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      導(dǎo)光板拋光機(jī)的制作方法

      文檔序號(hào):3386681閱讀:405來(lái)源:國(guó)知局
      專利名稱:導(dǎo)光板拋光機(jī)的制作方法
      技術(shù)領(lǐng)域
      本實(shí)用新型與導(dǎo)光板的制成設(shè)備有關(guān),特別是關(guān)于一種導(dǎo)光板拋光機(jī)。
      背景技術(shù)
      因?yàn)橐壕聊皇褂玫钠占埃沟靡壕聊坏男枨笠搽S之增加。液晶屏幕是由導(dǎo)光板、散光膜、分光膜、光源及液晶等等不同的構(gòu)件所組合而成的一個(gè)產(chǎn)品。在這之中目前就導(dǎo)光板的制造上需要經(jīng)過(guò)切割、粗磨、細(xì)磨等等的加工程序,但是目前并沒(méi)有一個(gè)較為完整且自動(dòng)化的加工機(jī)具產(chǎn)生。

      實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型的主要目的在于提供一種加工快速、操作簡(jiǎn)便的導(dǎo)光板拋光機(jī)。為達(dá)成前述的實(shí)用新型目的,本實(shí)用新型所提供的導(dǎo)光板拋光機(jī)包含有一基座,該基座上設(shè)有一臺(tái)面。一吸附裝置,設(shè)于該基座上,該吸附裝置包含有一吸盤,該移動(dòng)座能夠在該基座的臺(tái)面上沿一軸向移動(dòng),該吸盤能夠吸住要加工研磨拋光的導(dǎo)光板而隨著該移動(dòng)座移動(dòng)。二初研磨裝置,設(shè)于該基臺(tái)臺(tái)面上且分別位于該吸附裝置兩側(cè),該二初研磨裝置能夠同步或不同步的朝該導(dǎo)軌移動(dòng)靠近該導(dǎo)軌及后退遠(yuǎn)離該導(dǎo)軌,該二初研磨裝置各具有一初研磨頭,各初研磨頭由一驅(qū)動(dòng)裝置驅(qū)使轉(zhuǎn)動(dòng)。二細(xì)研磨裝置,設(shè)于該基臺(tái)臺(tái)面上且分別位于該吸附裝置的兩側(cè),該二細(xì)研磨裝置能夠同步或不同步的朝該導(dǎo)軌移動(dòng)靠近該導(dǎo)軌及后退遠(yuǎn)離該導(dǎo)軌,該二細(xì)研磨裝置各具有一細(xì)研磨頭,各細(xì)研磨頭由一驅(qū)動(dòng)裝置驅(qū)使轉(zhuǎn)動(dòng)。一移載裝置,設(shè)于該基臺(tái)的一側(cè),該移載裝置包含有一移載導(dǎo)軌以及一吸取座組,該移載導(dǎo)軌通過(guò)一架體設(shè)立于該臺(tái)面上,該吸取座組則設(shè)于該移載導(dǎo)軌并能夠沿該移載導(dǎo)軌的軸向往復(fù)移動(dòng),該吸取座組具有一吸盤。一控制臺(tái),設(shè)于該基臺(tái)上,用于控制該導(dǎo)光板拋光機(jī)的動(dòng)作。本實(shí)用新型所公開(kāi)的導(dǎo)光板拋光機(jī)具有的有益效果是使導(dǎo)光板側(cè)邊的研磨拋光加工在一機(jī)臺(tái)上一體完成,不僅節(jié)省加工的時(shí)間也降低導(dǎo)光板在加工的過(guò)程中搬運(yùn)或移動(dòng)時(shí)造成損壞的風(fēng)險(xiǎn),有效的提升加工的效率與良率。

      圖I是本實(shí)用新型的立體圖。圖2是本實(shí)用新型的頂視圖。圖3是本實(shí)用新型的正面視圖。圖4是本實(shí)用新型的局部零件的正面視圖。圖5是本實(shí)用新型的局部零件的側(cè)面視圖。主要元件符號(hào)說(shuō)明基座10臺(tái)面11吸附裝置20吸盤21[0014]移動(dòng)座22導(dǎo)軌23初研磨裝置30初研磨頭31驅(qū)動(dòng)裝置32細(xì)研磨裝置40細(xì)研磨頭41驅(qū)動(dòng)裝置42刀具移動(dòng)座50移載裝置60移載導(dǎo)軌61吸取座組62架體63伸縮臂64吸盤65定位裝置70 感應(yīng)器71控制臺(tái)80
