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      渦電流傳感器以及研磨方法和裝置與流程

      文檔序號(hào):12006299閱讀:來源:國(guó)知局
      渦電流傳感器以及研磨方法和裝置與流程

      技術(shù)特征:
      1.一種渦電流傳感器,其特征在于,該渦電流傳感器配置于形成有導(dǎo)電性膜的基板的附近,檢測(cè)所述導(dǎo)電性膜上形成的渦電流,該渦電流傳感器構(gòu)成為,將卷繞了導(dǎo)線的尺寸不同的多個(gè)線圈互相分離地配置為外側(cè)的線圈包圍內(nèi)側(cè)的線圈,各個(gè)所述多個(gè)線圈分別構(gòu)成檢測(cè)所述導(dǎo)電性膜上形成的渦電流的檢測(cè)線圈,所述渦電流傳感器,具備有與交流信號(hào)源相連接、在所述導(dǎo)電性膜上形成渦電流的多個(gè)勵(lì)磁線圈,所述多個(gè)勵(lì)磁線圈互相分離地配置為外側(cè)的勵(lì)磁線圈包圍內(nèi)側(cè)的勵(lì)磁線圈。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的渦電流傳感器,其特征在于,所述渦電流傳感器,具備有分別與所述多個(gè)檢測(cè)線圈串聯(lián)連接的多個(gè)虛設(shè)線圈,所述多個(gè)虛設(shè)線圈互相分離配置為外側(cè)的虛設(shè)線圈包圍內(nèi)側(cè)的虛設(shè)線圈。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的渦電流傳感器,其特征在于,將列定義為對(duì)于基板的垂直方向、層定義為對(duì)于基板的平行方向時(shí),所述多個(gè)檢測(cè)線圈中的至少1個(gè)由導(dǎo)線卷繞為1列多層的線圈構(gòu)成。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的渦電流傳感器,其特征在于,將列定義為對(duì)于基板的垂直方向、層定義為對(duì)于基板的平行方向時(shí),所述多個(gè)勵(lì)磁線圈中的至少1個(gè)由導(dǎo)線卷繞為1列多層的線圈構(gòu)成。5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的渦電流傳感器,其特征在于,將列定義為對(duì)于基板的垂直方向、層定義為對(duì)于基板的平行方向時(shí),所述多個(gè)虛設(shè)線圈中的至少1個(gè)由導(dǎo)線卷繞為1列多層的線圈構(gòu)成。6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的渦電流傳感器,其特征在于,所述勵(lì)磁線圈彎曲地形成為越接近半徑方向外側(cè)越靠近基板。7.一種渦電流傳感器,其特征在于,該渦電流傳感器配置于形成有導(dǎo)電性膜的基板的附近,檢測(cè)所述導(dǎo)電性膜上形成的渦電流,該渦電流傳感器構(gòu)成為,將卷繞了導(dǎo)線的尺寸不同的多個(gè)線圈相對(duì)于基板在垂直方向上下配置,各個(gè)所述多個(gè)線圈分別檢測(cè)所述導(dǎo)電性膜上形成的渦電流。8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的渦電流傳感器,其特征在于,所述多個(gè)線圈,由線圈外徑小的線圈和線圈外徑大的線圈構(gòu)成,或者將線圈的內(nèi)徑與外徑的算術(shù)平均定義為線圈中心直徑的話,由線圈中心直徑小的線圈和線圈中心直徑大的線圈構(gòu)成。9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的渦電流傳感器,其特征在于,將所述線圈外徑小的線圈和所述線圈外徑大的線圈分別多個(gè)串聯(lián)連接,被串聯(lián)連接的線圈外徑小的線圈和被串聯(lián)連接的線圈外徑大的線圈配置為任意一方夾著另一方。10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的渦電流傳感器,其特征在于,將所述線圈中心直徑小的線圈和所述線圈中心直徑大的線圈分別多個(gè)串聯(lián)連接,被串聯(lián)連接的線圈中心直徑小的線圈和被串聯(lián)連接的線圈中心直徑大的線圈配置為任意一方夾著另一方。11.