軋制銅箔的制作方法
【專(zhuān)利摘要】本發(fā)明是這樣的軋制銅箔：以200°C退火0.5小時(shí)之后的(200)面的X射線衍射峰值的積分強(qiáng)度I(200)與(311)面的X射線衍射峰值的積分強(qiáng)度I(311)的比I(311)/I(200)為0.001以上且0.01以下，能夠穩(wěn)定地得到彎曲性。
【專(zhuān)利說(shuō)明】乳制銅箔
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及使用于例如柔性布線板(FPC:Flexible Printed Circuit)并適合于敷銅層疊板的軋制銅箔。
【背景技術(shù)】[0002]柔性布線板(FPC)將樹(shù)脂層和銅箔層疊而成，合適地用于重復(fù)彎曲部。作為用于這樣的FPC的銅箔，廣泛使用彎曲性?xún)?yōu)異的軋制銅箔。作為使軋制銅箔的彎曲性提高的方法，對(duì)使再結(jié)晶退火后的立方體集合組織發(fā)展的技術(shù)進(jìn)行報(bào)告(專(zhuān)利文獻(xiàn)I)。另外，作為使再結(jié)晶退火后的立方體集合組織發(fā)展的方法，列舉規(guī)定最終軋制加工度和軋制條件(專(zhuān)利文獻(xiàn)2)、在軋制后保留立方體方位(專(zhuān)利文獻(xiàn)3)。
[0003]現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn) 專(zhuān)利文獻(xiàn)
專(zhuān)利文獻(xiàn)1:日本專(zhuān)利第3009383號(hào)公報(bào)；
專(zhuān)利文獻(xiàn)2:日本特開(kāi)2009-185376號(hào)公報(bào)；
專(zhuān)利文獻(xiàn)3:日本特開(kāi)2010-150597號(hào)公報(bào)。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]發(fā)明要解決的課題
然而，現(xiàn)有的使立方體集合組織發(fā)展的方法，存在這一問(wèn)題:為了調(diào)整最終軋制加工度，有必要根據(jù)最終制品的厚度而變更立方體集合組織成長(zhǎng)的最終軋制前退火時(shí)的銅箔原料的厚度或在特殊的條件下進(jìn)行軋制等，生產(chǎn)性下降。
[0005]另外，有時(shí)候即使立方體集合組織的發(fā)展度(銅箔表面的(200)方位的X射線衍射強(qiáng)度)是相同程度，彎曲性也不同，難以只進(jìn)行(200)方位的控制就穩(wěn)定地得到彎曲性?xún)?yōu)異的軋制銅箔。
[0006]即，本發(fā)明是為了解決上述的課題而作出的，其目的為提供一種能夠穩(wěn)定地得到彎曲性的軋制銅箔。
[0007]用于解決課題的方案
本發(fā)明的
【發(fā)明者】們進(jìn)行各種研究，結(jié)果發(fā)現(xiàn)，銅箔的不但具有(200)方位、而且還具有(420)方位和(311)方位的晶粒對(duì)彎曲性造成影響。具有(420)方位和(311)方位的晶粒，由于在彎曲時(shí)應(yīng)力施加方向和滑動(dòng)方向接近而難以引起滑動(dòng)變形，因此，容易使彎曲性下降。
[0008]即，本發(fā)明的軋制銅箔，以200° C退火0.5小時(shí)之后的(200)面的X射線衍射峰值的積分強(qiáng)度I (200)與(311)面的X射線衍射峰值的積分強(qiáng)度1(311)的比I (311)/1 (200)為0.001以上且0.01以下。
[0009]另外，本發(fā)明的軋制銅箔，以200° C退火0.5小時(shí)之后的(200)面的X射線衍射峰值的積分強(qiáng)度1(200)與(420)面的X射線衍射峰值的積分強(qiáng)度1(420)的比1(420)/I (200)為0.005以上且0.02以下。