      具體實(shí)施方式
      為使本實(shí)用新型的目的、技術(shù)方案和優(yōu)點(diǎn)更加清楚明白,以下結(jié)合具體實(shí)施例,并參照附圖,對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)一步詳細(xì)說(shuō)明。請(qǐng)參閱圖I至圖5,本實(shí)用新型導(dǎo)光板拋光機(jī)包含有一基座10,該基座上設(shè)有一臺(tái)面11。一吸附裝置20,設(shè)于該基座10上,該吸附裝置20包含有一吸盤21、一設(shè)于該吸盤下的移動(dòng)座22以及一組設(shè)于該臺(tái)面上的導(dǎo)軌23。該移動(dòng)座20可沿該等導(dǎo)軌23在該基座10的臺(tái)面上沿一軸向移動(dòng)。該吸盤21可吸住要加工研磨拋光的導(dǎo)光板而隨著該移動(dòng)座22移動(dòng),并且該吸盤21可以相對(duì)于該移動(dòng)座22轉(zhuǎn)動(dòng)。二初研磨裝置30,設(shè)于該基臺(tái)10臺(tái)面上且分別位于該吸附裝置20的兩側(cè),該二初研磨裝置可以同步或不同步的朝該導(dǎo)軌移動(dòng)靠近該導(dǎo)軌23及后退遠(yuǎn)離該導(dǎo)軌23。該二初研磨裝置各具有一初研磨頭31,該二初研磨頭的轉(zhuǎn)軸向垂直于該導(dǎo)軌23的軸向。其最好的設(shè)置方向是與吸附裝置中所吸附導(dǎo)光板板面的法向量平行。各初研磨頭由一驅(qū)動(dòng)裝置32驅(qū)使轉(zhuǎn)動(dòng)。二細(xì)研磨裝置40,設(shè)于該基臺(tái)10臺(tái)面上且分別位于該吸附裝置20的兩側(cè),該二細(xì)研磨裝置可以同步或不同步的朝該導(dǎo)軌移動(dòng)靠近該導(dǎo)軌23及后退遠(yuǎn)離該導(dǎo)軌23。該二細(xì)研磨裝置各具有一細(xì)研磨頭41,該細(xì)研磨頭轉(zhuǎn)軸的軸向垂直于該導(dǎo)軌23的軸向且與該初研磨頭轉(zhuǎn)軸的軸向垂直,其最好的設(shè)置方向是與吸附裝置20中所吸附導(dǎo)光板板面的法向量垂直。各細(xì)研磨頭41由一驅(qū)動(dòng)裝置42驅(qū)使轉(zhuǎn)動(dòng)。位于該導(dǎo)軌23同一側(cè)的初研磨裝置30以及細(xì)研磨裝置40可以設(shè)置在同一刀具移動(dòng)座50上,通過(guò)該刀具移動(dòng)座50朝該導(dǎo)軌23移動(dòng)靠近或是后退遠(yuǎn)離可以使該初研磨裝置30與該細(xì)研磨裝置40同時(shí)朝該導(dǎo)軌23靠近或遠(yuǎn)離。位于該導(dǎo)軌兩側(cè)的刀具移動(dòng)座50可以同步的朝該導(dǎo)軌靠近或遠(yuǎn)離?!戚d裝置60,設(shè)于該基臺(tái)10的一側(cè),該移載裝置包含有一移載導(dǎo)軌61以及一吸取座組62。該移載導(dǎo)軌61通過(guò)一架體63設(shè)立于該臺(tái)面11上。該吸取座組62則設(shè)于該移載導(dǎo)軌61并可沿該移載導(dǎo)軌的軸向往復(fù)移動(dòng)。該吸取座組62具有一可伸長(zhǎng)及縮合的伸縮臂64以及一該于該伸縮一端的吸盤65。該伸縮臂64可以向下延伸使該吸盤65接近該基臺(tái)臺(tái)面11與向上縮合使該吸盤65遠(yuǎn)離該基臺(tái)臺(tái)面。一定位裝置70,設(shè)于該基臺(tái)10臺(tái)面的一側(cè)且位于該導(dǎo)軌23的一端,該定位裝置包含有至少二感應(yīng)器71,在本實(shí)施例中該感應(yīng)器為一觸控開(kāi)關(guān),用以供導(dǎo)光板的一側(cè)邊觸接,使導(dǎo)光板在設(shè)置于該吸盤時(shí)導(dǎo)光板的兩邊可以與導(dǎo)軌平行。—控制臺(tái)80,設(shè)于該基臺(tái)10上,用于控制該導(dǎo)光板拋光機(jī)的動(dòng)作。