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      用于硅片雙面磨砂的模具的制作方法

      文檔序號:3271185閱讀:223來源:國知局
      專利名稱:用于硅片雙面磨砂的模具的制作方法
      技術(shù)領(lǐng)域
      本實用新型涉及一種模具,尤其涉及一種可一次性實現(xiàn)多個硅片進(jìn)行磨砂處理的用于硅片雙面磨砂的模具。
      技術(shù)背景磨砂機(jī)是用來對晶片表面進(jìn)行磨砂處理的機(jī)器,原有的磨砂機(jī)由手柄、工作頭、電動機(jī)組成,電機(jī)帶動磨砂盤轉(zhuǎn)動,在手柄的手桿上設(shè)置一直桿,直桿的下方活動連接一轉(zhuǎn)盤,將需要進(jìn)行磨砂處理的硅片放入轉(zhuǎn)盤內(nèi),通過磨砂盤與之相接觸的硅片表面進(jìn)行相對轉(zhuǎn)動,從而完成硅片一個表面的磨砂處理。這樣,還需要將硅片從轉(zhuǎn)盤內(nèi)取出,翻轉(zhuǎn)后,再對另一面進(jìn)行磨砂處理,操作起來較為繁瑣,影響工作效率。
      發(fā)明內(nèi)容本實用新型解決的技術(shù)問題是提供一種用于克服上述缺陷,實現(xiàn)硅片一次性多量雙面磨砂處理的用于硅片上面磨砂的模具。本實用新型解決其技術(shù)問題所采取的技術(shù)方案是一種用于硅片雙面磨砂的模具,包括上磨砂盤和下磨砂盤,所述上磨砂盤的直徑小于下磨砂盤的直徑,在下磨砂盤上活動設(shè)置一模圈,在該模圈的下方壓有一圓形的模芯,所述模芯的直徑等于模圈的外徑,在所述模芯上開設(shè)有圓孔;所述上磨砂盤的直徑小于模圈的內(nèi)徑,該上磨砂盤放置在模圈內(nèi)并壓住模芯。更進(jìn)一步的,為了提高工作效率,充分利用模芯的表面積,所述圓孔的個數(shù)為五個,且該五個圓孔以模芯的圓心為中心呈陣列狀分布。本實用新型的有益效果是本模具上開設(shè)的圓孔直徑可根據(jù)具體硅片的大小需要,開設(shè)有不同直徑的圓孔,通過將硅片防止在圓孔內(nèi),由上下磨砂盤對其進(jìn)行磨砂處理,可一次性完成多個硅片的雙面磨砂處理,大大提高了工作效率。


      以下結(jié)合附圖對本實用新型進(jìn)一步說明。圖1是本實用新型的結(jié)構(gòu)示意圖;圖2是本實用新型中模芯的底部示意圖。圖中1、上磨砂盤2、模芯21、圓孔3、模圈4、下磨砂盤。
      具體實施方式
      如圖1和2所示一種用于硅片雙面磨砂的模具,包括上磨砂盤I和下磨砂盤4,所述上磨砂盤I的直徑小于下磨砂盤4的直徑,在下磨砂盤4上活動設(shè)置一模圈3,在該模圈3的下方壓有一圓形的模芯2,所述模芯2的直徑等于模圈3的外徑,在所述模芯2上開設(shè)有圓孔21 ;所述上磨砂盤I的直徑小于模圈3的內(nèi)徑,該上磨砂盤I放置在模圈3內(nèi)并壓住模芯2。更進(jìn)一步的,為了提高工作效率,充分利用模芯2的表面積,所述圓孔21的個數(shù)為五個,且該五個圓孔以模芯的圓心為中心呈陣列狀分布。在實際操作中,所述下磨砂盤4設(shè)置在工作腔內(nèi),工作腔設(shè)置在一工作架的中心部位,所述下磨砂盤4的下方通過偏心輪連接電機(jī),所述上磨砂盤通過工作頭下的頂針活動套接,將硅片放入到圓孔21內(nèi),并由模圈3壓住模芯的外周,同時,將上磨砂盤I壓在模芯內(nèi)的硅片上,電機(jī)啟動,通過偏心輪作用,帶動下磨砂盤4作偏心轉(zhuǎn)動,完成硅片的雙面磨砂處理。本模具上開設(shè)的圓孔直徑可根據(jù)具體硅片的大小需要,開設(shè)有不同直徑的圓孔,通過將硅片防止在圓孔內(nèi),由上下磨砂盤對其進(jìn)行磨砂處理,可一次性完成多個硅片的雙面磨砂處理,大大提高了工作效率。需要強調(diào)的是,以上是本實用新型的較佳實施列而已,并非對實用新型在外觀上作任何形式的限制,凡是依據(jù)本實用新型的技術(shù)實質(zhì)對以上實施例所作的任何簡單修改、等同變化與修飾,均仍屬于本實用新型技術(shù)方案的范圍內(nèi)。
      權(quán)利要求1.一種用于硅片雙面磨砂的模具,其特征在于:包括上磨砂盤(I)和下磨砂盤(4),所述上磨砂盤(I)的直徑小于下磨砂盤(4)的直徑,在下磨砂盤(4)上活動設(shè)置一模圈(3),在該模圈(3)的下方壓有一圓形的模芯(2),所述模芯(2)的直徑等于模圈(3)的外徑,在所述模芯(2)上開設(shè)有圓孔(21);所述上磨砂盤(I)的直徑小于模圈(3)的內(nèi)徑,該上磨砂盤⑴放置在模圈⑶內(nèi)并壓住模芯(2)。
      2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于硅片雙面磨砂的模具,其特征在于:所述圓孔(21)的個數(shù)為五個,且該五個圓孔(21)以模芯 的圓心為中心呈陣列狀分布。
      專利摘要本實用新型涉及一種用于硅片雙面磨砂的模具,其特征在于包括上磨砂盤和下磨砂盤,所述上磨砂盤的直徑小于下磨砂盤的直徑,在下磨砂盤上活動設(shè)置一模圈,在該模圈的下方壓有一圓形的模芯,所述模芯的直徑等于模圈的外徑,在所述模芯上開設(shè)有圓孔;所述上磨砂盤的直徑小于模圈的內(nèi)經(jīng),該上磨砂盤放置在模圈內(nèi)并壓住模芯。本模具上開設(shè)的圓孔直徑可根據(jù)具體硅片的大小需要,開設(shè)有不同直徑的圓孔,通過將硅片防止在圓孔內(nèi),由上下磨砂盤對其進(jìn)行磨砂處理,可一次性完成多個硅片的雙面磨砂處理,大大提高了工作效率。
      文檔編號B24B7/22GK202910671SQ20122034508
      公開日2013年5月1日 申請日期2012年7月17日 優(yōu)先權(quán)日2012年7月17日
      發(fā)明者陳民華 申請人:蘇州晶磊鑫機(jī)電科技有限公司
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