nèi)容本實(shí)用新型的目的在于克服上述現(xiàn)有技術(shù)存在的不足，提供一種新型的用于超薄基底的鍍膜夾具。本實(shí)用新型的鍍膜夾具用于小尺寸超薄基底的大批量生產(chǎn)，要求能夠保護(hù)超薄基底使其安全可靠，生產(chǎn)效率高。為了達(dá)到上述發(fā)明目的，本實(shí)用新型提供的技術(shù)方案如下—種用于超薄基底的鍍膜夾具，其特征在于，該鍍膜夾具包括有金屬底座、磁鐵柱和金屬片，所述的金屬底座和金屬片均為導(dǎo)磁材料制成，所述的金屬底座上設(shè)有用于放置基片的凹槽和用于放置磁鐵柱的小孔，所述的小孔位于凹槽的邊角位置，所述磁鐵柱放置小孔內(nèi)以吸附在金屬底座上，所述的金屬片吸附于磁鐵柱的頂端，所述的金屬片外徑大于磁鐵柱的外徑。在本實(shí)用新型的用于超薄基底的鍍膜夾具中，所述金屬底座上的凹槽為方形，多個(gè)方形的凹槽以方陣的形式規(guī)則排列，所述的小孔位于凹槽的頂角處。在本實(shí)用新型的用于超薄基底的鍍膜夾具中，四個(gè)相鄰的方形凹槽直角頂角相對(duì)處共用一個(gè)小孔。在本實(shí)用新型的用于超薄基底的鍍膜夾具中，所述的金屬片為圓形，其直徑大于磁鐵柱的直徑，同圓心吸附于磁鐵柱頂端的金屬片部分伸出，金屬片的伸出部分用以壓住凹槽內(nèi)的基片?；谏鲜黾夹g(shù)方案，本實(shí)用新型的鍍膜夾具在超薄基底的生產(chǎn)過(guò)程中具有如下技術(shù)效果1.本實(shí)用新型的鍍膜夾具將金屬底座上制作出很多小區(qū)域的凹槽，每個(gè)凹槽中均制作小面積的基片，可實(shí)現(xiàn)小基片的大批量鍍膜。2.本實(shí)用新型的鍍膜夾具采用磁鐵的磁力吸引固定基片，基片限定在一定范圍內(nèi)，基片的四周均壓有金屬片，使其不能脫離其所在的凹槽范圍，這樣鍍膜過(guò)程中基片不易被壓碎，而且因磁性吸附方式固定，整個(gè)設(shè)備拆裝十分簡(jiǎn)單方便。

圖1是本實(shí)用新型一種用于超薄基底的鍍膜夾具中金屬底座的俯視結(jié)構(gòu)圖。圖2是本實(shí)用新型一種用于超薄基底的鍍膜夾具中磁鐵柱的結(jié)構(gòu)示意圖。圖3是本實(shí)用新型一種用于超薄基底的鍍膜夾具中金屬片的結(jié)構(gòu)示意圖。圖4是本實(shí)用新型一種用于超薄基底的鍍膜夾具的工作狀態(tài)示意圖。
具體實(shí)施方式
下面我們結(jié)合附圖和具體的實(shí)施案例來(lái)對(duì)本實(shí)用新型的鍍膜夾具做進(jìn)一步的詳細(xì)闡述，以求更為清楚明了地理解本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)和工作過(guò)程，但不能以此來(lái)限制本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。本實(shí)用新型用于超薄基底的鍍膜夾具的主要結(jié)構(gòu)包括有金屬底座1、磁鐵柱2和金屬片3ο上述的金屬底座1和金屬片3均采用導(dǎo)磁材料制成，目的是便于磁鐵吸附。這里的導(dǎo)磁材料可以是鋼鐵等金屬材料，要求其可以吸引磁鐵。金屬底座3的結(jié)構(gòu)如圖1所示，圖1是本實(shí)用新型一種用于超薄基底的鍍膜夾具中金屬底座的俯視結(jié)構(gòu)圖。在金屬底座3上設(shè)有凹槽11和小孔12。其中，凹槽11是為了放置基片4，小孔12則是用于放置磁鐵柱2。小孔12位于凹槽11的邊角位置，磁鐵柱2放置小孔12內(nèi)以吸附在金屬底座1上。金屬片3吸附于磁鐵柱2的頂端，本實(shí)用新型中要求金屬片3外徑大于磁鐵柱2 的外徑。其目的是在金屬片3吸附在磁鐵柱2的頂端時(shí)，金屬片3要部分突出于磁鐵柱2， 這樣金屬片3就可以對(duì)位于多個(gè)磁鐵柱2之間凹槽11內(nèi)的基片4起到保護(hù)作用，將其限制在凹槽11不至于脫離。另外，由于是磁鐵吸附，安裝與拆除都很方便，大大提高生產(chǎn)效率。作為本實(shí)用新型的一個(gè)應(yīng)用實(shí)例，金屬底座1設(shè)計(jì)為圓形盤狀，而金屬底座1上的凹槽11則是方形，多個(gè)方形的凹槽11以方陣的形式規(guī)則排列，所述的小孔12位于凹槽11 的頂角處。