以上述的結(jié)構(gòu)本實(shí)用新型在進(jìn)行導(dǎo)光板研磨拋光時(shí)其操作的方式為當(dāng)要加工的導(dǎo)光板被放置在吸附裝置20的吸盤21上時(shí),該吸盤21會(huì)吸附著導(dǎo)光板沿著該導(dǎo)軌23移動(dòng),在移動(dòng)時(shí)該二初研磨裝置30及該二細(xì)研磨裝置40會(huì)靠近該導(dǎo)軌23,利用各研磨裝置的研磨頭對(duì)導(dǎo)光板的側(cè)邊進(jìn)行研磨拋光的加工動(dòng)作。若要對(duì)于導(dǎo)光板的四個(gè)邊都進(jìn)行研磨拋光的加工動(dòng)作時(shí),該吸盤21會(huì)吸附著導(dǎo)光板沿著該導(dǎo)軌23移動(dòng),在移動(dòng)時(shí)該二初研磨裝置30及該二細(xì)研磨裝置40會(huì)靠近該導(dǎo)軌,利用各研磨裝置的研磨頭對(duì)導(dǎo)光板的二側(cè)邊進(jìn)行研磨拋光的加工動(dòng)作。之后該吸附裝置的吸盤21會(huì)轉(zhuǎn)動(dòng)九十度并且沿該導(dǎo)軌23再退回原點(diǎn),然后再重新沿導(dǎo)軌移動(dòng)一次。此時(shí)該二初研磨裝置30及該二細(xì)研磨裝置40會(huì)再次的靠近該導(dǎo)軌,利用各研磨裝置的研磨頭對(duì)導(dǎo)光板的另外二側(cè)邊進(jìn)行研磨拋光的加工動(dòng)作。等導(dǎo)光板的側(cè)邊研磨拋光完成后該移載裝置60的吸盤65會(huì)吸取該導(dǎo)光板然后沿該移載導(dǎo)軌61移動(dòng),將該導(dǎo)光板移出基臺(tái)10去進(jìn)行下一階段的加工動(dòng)作。以本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)可以使導(dǎo)光板側(cè)邊的研磨拋光加工在一機(jī)臺(tái)上一體完成,不僅節(jié)省加工的時(shí)間也降低導(dǎo)光板在加工的過(guò)程中搬運(yùn)或移動(dòng)時(shí)造成損壞的風(fēng)險(xiǎn),有效的提升加工的效率與良率。以上所述的具體實(shí)施例,對(duì)本實(shí)用新型的目的、技術(shù)方案和有益效果進(jìn)行了進(jìn)一步詳細(xì)說(shuō)明,所應(yīng)理解的是,以上所述僅為本實(shí)用新型的具體實(shí)施例而已,并不用于限制本實(shí)用新型,凡在本實(shí)用新型的精神和原則的內(nèi),所做的任何修改、等同替換、改進(jìn)等,均應(yīng)包含在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。
      權(quán)利要求1.一種導(dǎo)光板拋光機(jī),其特征在于,包含有 一基座,該基座上設(shè)有一臺(tái)面; 一吸附裝置,設(shè)于該基座上,該吸附裝置包含有一吸盤,該移動(dòng)座能夠在該基座的臺(tái)面上沿一軸向移動(dòng),該吸盤能夠吸住要加工研磨拋光的導(dǎo)光板而隨著該移動(dòng)座移動(dòng); 二初研磨裝置,設(shè)于該基臺(tái)臺(tái)面上且分別位于該吸附裝置兩側(cè),該二初研磨裝置能夠同步或不同步的朝該導(dǎo)軌移動(dòng)靠近該導(dǎo)軌及后退遠(yuǎn)離該導(dǎo)軌,該二初研磨裝置各具有一初研磨頭,各初研磨頭由一驅(qū)動(dòng)裝置驅(qū)使轉(zhuǎn)動(dòng); 二細(xì)研磨裝置,設(shè)于該基臺(tái)臺(tái)面上且分別位于該吸附裝置的兩側(cè),該二細(xì)研磨裝置能夠同步或不同步的朝該導(dǎo)軌移動(dòng)靠近該導(dǎo)軌及后退遠(yuǎn)離該導(dǎo)軌,該二細(xì)研磨裝置各具有一細(xì)研磨頭,各細(xì)研磨頭由一驅(qū)動(dòng)裝置驅(qū)使轉(zhuǎn)動(dòng); 一移載裝置,設(shè)于該基臺(tái)的一側(cè),該移載裝置包含有一移載導(dǎo)軌以及一吸取座組,該移載導(dǎo)軌通過(guò)一架體設(shè)立于該臺(tái)面上,該吸取座組則設(shè)于該移載導(dǎo)軌并能夠沿該移載導(dǎo)軌的軸向往復(fù)移動(dòng),該吸取座組具有一吸盤; 一控制臺(tái),設(shè)于該基臺(tái)上,用于控制該導(dǎo)光板拋光機(jī)的動(dòng)作。