[0010]另外，本發(fā)明的軋制銅箔，以200° C退火0.5小時(shí)之后的(200)面的X射線衍射峰值的積分強(qiáng)度1(200)與(311)面的X射線衍射峰值的積分強(qiáng)度1(311)的比1(311)/I (200)為0.001以上且0.01以下，而且，以200° C退火0.5小時(shí)之后的(200)面的X射線衍射峰值的積分強(qiáng)度I (200)與(420)面的X射線衍射峰值的積分強(qiáng)度I (420)的比I (420)/I (200)為0.005以上且0.02以下。
[0011]權(quán)利要求1或3所記載的軋制銅箔，優(yōu)選，對(duì)作為最終軋制前且再結(jié)晶退火后的X射線衍射峰值的積分強(qiáng)度的I (200)b與I (31l)b的比I (311)b/I (200)b為0.01以上且0.02以下的銅箔原料進(jìn)行最終軋制而成。 [0012]在權(quán)利要求4所記載的軋制銅箔中，優(yōu)選，在將最終軋制加工度設(shè)為η且由Jl=LnK最終軋制前的厚度)/(最終軋制后的厚度)}表示時(shí)，η >2.3。
[0013]在權(quán)利要求4或5所記載的軋制銅箔中，優(yōu)選，I (311) b/I (200) b/η為0.1以上且0.7以下。
[0014]在權(quán)利要求2或3所記載的軋制銅箔中，優(yōu)選，對(duì)作為最終軋制前且再結(jié)晶退火后的X射線衍射峰值的積分強(qiáng)度的I (200)b與I (420)b的比I (420)b/I (200)b為0.02以上且0.04以下的銅箔原料進(jìn)行最終軋制而成。
[0015]在權(quán)利要求7所記載的軋制銅箔中，優(yōu)選，在將最終軋制加工度設(shè)為η且由Jl=LnK最終軋制前的厚度)/(最終軋制后的厚度)}表示時(shí)，η >2.3。
[0016]在權(quán)利要求7或8所記載的軋制銅箔中，優(yōu)選，在將最終軋制加工度設(shè)為η且由H=LnK最終軋制前的厚度)/(最終軋制后的厚度)}表示時(shí)，I (420)b/I (200)b/η為0.5以上且1.2以下。
[0017]權(quán)利要求3所記載的軋制銅箔，優(yōu)選，對(duì)作為最終軋制前且再結(jié)晶退火后的X射線衍射峰值的積分強(qiáng)度的I (200) b與I (31 l)b的比I (311) b/I (200) b為0.01以上且0.02以下、而且作為最終軋制前且再結(jié)晶退火后的X射線衍射峰值的積分強(qiáng)度的I (200)b與I (420) b的比I (420) b/I (200) b為0.02以上且0.04以下的銅箔原料進(jìn)行最終軋制而成。
[0018]在權(quán)利要求10所記載的軋制銅箔中，優(yōu)選，在將最終軋制加工度設(shè)為η且由Jl=LnK最終軋制前的厚度)/(最終軋制后的厚度)}表示時(shí)，η >2.3。
[0019]在權(quán)利要求10或11所記載的軋制銅箔中，優(yōu)選，在將最終軋制加工度設(shè)為η且由H=LnK最終軋制前的厚度)/(最終軋制后的厚度)}表示時(shí)，I(311)b/I(200)b/ii為
0.1以上且0.7以下，而且，I (420)b/I (200)b/ η為0.5以上且1.2以下。
[0020]發(fā)明的效果
依據(jù)本發(fā)明，能夠穩(wěn)定地得到彎曲性?xún)?yōu)異的軋制銅箔。
【專(zhuān)利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0021]圖1是示出由彎曲試驗(yàn)裝置進(jìn)行彎曲疲勞壽命的測(cè)定的方法的圖。
【具體實(shí)施方式】
[0022]以下，對(duì)本發(fā)明的實(shí)施方式所涉及的軋制銅箔進(jìn)行說(shuō)明。
[0023]<成分組成>作為銅箔的成分組成，能夠合適地使用以JIS-H3100 (CllOO)為規(guī)格的韌銅(TPC)或JIS-H3100 (C1020)無(wú)氧銅(OFC)。另外，作為添加元素而含有10~500質(zhì)量ppm的Sn及/或含有10-500質(zhì)量ppm的Ag，使剩余部分為韌銅或無(wú)氧銅也可以。
