一種離心式熔煉澆鑄爐的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明涉及一種離心式熔煉澆鑄爐，包括真空殼體、中頻冶煉爐、離心鑄模機，所述真空殼體包括上爐蓋、下爐蓋以及中間爐體，所述上爐蓋和中間爐體通過第一法蘭連接，所述中間爐體與下爐蓋通過第二法蘭連接，所述真空殼體為雙層結(jié)構(gòu)，中間設(shè)有水導(dǎo)流槽，所述第二法蘭中裝有用于安裝離心鑄模機的旋轉(zhuǎn)平臺，所述中間爐體中設(shè)有中頻冶煉爐，所述中間爐體的殼體上裝有抽真空管路，所述下爐蓋中裝有離心鑄模機的電機部件，本發(fā)明克服了由于密封環(huán)境內(nèi)空間體積較大，導(dǎo)致抽氣量大，從而導(dǎo)致真空度提高難度的不利因素。
【專利說明】一種離心式熔煉澆鑄爐
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及鑄造設(shè)備【技術(shù)領(lǐng)域】，更具體地說是一種真空離心澆鑄爐、。
【背景技術(shù)】
[0002]真空離心鑄造是真空鑄造與離心鑄造相結(jié)合的一種新型鑄造方法，它將成型機構(gòu)置于一密封環(huán)境中。澆注前，鑄件型腔設(shè)定速度旋轉(zhuǎn)，真空系統(tǒng)經(jīng)密封裝置的抽氣孔，直接抽出密封環(huán)境和鑄件型腔內(nèi)的氣體，使其達到預(yù)定的真空度，建立局部真空(負(fù)壓)，使鑄件型腔處于真空(負(fù)壓)狀態(tài)。澆注時，熔液快速經(jīng)澆注系統(tǒng)充入呈真空且旋轉(zhuǎn)的鑄件型腔內(nèi)部，澆注，抽氣，旋轉(zhuǎn)，始終維持一定的真空度和離心力，使熔液在此環(huán)境中結(jié)晶凝固，在鑄件完成液態(tài)收縮和凝固收縮后，關(guān)閉真空系統(tǒng)，停止旋轉(zhuǎn)，開啟密封罩門并脫模。由于鑄件型腔處于真空(負(fù)壓)狀態(tài)及液體和鑄件型腔旋轉(zhuǎn)時產(chǎn)生的離心力，大大提高金屬鑄造成形時的充型能力，氣體在充型時易排出，鑄件氣孔極少，并可提高鑄件的組織致密性。但是，由于密封環(huán)境內(nèi)空間體積較大，導(dǎo)致抽氣量大，且密封罩連接處密封難度大，要完全密封有困難，從而導(dǎo)致真空度提高難度大。同時，由于空間內(nèi)澆注通道較長，澆注過程溫度下降過快，澆注溫度不好控制，對于澆注小型鑄件更加明顯。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]本發(fā)明為了解決上述缺陷把爐體分為三部分，各部分相互連接的同時又相互隔開，具體結(jié)構(gòu)如下:
一種離心式熔煉澆鑄爐，包括真空殼體、中頻冶煉爐、離心鑄模機，所述真空殼體包括上爐蓋、下爐蓋以及中間爐體，所述上爐蓋和中間爐體通過第一法蘭連接，所述中間爐體與下爐蓋通過第二法蘭連接，所述真空殼體為雙層結(jié)構(gòu)，中間設(shè)有水導(dǎo)流槽，所述第二法蘭中裝有用于安裝離心鑄模機的旋轉(zhuǎn)平臺，所述中間爐體中設(shè)有中頻冶煉爐，所述中間爐體的殼體上裝有抽真空管路，所述下爐蓋中裝有離心鑄模機的電機部件。
[0004]所述中間爐體內(nèi)的左側(cè)裝有中頻爐支撐板，所述中頻爐支撐板上裝有支撐臺，所述支撐臺上裝有中頻冶煉爐。
[0005]所述中間爐體的殼體上還裝有鑄模中頻加熱接線口以及中頻冶煉爐接線孔。