根據(jù)權(quán)利要求7所述的渦電流傳感器,其特征在于,所述多個(gè)線圈構(gòu)成分別檢測(cè)所述導(dǎo)電性膜上形成的渦電流的檢測(cè)線圈。12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的渦電流傳感器,其特征在于,所述渦電流傳感器具有與交流信號(hào)源相連接、在所述導(dǎo)電性膜上形成渦電流的多個(gè)勵(lì)磁線圈,所述多個(gè)勵(lì)磁線圈相對(duì)于基板在垂直方向上下配置。13.根據(jù)權(quán)利要求11所述的渦電流傳感器,其特征在于,所述渦電流傳感器具有與所述多個(gè)檢測(cè)線圈分別串聯(lián)連接的多個(gè)虛設(shè)線圈,所述多個(gè)虛設(shè)線圈相對(duì)于基板在垂直方向上下配置。14.根據(jù)權(quán)利要求11所述的渦電流傳感器,其特征在于,將列定義為對(duì)于基板的垂直方向、層定義為對(duì)于基板的平行方向時(shí),所述多個(gè)檢測(cè)線圈中的至少1個(gè)由導(dǎo)線卷繞為1列多層的線圈構(gòu)成。15.根據(jù)權(quán)利要求12所述的渦電流傳感器,其特征在于,將列定義為對(duì)于基板的垂直方向、層定義為對(duì)于基板的平行方向時(shí),所述多個(gè)勵(lì)磁線圈中的至少1個(gè)由導(dǎo)線卷繞為1列多層的線圈構(gòu)成。16.根據(jù)權(quán)利要求13所述的渦電流傳感器,其特征在于,將列定義為對(duì)于基板的垂直方向、層定義為對(duì)于基板的平行方向時(shí),所述多個(gè)虛設(shè)線圈中的至少1個(gè)由導(dǎo)線卷繞為1列多層的線圈構(gòu)成。17.根據(jù)權(quán)利要求12所述的渦電流傳感器,其特征在于,所述勵(lì)磁線圈彎曲地形成為越接近半徑方向外側(cè)越靠近基板。18.一種研磨方法,其特征在于,將作為研磨對(duì)象的基板按壓于旋轉(zhuǎn)的研磨臺(tái)上的研磨面,研磨所述基板上的導(dǎo)電性膜,所述基板的研磨中,伴隨所述研磨臺(tái)的旋轉(zhuǎn),通過設(shè)置在該研磨臺(tái)上的渦電流傳感器掃描基板的被研磨面,監(jiān)視通過掃描所述基板的被研磨面而得到的所述渦電流傳感器的輸出,根據(jù)該渦電流傳感器的輸出變化監(jiān)視所述導(dǎo)電性膜的膜厚,所述渦電流傳感器具有卷繞了導(dǎo)線的尺寸不同的多個(gè)線圈,所述多個(gè)線圈互相分離地配置為外側(cè)的線圈包圍內(nèi)側(cè)的線圈,各個(gè)所述多個(gè)線圈分別構(gòu)成檢測(cè)所述導(dǎo)電性膜上形成的渦電流的檢測(cè)線圈,各個(gè)所述多個(gè)檢測(cè)線圈分別檢測(cè)包含基板被研磨面上的第1區(qū)域和含有該第1區(qū)域、大于第1區(qū)域的第2區(qū)域的2個(gè)以上區(qū)域的渦電流,或者分別檢測(cè)基板的被研磨面各區(qū)域的渦電流,所述渦電流傳感器,具備有與交流信號(hào)源相連接、在所述導(dǎo)電性膜上形成渦電流的多個(gè)勵(lì)磁線圈,所述多個(gè)勵(lì)磁線圈互相分離地配置為外側(cè)的勵(lì)磁線圈包圍內(nèi)側(cè)的勵(lì)磁線圈。19.根據(jù)權(quán)利要求18所述的研磨方法,其特征在于,所述多個(gè)線圈分別構(gòu)成外徑大的傳感器和外徑小的傳感器,監(jiān)視所述外徑大的傳感器的輸出,根據(jù)輸出的變化檢測(cè)研磨終點(diǎn),檢測(cè)到所述研磨終點(diǎn)后,進(jìn)行監(jiān)視所述外徑小的傳感器的輸出、檢測(cè)殘留在部分基板上的膜的殘膜監(jiān)視。20.根據(jù)權(quán)利要求18所述的研磨方法,其特征在于,將線圈的內(nèi)徑與外徑的算術(shù)平均定義為線圈中心直徑的話,所述多個(gè)線圈由線圈中心直徑小的線圈和線圈中心直徑大的線圈構(gòu)成,具有所述線圈中心直徑小的線圈的傳感器構(gòu)成傳感器徑小的傳感器,具有所述線圈中心直徑大的線圈的傳感器構(gòu)成傳感器徑大的傳感器,監(jiān)視所述線圈中心直徑大的傳感器的輸出,根據(jù)輸出的變化檢測(cè)研磨終點(diǎn),檢測(cè)到所述研磨終點(diǎn)后,進(jìn)行監(jiān)視所述線圈中心直徑小的傳感器的輸出、檢測(cè)殘留在部分基板上的膜的殘膜監(jiān)視。
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