[0024]另外，作為添加元素而含有合計(jì)20~500質(zhì)量ppm的由Ag、Sn、In、T1、Zn、Zr、Fe、P、N1、S1、Te、Cr、Nb、V構(gòu)成的元素的一種以上，使剩余部分為韌銅或無(wú)氧銅也可以。
[0025]此外，由于FPC所使用的軋制銅箔要求彎曲性，因而軋制銅箔的厚度優(yōu)選20μπι以下。
[0026]<第I方式所涉及的軋制銅箔>
本發(fā)明的第I方式所涉及的軋制銅箔，當(dāng)以200° C退火0.5小時(shí)之后，(200)面的X射線衍射峰值的積分強(qiáng)度I (200)與(311)面的X射線衍射峰值的積分強(qiáng)度I (311)的比1(311)/1(200) % 0.001以上且0.01以下。如果以200° C對(duì)軋制銅箔進(jìn)行0.5小時(shí)的退火，則產(chǎn)生再結(jié)晶組織，立方體集合組織發(fā)展，使軋制銅箔的彎曲性提高。另一方面，在再結(jié)晶后具有(420)方位和(311)方位的晶粒，由于彎曲時(shí)應(yīng)力施加方向和滑動(dòng)方向接近，因而難以引起滑動(dòng)變形，因此，容易使彎曲性下降。 [0027]由于這樣的情況，如果與(200)方位相比，(311)方位的比例較少，則使彎曲性提高，因而使比1(311)/1(200)為0.01以下。如果比1(311)/1(200)超過(guò)0.01，則(311)方位的比例變多，使彎曲性下降。比1(311)/1(200)越低，彎曲性就越高而優(yōu)選，但在實(shí)用方面成為0.001以上的值。
[0028]另外，第I方式所涉及的軋制銅箔，能夠以η=2.3以上的加工度對(duì)最終軋制前且再結(jié)晶退火后的比I (311)b/I (200) b為0.01以上且0.02以下的銅箔原料進(jìn)行最終軋制而制造。
[0029]在此，考慮到，對(duì)銅箔進(jìn)行再結(jié)晶退火之后的(420)方位和(311)方位以存在于再結(jié)晶退火前的軋制組織中的具有(420)方位和(311)方位的晶粒作為起點(diǎn)而發(fā)展。另外，考慮到，軋制組織中的(420)方位和(311)方位來(lái)自軋制前的組織。即，在最終軋制前且在再結(jié)晶退火后，控制(420)方位和(311)方位的發(fā)展程度，由此，能夠控制對(duì)最終軋制后的箔進(jìn)行再結(jié)晶退火之后的(420)方位和(311)方位。
[0030]由于這樣的情況，如果最終軋制前且再結(jié)晶退火后的比I(311)b/I(200)b超過(guò)0.02，則在最終軋制后也具有(311)方位的晶粒較多地殘留，具有(311)方位的晶粒的比例增加，因而有時(shí)候不能得到充分的彎曲性。另一方面，在比I(311)b/I(200)b不足0.01的情況下，由于退火而導(dǎo)致晶粒粗大化，因而不能通過(guò)最終軋制而施加充分的應(yīng)變，有時(shí)候在對(duì)最終軋制后的箔進(jìn)行再結(jié)晶退火之后不能得到充分的彎曲性。
[0031]在最終軋制加工度不足η =2.3的情況下，不能通過(guò)最終軋制而施加充分的應(yīng)變，有時(shí)候在對(duì)最終軋制后的箔進(jìn)行再結(jié)晶退火之后不能得到充分的彎曲性。
[0032]在第I方式所涉及的軋制銅箔中，優(yōu)選，I (311) b/I (200) b/ η為0.1以上且0.7以下。另外，更優(yōu)選，I(311)b/I(200)b/n為0.1以上且0.5以下。
[0033]一般而言，在銅箔的制造工序中，最終軋制加工的加工度高，因而即使控制最終軋制前的組織，也處于其影響難以充分地保留至軋制后的傾向。于是，通過(guò)共同管理最終軋制前的組織和最終軋制的加工度，從而能夠得到更充分的彎曲性。
[0034]如果I(311)b/I(200)b/n超過(guò)0.5，則在最終軋制后也具有(311)方位的晶粒較多地殘留，具有(311)方位的晶粒的比例增加，因而有時(shí)候不能得到充分的彎曲性。比I(311)b/I(200)b/n越低，彎曲性就越高而優(yōu)選，但在實(shí)用方面，成為0.05以上的值。
