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      一種線性蒸發(fā)源的制作方法

      文檔序號:3300307閱讀:515來源:國知局
      一種線性蒸發(fā)源的制作方法
      【專利摘要】本實用新型公開了一種線性蒸發(fā)源,包括線性蒸發(fā)源的主體及設置于線性蒸發(fā)源的主體上方的蓋板,所述主體一體成型,在所述主體內部兩端對稱開設有凹槽,所述凹槽內設有蒸發(fā)元件,所述兩個凹槽之間位于主體下方設有加熱元件;所述蓋板上開設有一排通孔構成噴嘴,所述蓋板與所述主體間螺紋連接。本實用新型的線性蒸發(fā)源不易變形,工作效率高,且可實現(xiàn)高均勻性厚膜。
      【專利說明】一種線性蒸發(fā)源
      【技術領域】
      [0001]本實用新型涉及一種真空熱蒸發(fā)鍍膜技術,具體涉及真空熱蒸發(fā)鍍膜技術中的一種線性蒸發(fā)源。
      【背景技術】
      [0002]真空熱蒸發(fā)鍍膜在有機EL (Electro Luminescence)顯示器等平板顯示器(FPD:Flat Panel Display)的制造過程中以及相應薄膜器件的產(chǎn)業(yè)化中被廣泛的使用,其基本原理是利用加熱的手段使源受熱蒸發(fā),由固相/液相變成氣相,然后氣體分子或原子在蒸發(fā)源與基板(襯底)之間輸運,最后蒸發(fā)的分子或原子在基板(襯底)上沉積。
      [0003]在有機發(fā)光顯示裝置中,發(fā)射可見光的有機發(fā)光層和接近有機發(fā)光層的有機層通過利用各種方法形成,尤其是真空熱蒸發(fā)鍍膜方法由于其簡單的工藝而經(jīng)常被使用。在真空熱蒸發(fā)鍍膜方法中,將粉狀或固態(tài)的沉積材料填充到熔爐中,并通過對熔爐進行加熱而在期望的區(qū)域上形成沉積膜。在真空熱蒸發(fā)鍍膜方法中,蒸發(fā)源是一種必不可少的設備,然而現(xiàn)有的蒸發(fā)源在使用中經(jīng)常會出現(xiàn)以下問題:蒸發(fā)源長時間加熱使用后容易變形,效率較低,并且鍍膜的厚度不均勻。
      [0004]中國專利ZL201220704968.9、ZL201020140696.5揭示了不同的線性蒸發(fā)源的結
      構,但是由于線源結構的特殊性導致其應用的范圍不廣。
      實用新型內容
      [0005]本實用新型目的是提供一種不易變形,工作效率高,且可實現(xiàn)高均勻性厚膜的線性蒸發(fā)源。
      [0006]本實用新型的技術方案是:一種線性蒸發(fā)源,用于大面積制造平板顯示器和照明面板,包括線性蒸發(fā)源的主體及設置于線性蒸發(fā)源的主體上方的蓋板,所述主體一體成型,在所述主體內部兩端對稱開設有凹槽,所述凹槽內設有蒸發(fā)元件構成蒸發(fā)單元,所述兩個凹槽之間位于主體下方設有加熱元件;所述蓋板上開設有一排通孔構成噴嘴,所述蓋板與所述主體間螺紋連接。
      [0007]優(yōu)選的,所述凹槽寬度為所述主體寬度的1/8-1/5。
      [0008]優(yōu)選的,所述凹槽為石英槽,其內設有蒸發(fā)元件構成蒸發(fā)單元。
      [0009]優(yōu)選的,所述加熱元件為電熱絲加熱器,所述電熱絲加熱器與上方的主體抵觸。
      [0010]優(yōu)選的,所述主體兩端開設有螺孔,與所述螺孔對應在所述蓋板上也開設有螺孔,與所述螺孔配合還設有螺栓,所述主體與蓋板間經(jīng)螺栓及螺孔連接構成所述的螺紋連接。
      [0011]優(yōu)選的,所述通孔孔徑為0.5-5_,所述通孔長度占蓋板長度的2/5_4/5,在所述通孔上方還設有擋板。
      [0012]優(yōu)選的,所述通孔下端與所述主體上端間的距離l-3cm。
      [0013]優(yōu)選的,所述主體及蓋板外部設有保溫板。
      [0014]優(yōu)選的,所述主體下方還設有水冷機構。[0015]本實用新型的有益效果是:通過將線性蒸發(fā)源的主體一體化成型,使主體不易變形,加熱元件與其上方的主體接觸,同時縮短主體與蓋板上的通孔之間的距離,加熱源置于兩個材料腔室的中間位置,使蒸鍍過程中保持噴嘴處于高溫狀態(tài),防止被堵住,工作效率較高;蓋板下部有臺階試的凹進,蓋板四周用螺絲與主體緊密連接,防止材料從縫隙溢出,提高材料利用率,同時在蓋板的通孔處可以設置擋板,實現(xiàn)高均勻性厚膜。同時在線源底部和兩側線源壁上裝有水冷裝置,保證蒸鍍完成后迅速降溫,以提高產(chǎn)品生產(chǎn)效率。
      【專利附圖】

      【附圖說明】
      [0016]下面結合附圖及實施例對本實用新型作進一步描述:
      [0017]圖1為本實用新型實施例一的結構示意圖;
