專利名稱：氣體噴灑模塊的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型是有關(guān)于一種氣體噴灑模塊，且特別是有關(guān)于一種具有氣體分布板，能使氣體更均勻地噴出的氣體噴灑模塊。
背景技術(shù)：
隨著鍍膜工藝的發(fā)展，在化學(xué)氣相沉積的反應(yīng)過程中，如何將氣體均勻地噴灑到腔室中便成為重要的問題。對此，氣體噴灑模塊(gas shower module),特別是氣體噴灑頭(gas showerhead)扮演了重要的角色。針對氣體噴灑模塊或氣體噴灑頭的設(shè)計(jì)與結(jié)構(gòu)，已經(jīng)有多種專利提出。美國專利US 7138336B2與美國專利US 7641939B2采用噴灑頭進(jìn)氣、腔室側(cè)邊抽氣的方式控制氣體進(jìn)出。美國專利US 6921437揭露一種可預(yù)先混合先驅(qū)氣體的氣體分布模塊，但不適用于先 驅(qū)氣體不可預(yù)先混合的工藝。美國專利US 6478872揭露一種將氣體輸送至腔室的方法，以及用于輸送氣體的噴灑頭。然而該設(shè)計(jì)的構(gòu)造復(fù)雜，且制造成本昂貴。

實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型提供一種氣體噴灑模塊，相較于已知的氣體噴灑模塊可更均勻地噴灑氣體。本實(shí)用新型提出一種氣體噴灑模塊，包括噴灑頭主體、供氣板、氣體分布板以及氣體噴灑板。噴灑頭主體具有氣體噴灑面與相對氣體噴灑面的進(jìn)氣面。供氣板設(shè)于噴灑頭主體的進(jìn)氣面，其中供氣板具有至少一第一氣孔。氣體分布板設(shè)于氣體噴灑面與進(jìn)氣面之間的噴灑頭主體內(nèi)，其中氣體分布板具有多個第二氣孔。氣體噴灑板設(shè)于噴灑頭主體的氣體噴灑面，其中氣體噴灑板具有多個第三氣孔，使一氣體經(jīng)由供氣板的第一氣孔流入噴灑頭主體內(nèi)，并經(jīng)氣體分布板的第二氣孔擴(kuò)散至氣體噴灑板，再自第三氣孔噴出。供氣板與氣體分布板的間距在之間。氣體分布板與氣體噴灑板的間距在之間。第一氣孔的數(shù)量與第二氣孔的數(shù)量的比例在I : 4-1 100之間。第二氣孔的數(shù)量與第三氣孔的數(shù)量的比例在I : 4-1 100之間。第二氣孔的數(shù)量在900個-1050個之間。第二氣孔是沿氣體分布板的表面上的兩垂直方向呈45度角對稱分布。在本實(shí)用新型的一實(shí)施例中，上述的第一氣孔與第二氣孔非相對設(shè)置。在本實(shí)用新型的一實(shí)施例中，上述的第二氣孔與第三氣孔非相對設(shè)置。在本實(shí)用新型的一實(shí)施例中，上述的供氣板與氣體分布板互相平行。在本實(shí)用新型的一實(shí)施例中，上述的氣體分布板與氣體噴灑板互相平行。在本實(shí)用新型的一實(shí)施例中，上述的第一氣孔的直徑在I.之間。在本實(shí)用新型的一實(shí)施例中，上述的第二氣孔的直徑在I.之間。在本實(shí)用新型的一實(shí)施例中，上述的第三氣孔的直徑在1.5mm-9mm之間。本實(shí)用新型的有益效果是相較于已知的氣體噴灑模塊可更均勻地噴灑氣體。
為讓本實(shí)用新型的上述特征能更明顯易懂，下文特舉實(shí)施例，并配合附圖作詳細(xì)說明如下，其中圖I是依照本實(shí)用新型一實(shí)施例所繪示的氣體噴灑模塊示意圖。圖2A是依照本實(shí)用新型一實(shí)施例所繪示的進(jìn)氣板俯視圖。圖2B是依照本實(shí)用新型一實(shí)施例所繪示的氣體分布板俯視圖。圖2C是依照本實(shí)用新型一實(shí)施例所繪示的氣體噴灑板俯視圖。圖3A是依照本實(shí)用新型另一實(shí)施例所繪示的進(jìn)氣板俯視圖。 圖3B是依照本實(shí)用新型另一實(shí)施例所繪示的氣體分布板俯視圖。圖3C是依照本實(shí)用新型另一實(shí)施例所繪示的氣體噴灑板俯視圖。