[0035]<第2方式所涉及的軋制銅箔>
本發(fā)明的第2方式所涉及的軋制銅箔，當(dāng)以200° C退火0.5小時(shí)之后，(200)面的X射線衍射峰值的積分強(qiáng)度I (200)與(420)面的X射線衍射峰值的積分強(qiáng)度I (420)的比I (420)/I (200)為 0.005 以上且 0.02 以下。
[0036]如上所述，在再結(jié)晶后具有(420)方位和(311)方位的晶粒，由于在彎曲時(shí)應(yīng)力施加方向與滑動(dòng)方向接近，因而難以引起滑動(dòng)變形，因此，容易使彎曲性下降。即，如果與(200)方位相比(420)方位的比例較少，則使彎曲性提高，因而使比1(420)/1(200)為0.02以下。如果比1(420)/1(200)超過(guò)0.02，則(420)方位的比例變多，使彎曲性下降。但是，如果比I (420)/I (200)不足0.005，則(200)方位的比例過(guò)多，雖然能夠得到充分的彎曲性，但由于銅箔過(guò)度柔軟，因而處理性下降。
[0037]另外，第2方式所涉及的軋制銅箔，能夠優(yōu)選以η =2.3以上的加工度對(duì)最終軋制前且再結(jié)晶退火后的比I (420) b/I (200) b為0.02以上且0.04以下的銅箔原料進(jìn)行最終軋制而制造。
[0038]如果最終軋制前且再結(jié)晶退火后的比I (420) b/I (200) b超過(guò)0.04，則在最終軋制后也具有(420)方位的晶粒較多地殘留，具有(420)方位的晶粒的比例增加，因而有時(shí)候不能得到充分的彎曲性。另一方面，在比I (420)b/I (200)b不足0.02的情況下，由于退火而導(dǎo)致晶粒粗大化，因而不能通過(guò)最終軋制而施加充分的應(yīng)變，有時(shí)候在對(duì)最終軋制后的箔進(jìn)行再結(jié)晶退火之后不能得到充分的彎曲性。
[0039]在第2方式所涉及的軋制銅箔中，優(yōu)選，I (420) b/I (200) b/η為0.5以上且1.2以下。另外，進(jìn)一步優(yōu)選，I (420)b/I (200)b/n為0.5以上且1.0以下。
[0040]在此，作為再結(jié)晶組織的具有(420)方位的晶粒通過(guò)軋制加工而旋轉(zhuǎn)，成為具有其他方位的晶粒。因此，在軋制加工度高的情況下，(420)面的比例減少，1(420)下降。另一方面，在加工度低的情況下，具有(420)方位的晶粒容易殘存，1(420)容易變高。
[0041]由于這樣的情況，如果I(420)b/I(200)b/n超過(guò)1.0，則在最終軋制后也具有(420)方位的晶粒較多地殘留，具有(420)方位的晶粒的比例增加，因而有時(shí)候不能得到充分的彎曲性。另外，如果I (420)b/I (200)b/η不足0.5，則雖然能夠得到充分的彎曲性，但由于銅箔過(guò)度柔軟，因而有時(shí)候處理性下降。
[0042]〈軋制銅箔的制造〉
第I及第2方式所涉及的軋制銅箔，全都能夠?qū)﹀V在熱軋后進(jìn)行退火前軋制、再結(jié)晶退火以及最終軋制而制造。在此，再結(jié)晶方位的穩(wěn)定度是(200) > (311) > (420)的順序，處于再結(jié)晶退火時(shí)的升溫速度越高，不穩(wěn)定的(420)方位及(311)方位就越增加的傾向。因此，優(yōu)選為，使再結(jié)晶退火時(shí)的升溫速度為5~50° C/s而使速度比現(xiàn)有技術(shù)更慢。
[0043]另外，優(yōu)選為，設(shè)為退火前軋制的Π=1.6以上的加工度，而且，使再結(jié)晶退火后、最終軋制前的結(jié)晶粒徑為?ο μ m以上且30 μ m以下。在最終軋制前的結(jié)晶粒徑成為10 μ m以下那樣的退火條件的情況下，未再結(jié)晶組織殘留的可能性變高。另外，在最終軋制前的結(jié)晶粒徑超過(guò)30 μ m的情況下，不能通過(guò)最終軋制而施加充分的應(yīng)變，有時(shí)候在對(duì)最終軋制后的箔進(jìn)行再結(jié)晶退火之后不能得到充分的彎曲性。[0044]另外，如上所述，可以以η=2.3以上的加工度進(jìn)行最終軋制。