在金屬底座1上，每四個(gè)相鄰的方形的凹槽11在四個(gè)直角頂角相對(duì)處共用一個(gè)小孔12。確保每個(gè)方形的凹槽11的四個(gè)頂角位置處均有一個(gè)小孔12。如圖2和圖3所示，金屬片3設(shè)計(jì)為圓形，其直徑大于圓形的磁鐵柱2的直徑，在使用時(shí)，要求金屬片3同圓心吸附于磁鐵柱2的頂端，這樣磁鐵柱2上的金屬片3的邊緣部分就會(huì)伸出，伸出部分的金屬片3在金屬底座1上投影在凹槽11內(nèi)。方形的基片4大小與方形的凹槽11相當(dāng)，其放置在方形的凹槽11內(nèi)，由于金屬片11邊緣部分會(huì)延伸到凹槽11的上方，這就會(huì)對(duì)凹槽11內(nèi)的基片4造成限制，使其在生產(chǎn)過(guò)程中不會(huì)脫離凹槽11。在基片4放置到凹槽11內(nèi)時(shí)，如圖4所示。在本實(shí)用新型的鍍膜夾具裝備時(shí)，先將基片4放于金屬底座1的凹槽11內(nèi)，磁鐵柱2裝于金屬底座1的小孔內(nèi)，最后采用金屬圓片3壓住基片4。在放置過(guò)程中，金屬圓片 3以與小孔12保持同心圓，靠磁鐵的磁力與金屬底座1緊密連接并固定基片4。本實(shí)用新型采用磁性定位，裝夾拆卸簡(jiǎn)單，相對(duì)于螺絲定位，基片受力均勻，受力大小適中，適合超薄基底等對(duì)機(jī)械性能要求很高的鍍膜。同時(shí)，將鍍膜夾具底座分割成很多小區(qū)域凹槽，可實(shí)現(xiàn)小基片的大批量鍍膜。
權(quán)利要求1.一種用于超薄基底的鍍膜夾具，其特征在于，該鍍膜夾具包括有金屬底座(1)、磁鐵柱(2)和金屬片(3)，所述的金屬底座(1)和金屬片(3)均為導(dǎo)磁材料制成，所述的金屬底座(3)上設(shè)有用于放置基片(4)的凹槽(11)和用于放置磁鐵柱(2)的小孔(12)，所述的小孔(12)位于凹槽(11)的邊角位置，所述磁鐵柱(2)放置小孔(12)內(nèi)以吸附在金屬底座(1) 上，所述的金屬片(3)吸附于磁鐵柱(2)的頂端，所述的金屬片(3)外徑大于磁鐵柱(2)的外徑。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于超薄基底的鍍膜夾具，其特征在于，所述金屬底座 (1)上的凹槽(11)為方形，多個(gè)方形的凹槽(11)以方陣的形式規(guī)則排列，所述的小孔(12) 位于凹槽(11)的頂角處。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種用于超薄基底的鍍膜夾具，其特征在于，四個(gè)相鄰的方形凹槽(11)直角頂角相對(duì)處共用一個(gè)小孔(12)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于超薄基底的鍍膜夾具，其特征在于，所述的金屬片 (3)為圓形，其直徑大于磁鐵柱(2)的直徑，同圓心吸附于磁鐵柱(2)頂端的金屬片(3)，該金屬片(3)部分伸出以壓住凹槽(11)內(nèi)的基片0)。
專利摘要本實(shí)用新型涉及一種用于超薄基底的鍍膜夾具，該鍍膜夾具包括有金屬底座、磁鐵柱和金屬片，所述的金屬底座和金屬片均為導(dǎo)磁材料制成，所述的金屬底座上設(shè)有用于放置基片的凹槽和用于放置磁鐵柱的小孔，所述的小孔位于凹槽的邊角位置，所述磁鐵柱放置小孔內(nèi)以吸附在金屬底座上，所述的金屬片吸附于磁鐵柱的頂端，所述的金屬片外徑大于磁鐵柱的外徑。本實(shí)用新型的鍍膜夾具用于小尺寸超薄基底的大批量生產(chǎn)，使得超薄基底的生產(chǎn)安全可靠，且生產(chǎn)效率高。
文檔編號(hào)C23C14/50GK202193840SQ20112028298
公開(kāi)日2012年4月18日 申請(qǐng)日期2011年8月5日 優(yōu)先權(quán)日2011年8月5日
發(fā)明者劉毅楠, 張欽廉, 曹嘉寰, 李傳文, 班超, 程春生, 符東浩, 趙浩 申請(qǐng)人:平湖中天合波通信科技有限公司