      2.依據(jù)權(quán)利要求I所述的導(dǎo)光板拋光機(jī),其特征在于,其中該吸附裝置包含有該吸盤、一設(shè)于該吸盤下的移動(dòng)座以及一組設(shè)于該臺(tái)面上的導(dǎo)軌,該移動(dòng)座能夠沿該等導(dǎo)軌在該基座的臺(tái)面上沿一軸向移動(dòng)。
      3.依據(jù)權(quán)利要求2所述的導(dǎo)光板拋光機(jī),其特征在于,其中該吸盤能夠相對(duì)于該移動(dòng)座轉(zhuǎn)動(dòng)。
      4.依據(jù)權(quán)利要求2所述的導(dǎo)光板拋光機(jī),其特征在于,其中該二初研磨頭的轉(zhuǎn)軸軸向垂直于該導(dǎo)軌的軸向,平行于吸附裝置中所吸附導(dǎo)光板板面的法向量。
      5.依據(jù)權(quán)利要求2所述的導(dǎo)光板拋光機(jī),其特征在于,其中該細(xì)研磨頭轉(zhuǎn)軸的軸向垂直于該導(dǎo)軌的軸向且與該初研磨頭轉(zhuǎn)軸的軸向垂直,并與吸附裝置中所吸附導(dǎo)光板板面的法向量垂直。
      6.依據(jù)權(quán)利要求2所述的導(dǎo)光板拋光機(jī),其特征在于,其中該導(dǎo)軌同一側(cè)的初研磨裝置以及細(xì)研磨裝置能夠設(shè)置在同一刀具移動(dòng)座上,通過(guò)該刀具移動(dòng)座朝該導(dǎo)軌移動(dòng)靠近或是后退遠(yuǎn)離能夠使該初研磨裝置與該細(xì)研磨裝置同時(shí)朝該導(dǎo)軌靠近或遠(yuǎn)離。
      7.依據(jù)權(quán)利要求6所述的導(dǎo)光板拋光機(jī),其特征在于,其中該吸取座組具有一能夠伸長(zhǎng)及縮合的伸縮臂,該吸盤則設(shè)于該伸縮一端,該伸縮臂能夠向下延伸使該吸盤接近該基臺(tái)臺(tái)面與向上縮合使該吸盤遠(yuǎn)離該基臺(tái)臺(tái)面。
      8.依據(jù)權(quán)利要求2所述的導(dǎo)光板拋光機(jī),其特征在于,其中更包含有一定位裝置,設(shè)于該基臺(tái)臺(tái)面的一側(cè)且位于該導(dǎo)軌的一端,該定位裝置包含有至少二感應(yīng)器,使導(dǎo)光板在設(shè)置于該吸盤時(shí)導(dǎo)光板的兩邊能夠與導(dǎo)軌平行。
      9.依據(jù)權(quán)利要求8所述的導(dǎo)光板拋光機(jī),其特征在于,其中該感應(yīng)器為一觸控開(kāi)關(guān)。
      專利摘要本實(shí)用新型公開(kāi)了一種導(dǎo)光板拋光機(jī),包含有一基座。一吸附裝置,設(shè)于基座上,移動(dòng)座能夠在該基座的臺(tái)面上沿一軸向移動(dòng)。二初研磨裝置,設(shè)于基臺(tái)上且分別位于吸附裝置兩側(cè),該二初研磨裝置各具有一初研磨頭。二細(xì)研磨裝置,設(shè)于基臺(tái)上且分別位于吸附裝置的兩側(cè),二細(xì)研磨裝置各具有一細(xì)研磨頭。一移載裝置,設(shè)于基臺(tái)的一側(cè),移載裝置包含有一移載導(dǎo)軌以及一吸取座組,移載導(dǎo)軌通過(guò)一架體設(shè)立于臺(tái)面上,吸取座組則設(shè)于移載導(dǎo)軌并能夠沿移載導(dǎo)軌的軸向往復(fù)移動(dòng)。一控制臺(tái),設(shè)于基臺(tái)上,用于控制導(dǎo)光板拋光機(jī)的動(dòng)作。
      文檔編號(hào)B24B29/06GK202507159SQ201120461598
      公開(kāi)日2012年10月31日 申請(qǐng)日期2011年11月18日 優(yōu)先權(quán)日2011年11月18日
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