[0006]所述中頻冶煉爐包括內(nèi)部的坩堝爐和設(shè)在坩堝爐外圍的中頻爐加熱線圈，所述中頻冶煉爐內(nèi)設(shè)有中頻爐旋轉(zhuǎn)傾倒軸，中頻爐頂部裝有測溫裝置。
[0007]所述中頻爐的右側(cè)裝有向其右下方向傾斜的導(dǎo)流槽，所述導(dǎo)流槽延伸至所述離心鑄模旋轉(zhuǎn)平臺的上端。
[0008]所述導(dǎo)流槽底端裝有導(dǎo)流口。
[0009]所述離心鑄模的旋轉(zhuǎn)平臺內(nèi)裝有鑄模型腔，所述鑄模型腔上端裝有鑄模保溫壓板，所述旋轉(zhuǎn)平臺外圍設(shè)有加熱中頻線圈。
[0010]所述下爐蓋的殼體上還裝有電極連接法蘭，所述電極連接法蘭中套有離心鑄模的電機連接法蘭。[0011]所述下爐蓋的殼體還裝有水冷電機罩，所述水冷電機罩位于電極連接法蘭的下端。
[0012]所述下爐蓋的殼體上還裝有電機接線口。
[0013]本發(fā)明通過把爐體分為三部分，各部分相互連接的同時又相互隔開相應(yīng)的減小了真空抽氣的體積，降低了抽氣難度的同時縮短了澆注道的長度，又通過在鑄模型腔上端安裝鑄模保溫壓板，保證了澆注時溫度的控制。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0014]圖1為離心式熔煉澆鑄爐的結(jié)構(gòu)圖。
【具體實施方式】
[0015]如圖1所示，一種離心式熔煉澆鑄爐，包括真空殼體1、中頻冶煉爐8、離心鑄模機6，所述真空殼體包括上爐蓋2、下爐蓋3以及中間爐體4，所述上爐蓋2和中間爐體4通過第一法蘭5連接，所述中間爐體4與下爐蓋3通過第二法蘭28連接，所述真空殼體I為雙層結(jié)構(gòu)，中間設(shè)有水導(dǎo)流槽7，所述第二法蘭28中裝有用于安裝離心鑄模機6的旋轉(zhuǎn)平臺19，所述中間爐體4中設(shè)有中頻冶煉爐8，所述中間爐體4的殼體上裝有抽真空管路9，所述下爐蓋2中裝有離心鑄模機6的電機部件。
[0016]所述中間爐體內(nèi)的左側(cè)裝有中頻爐支撐板10，所述中頻爐支撐板上裝有支撐臺11，所述支撐臺上裝有中頻冶煉爐8。
[0017]所述中間爐體的殼體上還裝有鑄模中頻加熱接線口 12以及中頻冶煉爐接線孔13。
[0018]所述中頻冶煉爐8包括內(nèi)部的坩堝爐14和設(shè)在坩堝爐14外圍的中頻爐加熱線圈15，所述中頻冶煉爐8內(nèi)設(shè)有中頻爐旋轉(zhuǎn)傾倒軸16，中頻爐頂部裝有測溫裝置17。
[0019]所述中頻爐的右側(cè)裝有向其右下方向傾斜的導(dǎo)流槽18，所述導(dǎo)流槽18延伸至所述離心鑄模6旋轉(zhuǎn)平臺19的上端。
[0020]所述導(dǎo)流槽底端裝有導(dǎo)流口 20。
[0021]所述離心鑄模的旋轉(zhuǎn)平臺19內(nèi)裝有鑄模型腔21，所述鑄模型腔21上端裝有鑄模保溫壓板22，所述旋轉(zhuǎn)平臺19外圍設(shè)有加熱中頻線圈23。
[0022]所述下爐蓋2的殼體上還裝有電極連接法蘭24，所述電極連接法蘭24中套有離心鑄模6的電機連接法蘭25。
[0023]所述下爐蓋的殼體還裝有水冷電機罩26，所述水冷電機罩26位于電極連接法蘭25的下端。
[0024]所述下爐蓋的殼體上還裝有電機接線口 27。
【權(quán)利要求】