具體實(shí)施方式
圖I是依照本實(shí)用新型一實(shí)施例所繪示的氣體噴灑模塊的示意圖。請參照圖I。氣體噴灑模塊100包括噴灑頭主體102、供氣板104、氣體分布板106以及氣體噴灑板108。噴灑頭主體102具有氣體噴灑面102a以及相對氣體噴灑面102a的進(jìn)氣面102b。供氣板104設(shè)置于進(jìn)氣面102b，其中供氣板104具有第一氣孔104a。氣體分布板106設(shè)置于噴灑頭主體102內(nèi)位于氣體噴灑面102a與進(jìn)氣面102b之間，其中氣體分布板106具有多個第二氣孔106a。氣體噴灑板108設(shè)置于氣體噴灑面102a，其中氣體噴灑板108具有多個第三氣孔108a。在本實(shí)施例中，供氣板104與氣體分布板106的間距Dl在之間，氣體分布板106與氣體噴灑板108的間距D2在之間。第一氣孔104a的數(shù)量與第二氣孔106a的數(shù)量的比例在I : 4-1 100之間，第二氣孔106a的數(shù)量與第三氣孔108a的數(shù)量的比例在I : 4-1 100之間。第二氣孔的數(shù)量在900個-1050個之間。第二氣孔是沿氣體分布板106的表面上的兩垂直方向呈45度角對稱分布。圖I以I : 4 : 16呈現(xiàn)第一氣孔104a、第二氣孔106a以及第三氣孔108a的數(shù)量的比例，其僅為例示作用，并非用以限制本實(shí)用新型。供氣板104與氣體分布板106例如互相平行。氣體分布板106與氣體噴灑板108例如互相平行。圖2A至圖2C分別是進(jìn)氣板104、氣體分布板106及氣體噴灑板108的俯視圖。請一并參照圖2A至圖2C。在本實(shí)施例中，進(jìn)氣板104的第一氣孔104a與氣體分布板106的第二氣孔106a是為彼此錯位、并非相對配置，且氣體分布板106的第二氣孔106a與氣體噴灑板108的第三氣孔108a亦為彼此錯位、并非相對配置。在本實(shí)施例中，第一氣孔104a的直徑Rl在I. 之間，第二氣孔106a的直徑R2在I.之間，第三氣孔108a的直徑R3在I. 之間。如圖2A至圖2C所示，在本實(shí)施例中，Rl > R2 > R3，而在本實(shí)用新型另一實(shí)施例中，Rl > R2 = R3，如圖3A至圖3C所示；但以上僅為例示作用而已，并非用以限制本實(shí)用新型，在本實(shí)用新型其他實(shí)施例中，Rl、R2與R3的相對大小也可與前述的不同。在前述各實(shí)施例中，供氣板104、氣體分布板106及氣體噴灑板108均為圓形板,但本實(shí)用新型并不以此為限，其形狀可視需求適當(dāng)調(diào)整。本實(shí)用新型的氣體噴灑模塊還可參考中國臺灣專利公開號第201021095號(專利名稱氣體噴灑模塊)所揭露的氣體分布噴灑模塊的部份特征，在此以引用的方式將該申請案并入本文之中。例如在圖I的噴灑頭主體102還可具有多個凹槽，且凹槽內(nèi)可容置密封元件(未繪示)，如為O型環(huán)(O-ring)。上述氣體噴灑模塊100例如可使用螺絲釘及螺孔(未繪示)將供氣板102、氣體分布板106以及氣體噴灑板108固定于噴灑頭主體102的凹槽，并利用密封元件(未繪示)達(dá)到氣密效果。另外，例如還可以在圖I的供氣板102、氣體分布板104以及氣體噴灑板106中各開設(shè)至少一冷卻通道(未繪示)，以將供氣板102、氣體分布板104以及氣體噴灑板106維持于預(yù)定溫度。本實(shí)用新型的氣體噴灑模塊具有非相對設(shè)置的第一氣孔、第二氣孔以及第三氣孔，所以氣體由第一氣孔進(jìn)入噴灑頭主體后，先在進(jìn)氣板與氣體分布板之間的區(qū)域擴(kuò)散，達(dá)到較均勻的分布后，才通過第二氣孔進(jìn)入氣體分布板與氣體噴灑板之間的區(qū)域，并且在此區(qū)域再次擴(kuò)散，最后由第三氣孔噴出。這種設(shè)計(jì)使最后噴出的氣體的濃度分布更為均勻，可提·升工藝的良率。