      [0018]圖2為本實用新型實施例一中主體的結構示意圖;
      [0019]圖3為圖2的俯視圖;
      [0020]圖4為本實用新型實施例一中蓋板的結構示意圖;
      [0021]圖5為圖4的俯視圖;
      [0022]圖6為本實用新型實施例一的示意圖。
      [0023]其中:1、加熱元件;2、凹槽;3、主體;4、螺孔;5、通孔;7、上端;8、保溫板。
      【具體實施方式】
      [0024]實施例一:參見圖1至3所示,一種線性蒸發(fā)源,包括線性蒸發(fā)源的主體3及設置于線性蒸發(fā)源的主體上方的蓋板,所述主體一體成型,在所述主體內部兩端對稱開設有凹槽2,所述凹槽2內設有蒸發(fā)元件構成蒸發(fā)單元,所述兩個凹槽2之間位于主體3下方設有加熱元件I ;所述蓋板上開設有一排通孔5構成噴嘴,所述蓋板與所述主體間螺紋連接。
      [0025]具體參見圖2所示,凹槽2寬度為所述主體3寬度的1/8-1/5,所述加熱元件I為電熱絲加熱器,所述電熱絲加熱器與上方的主體抵觸;所述主體兩端開設有螺孔4,與所述螺孔對應在所述蓋板上也開設有螺孔,與所述螺孔配合還設有螺栓,所述主體與蓋板間經(jīng)螺栓及螺孔連接構成所述的螺紋連接。
      [0026]具體參見圖3所示,通孔5孔徑為0.5_5mm,所述通孔長度占蓋板長度的2/5_4/5,在所述通孔5上方還設有擋板;所述通孔5下端與所述主體3的上端7間的距離l-3cm。
      [0027]在所述主體3及蓋板外部設有保溫板8,所述主體下方還設有水冷機構。
      [0028]采用本實用新型中設計的線性蒸發(fā)源,進行膜厚均勻性測試。在300mmX 300mm的玻璃基板上縱向等間距位置上貼敷六個硅片進行膜厚測試。線性蒸發(fā)源大小按照玻璃尺寸設計,線源長400mm,蓋板上端噴嘴長度為360mm,噴嘴中間位置放置長為120mm的擋板,遮住中間部位的噴嘴。線性蒸發(fā)源的蒸發(fā)單元內填充有機蒸發(fā)材料NPB,利用PID控溫裝置使加熱絲加熱到260度,進行蒸鍍。測試結果如圖4所示,測試均勻性為4%,已經(jīng)很好地滿足在大面積成膜制備的要求。
      [0029]上述實施例只為說明本實用新型的技術構思及特點,其目的在于讓熟悉此項技術的人能夠了解本實用新型的內容并據(jù)以實施,并不能以此限制本實用新型的保護范圍。凡根據(jù)本實用新型主要技術方案的精神實質所做的等效變換或修飾,都應涵蓋在本實用新型的保護范圍之內。
      【權利要求】
      1.一種線性蒸發(fā)源,用于大面積制造平板顯示器和照明面板,其特征在于:包括線性蒸發(fā)源的主體(3)及設置于線性蒸發(fā)源的主體上方的蓋板,所述主體(3) —體成型;在所述主體(3)內部兩端對稱開設有凹槽(2)、所述凹槽內設有蒸發(fā)元件構成蒸發(fā)單元;所述兩個凹槽(2)之間位于主體(3)下方設有加熱元件(I);所述蓋板上開設有一排通孔(5)構成噴嘴,所述蓋板與所述主體間螺紋連接。
      2.根據(jù)權利要求1所述的一種線性蒸發(fā)源,其特征在于:所述凹槽(2)寬度為所述主體⑶寬度的1/8-1/5。
      3.根據(jù)權利要求1所述的一種線性蒸發(fā)源,其特征在于:所述凹槽為石英槽,其內設有蒸發(fā)元件構成蒸發(fā)單元。
      4.根據(jù)權利要求1所述的一種線性蒸發(fā)源,其特征在于:所述加熱元件(I)為電熱絲加熱器,所述電熱絲加熱器與上方的主體抵觸。
      5.根據(jù)權利要求1所述的一種線性蒸發(fā)源,其特征在于:所述主體(3)兩端開設有螺孔(4),與所述螺孔對應在所述蓋板上也開設有螺孔,與所述螺孔配合還設有螺栓,所述主體與蓋板間經(jīng)螺栓及螺孔連接構成所述的螺紋連接。
      6.根據(jù)權利要求1所述的一種線性蒸發(fā)源,其特征在于:所述通孔(5)孔徑為0.5-5_,所述通孔長度占蓋板長度的2/5-4/5,在所述通孔上方還設有擋板。
      7.根據(jù)權利要求1所述的一種線性蒸發(fā)源,其特征在于:所述通孔下端與所述主體上端(7)間的距離l-3cm。
      8.根據(jù)權利要求1所述的一種線性蒸發(fā)源,其特征在于:所述主體(3)及蓋板外部設有保溫板⑶。
      9.根據(jù)權利要求1所述的一種線性蒸發(fā)源,其特征在于:所述主體下方還設有水冷機構。
      【文檔編號】C23C14/12GK203411600SQ201320357682
      【公開日】2014年1月29日 申請日期:2013年6月21日 優(yōu)先權日:2013年6月21日
      【發(fā)明者】廖良生, 丁磊, 周旻, 陳敏, 周東營, 李楊帆 申請人:蘇州方昇光電裝備技術有限公司
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