[0045]此外，結(jié)晶粒徑通過(guò)JIS Η0501的切斷法而測(cè)定。
實(shí)施例
[0046]首先，制造表1所記載的組成的銅錠，進(jìn)行熱軋至厚度10mm。隨后，重復(fù)退火和軋制，在軋制至既定的厚度之后，使板通過(guò)750° C的連續(xù)退火爐而進(jìn)行再結(jié)晶退火。而且，以表1所示的加工度進(jìn)行最終冷軋，得到表1所示的厚度的銅箔。此外，在表1中示出再結(jié)晶退火時(shí)的升溫速度。
[0047]〈取向度〉
當(dāng)以200° C將最終軋制而得到的銅箔退火0.5小時(shí)而使其再結(jié)晶之后，分別求出通過(guò)軋制面的X射線衍射而求出的(200)面、(311)面、(420)面的強(qiáng)度的積分值(I)。
[0048]另外，分別求出最終軋制前且再結(jié)晶退火后的(200)面、(311)面、(420)面的X射線衍射峰值的積分強(qiáng)度。關(guān)于該值，像I(200)b那樣由附加的字“b”表示。
[0049]〈彎曲性〉
當(dāng)以200° C將最終軋制而得到的銅箔樣品加熱30分鐘而使其再結(jié)晶之后，由圖1所示的彎曲試驗(yàn)裝置進(jìn)行彎曲疲勞壽命的測(cè)定。該裝置成為將振動(dòng)傳遞部件3與振蕩驅(qū)動(dòng)體4結(jié)合的構(gòu)造，被試驗(yàn)銅箔I由箭頭所示的螺釘2的部分和3的前端部的共計(jì)4點(diǎn)固定于裝置。如果振動(dòng)部3上下驅(qū)動(dòng)，則銅箔I的中間部以既定的曲率半徑r彎曲成發(fā)夾狀。在本試驗(yàn)中，求出在以下的條件下重復(fù)彎曲時(shí)的到斷裂為止的次數(shù)。
[0050]此外，試驗(yàn)條件如下:試驗(yàn)片寬度:12.7mm,試驗(yàn)片長(zhǎng)度:200mm,試驗(yàn)片米取方向:以試驗(yàn)片的長(zhǎng)度方向與軋制方向變得平行的方式采取，曲率半徑r:1.5mm，振動(dòng)行程:20mm，振動(dòng)速度:1000次/分鐘。
[0051]另外，根據(jù)以下的基準(zhǔn)而評(píng)價(jià)彎曲性。如果評(píng)價(jià)為◎、〇或Λ，則彎曲性良好。
[0052]◎:彎曲次數(shù)為20萬(wàn)次以上，彎曲性最良好
O:彎曲次數(shù)為10萬(wàn)次以上且不足20萬(wàn)次，彎曲性良好 Δ:彎曲次數(shù)為5萬(wàn)次以上且不足10萬(wàn)次，彎曲性?xún)?yōu)異 X:彎曲次數(shù)不足5萬(wàn)次，彎曲性差。
[0053]在表1、表2中示出得到的結(jié)果。
[0054]在此，表1中的組成欄的“TPC”表示以JIS-H3100 (CllOO)為規(guī)格的韌銅(TPC)，“0FC”表示以JIS-H3100(C1020)為規(guī)格的無(wú)氧銅(OFC)。因此，例如，表1中的組成欄“190ppmAg-TPC”意味著將190質(zhì)量ppm的Ag添加至以JIS-H3100 (C1100)為規(guī)格的韌銅(TPC)中的組成。另外，表1中的組成欄“100ppmSn-0FC”意味著將100質(zhì)量ppm的Sn添加至以JIS-H3100(C1020)為規(guī)格的無(wú)氧銅(OFC)中的組成。
[0055][表 I]
【權(quán)利要求】
1.一種軋制銅箔，其特征在于，以200° C退火0.5小時(shí)之后的(200)面的X射線衍射峰值的積分強(qiáng)度1(200)與(311)面的X射線衍射峰值的積分強(qiáng)度1(311)的比1(311)/I (200)為0.001以上且0.01以下。
2.一種軋制銅箔，其特征在于，以200° C退火0.5小時(shí)之后的(200)面的X射線衍射峰值的積分強(qiáng)度1(200)與(420)面的X射線衍射峰值的積分強(qiáng)度1(420)的比1(420)/I (200)為0.005以上且0.02以下。