在本實(shí)用新型的設(shè)計(jì)中，最后噴出的氣體均勻度受許多因素影響，例如進(jìn)氣板與氣體分布板的間距、氣體分布板與氣體噴灑板的間距、第一氣孔、第二氣孔以及第三氣孔的直徑、各氣孔的數(shù)量比例等等，對此，本實(shí)用新型還提出進(jìn)一步限定，以優(yōu)化噴出氣體的均勻度。雖然本實(shí)用新型已以實(shí)施例揭露如上，然其并非用以限定本實(shí)用新型，任何所屬技術(shù)領(lǐng)域中具有通常知識者，在不脫離本實(shí)用新型的精神和范圍內(nèi)，當(dāng)可作些許的更動與潤飾，故本實(shí)用新型的保護(hù)范圍當(dāng)視本實(shí)用新型權(quán)利要求范圍所界定的為準(zhǔn)。
權(quán)利要求1.一種氣體噴灑模塊，其特征在于，包括 一噴灑頭主體，具有一氣體噴灑面與相對該氣體噴灑面的一進(jìn)氣面； 一供氣板，設(shè)于該噴灑頭主體的該進(jìn)氣面，其中該供氣板具有至少一第一氣孔； 一氣體分布板，設(shè)于該氣體噴灑面與該進(jìn)氣面之間的該噴灑頭主體內(nèi)，其中該氣體分布板具有多個第二氣孔；以及 一氣體噴灑板，設(shè)于該噴灑頭主體的該氣體噴灑面，其中該氣體噴灑板具有多個第三氣孔，使一氣體經(jīng)由該供氣板的該第一氣孔流入該噴灑頭主體內(nèi)，并經(jīng)該氣體分布板的所述第二氣孔擴(kuò)散至該氣體噴灑板，再自所述第三氣孔噴出， 該供氣板與該氣體分布板的間距在之間， 該氣體分布板與該氣體噴灑板的間距在7mm-9_之間， 該第一氣孔的數(shù)量與所述第二氣孔的數(shù)量的比例在I : 4-1 100之間， 所述第二氣孔的數(shù)量與所述第三氣孔的數(shù)量的比例在I : 4-1 100之間， 所述第二氣孔的數(shù)量在900個-1050個之間， 所述第二氣孔是沿該氣體分布板的表面上的兩垂直方向呈45度角對稱分布。
2.如權(quán)利要求I所述的氣體噴灑模塊，其特征在于，其中該第一氣孔與所述第二氣孔為彼此錯位、并非相對設(shè)置。
3.如權(quán)利要求I所述的氣體噴灑模塊，其特征在于，其中所述第二氣孔與所述第三氣孔為彼此錯位、并非相對設(shè)置。
4.如權(quán)利要求I所述的氣體噴灑模塊，其特征在于，其中該供氣板與該氣體分布板互相平行。
5.如權(quán)利要求I所述的氣體噴灑模塊，其特征在于，其中該氣體分布板與該氣體噴灑板互相平行。
6.如權(quán)利要求I所述的氣體噴灑模塊，其特征在于，其中該第一氣孔的直徑在I. Smm-Qmm 之間。
7.如權(quán)利要求I所述的氣體噴灑模塊，其特征在于，其中各該第二氣孔的直徑在I. Smm-Qmm 之間。
8.如權(quán)利要求I所述的氣體噴灑模塊，其特征在于，其中各該第三氣孔的直徑在I. Smm-Qmm 之間。
專利摘要一種氣體噴灑模塊，包括噴灑頭主體、供氣板、氣體分布板以及氣體噴灑板。噴灑頭主體具有氣體噴灑面和與其相對的進(jìn)氣面。供氣板設(shè)于進(jìn)氣面，具有至少一第一氣孔。氣體分布板設(shè)于氣體噴灑面與進(jìn)氣面之間的噴灑頭主體內(nèi)，具有多個第二氣孔。氣體噴灑板設(shè)于氣體噴灑面，具有多個第三氣孔。供氣板與氣體分布板的間距、氣體分布板與氣體噴灑板的間距介于7-9mm。第一氣孔與第二氣孔數(shù)量之比例、第二氣孔與第三氣孔數(shù)量的比例介于1∶4-1∶100。第二氣孔的數(shù)量介于900個-1050個。第二氣孔是沿氣體分布板的表面上的兩垂直方向呈45度角對稱分布。
文檔編號C23C16/455GK202610323SQ201220176888
公開日2012年12月19日 申請日期2012年4月24日 優(yōu)先權(quán)日2011年12月29日
發(fā)明者王慶鈞, 黃智勇, 陳建志, 簡榮禎, 蔡陳德, 林龔樑 申請人:財(cái)團(tuán)法人工業(yè)技術(shù)研究院