1.一種離心式熔煉澆鑄爐，其特征在于:包括真空殼體(I)、中頻冶煉爐(8)、離心鑄模機(6 )，所述真空殼體包括上爐蓋(2 )、下爐蓋(3 )以及中間爐體(4)，所述上爐蓋(2 )和中間爐體(4)通過第一法蘭(5)連接，所述中間爐體(4)與下爐蓋(3)通過第二法蘭(28)連接，所述真空殼體(I)為雙層結(jié)構(gòu)，中間設(shè)有水導(dǎo)流槽(7)，所述第二法蘭(28)中裝有用于安裝離心鑄模機(6)的旋轉(zhuǎn)平臺(19)，所述中間爐體(4)中設(shè)有中頻冶煉爐(8)，所述中間爐體(4)的殼體上裝有抽真空管路(9)，所述下爐蓋(2)中裝有離心鑄模機(6)的電機部件。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的離心式熔煉澆鑄爐，其特征在于:所述中間爐體(3)內(nèi)的左側(cè)裝有中頻爐支撐板(10)，所述中頻爐支撐板(10)上裝有支撐臺(11)，所述支撐臺(11)上裝有中頻冶煉爐(8)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的離心式熔煉澆鑄爐,其特征在于:所述中間爐體(3)的殼體上還裝有鑄模中頻加熱接線口(12)以及中頻冶煉爐接線孔(13)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的離心式熔煉澆鑄爐，其特征在于:所述中頻冶煉爐(8)包括內(nèi)部的坩堝爐(14 )和設(shè)在坩堝爐(14 )外圍的中頻爐加熱線圈(15 )，所述中頻冶煉爐(8 )內(nèi)設(shè)有中頻爐旋轉(zhuǎn)傾倒軸(16)，中頻冶煉爐(8)頂部裝有測溫裝置(17)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1或4所述的離心式熔煉澆鑄爐，其特征在于:所述中頻冶煉爐(8)的右側(cè)裝有向其右下方向傾斜的導(dǎo)流槽(18)，所述導(dǎo)流槽(18)延伸至所述離心鑄模(6)旋轉(zhuǎn)平臺(19)的上端。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的離心式熔煉澆鑄爐，其特征在于:所述導(dǎo)流槽(18)底端裝有導(dǎo)流口(20)。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的離心式熔煉澆鑄爐，其特征在于:所述離心鑄模的旋轉(zhuǎn)平臺(19 )內(nèi)裝有鑄模型腔(21)，所述鑄模型腔(21)上端裝有鑄模保溫壓板(22 )，所述旋轉(zhuǎn)平臺(19)外圍設(shè)有加熱中頻線圈(23)。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的離心式熔煉澆鑄爐，其特征在于:所述下爐蓋(2)的殼體上還裝有電極連接法蘭(24)，所述電極連接法蘭(24)中套有離心鑄模(6)的電機連接法蘭(25)。
9.根據(jù)權(quán)利要求1或8所述的離心式熔煉澆鑄爐，其特征在于:所述下爐蓋的殼體還裝有水冷電機罩(26 )，所述水冷電機罩(26 )位于電極連接法蘭(25 )的下端。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的離心式熔煉澆鑄爐，其特征在于:所述下爐蓋的殼體上還裝有電機接線口(27)。
【文檔編號】B22D13/00GK103752789SQ201310746762
【公開日】2014年4月30日 申請日期:2013年12月31日 優(yōu)先權(quán)日:2013年12月31日
【發(fā)明者】芮華, 牛登付 申請人:吳江億泰真空設(shè)備科技有限公司