3.一種軋制銅箔，其特征在于，以200° C退火0.5小時(shí)之后的(200)面的X射線衍射峰值的積分強(qiáng)度1(200)與(311)面的X射線衍射峰值的積分強(qiáng)度1(311)的比1(311)/I (200)為0.001以上且0.01以下，而且，以200° C退火0.5小時(shí)之后的(200)面的X射線衍射峰值的積分強(qiáng)度I (200)與(420)面的X射線衍射峰值的積分強(qiáng)度I (420)的比I (420)/I (200)為0.005以上且0.02以下。
4.根據(jù)權(quán)利要求1或3所述的軋制銅箔，其特征在于，對(duì)作為最終軋制前且再結(jié)晶退火后的X射線衍射峰值的積分強(qiáng)度的I (200)b與I (31l)b的比I (311)b/I (200)b為0.01以上且0.02以下的銅箔原料進(jìn)行最終軋制而成。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的軋制銅箔，其特征在于，在將最終軋制加工度設(shè)為η且由Jl=LnK最終軋制前的厚度)/(最終軋制后的厚度)}表示時(shí)，η >2.3。
6.根據(jù)權(quán)利要求4或5所述的軋制銅箔，其特征在于，I(311)b/I(200)b/n為0.1以上且0.7以下。
7.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的軋制銅箔，其特征在于，對(duì)作為最終軋制前且再結(jié)晶退火后的X射線衍射峰值的積分強(qiáng)度的I (200)b與I (420)b的比I (420)b/I (200)b為0.02以上且0.04以下的銅箔原料進(jìn)行最終軋制而成。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的軋制銅箔，其特征在于，在將最終軋制加工度設(shè)為η且由Jl=LnK最終軋制前的厚度)/(最終軋制后的厚度)}表示時(shí)，η >2.3。
9.根據(jù)權(quán)利要求7或權(quán)利要求8所述的軋制銅箔，其特征在于，在將最終軋制加工度設(shè)為η且由H=LnK最終軋制前的厚度)/(最終軋制后的厚度)}表示時(shí)，
I (420)b/I (200)b/ η 為 0.5 以上且 1.2 以下。
10.根據(jù)權(quán)利要求3所述的軋制銅箔，其特征在于，對(duì)作為最終軋制前且再結(jié)晶退火后的X射線衍射峰值的積分強(qiáng)度的I (200)b與I (31 l)b的比I (311)b/I (200)b為0.01以上且0.02以下，而且，作為最終軋制前且再結(jié)晶退火后的X射線衍射峰值的積分強(qiáng)度的1(200)b與I (420) b的比I (420) b/I (200) b為0.02以上且0.04以下的銅箔原料進(jìn)行最終軋制而成。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的軋制銅箔，其特征在于，在將最終軋制加工度設(shè)為η且由Jl=LnK最終軋制前的厚度)/(最終軋制后的厚度)}表示時(shí)，η >2.3。
12.根據(jù)權(quán)利要求10或11所述的軋制銅箔，其特征在于，在將最終軋制加工度設(shè)為η且由H=LnK最終軋制前的 厚度)/(最終軋制后的厚度)}表示時(shí)，
I(311)b/I(200)b/ η 為 0.1 以上且 0.7 以下，而且，I (420)b/I (200)b/ η 為 0.5 以上且1.2以下。
【文檔編號(hào)】C22F1/00GK103748251SQ201280040973
【公開(kāi)日】2014年4月23日 申請(qǐng)日期:2012年4月2日 優(yōu)先權(quán)日:2011年8月23日
【發(fā)明者】中室嘉一郎 申請(qǐng)人:Jx日礦日石金屬株式會(huì)社