一種三浸漬管真空循環(huán)精煉爐的制作方法
【專利摘要】本實用新型屬于真空循環(huán)精煉爐領(lǐng)域，具體是一種三浸漬管真空循環(huán)精煉爐，真空室下部采用三個浸漬管,其中一個浸漬管利用氣泡泵原理使鋼水上升,另外兩個浸漬管用于鋼水的下降,通過增加浸漬管的數(shù)量，來改變鋼水的速度，從而減小對浸漬管的侵蝕，同時利用三個浸漬管之間的角度，增加鋼水?dāng)嚢栊Ч?，改進鋼水循環(huán)。采用本方法可有效提升用于鋼水下降的浸漬管壽命低的問題，并通過鋼水循環(huán)的角度，解決在浸漬管使用后期鋼水循環(huán)不均勻的情況。
【專利說明】一種三浸漬管真空循環(huán)精煉爐
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實用新型屬于真空循環(huán)精煉爐領(lǐng)域，具體是一種三浸潰管真空循環(huán)精煉爐。
【背景技術(shù)】
[0002]RH (真空循環(huán)精煉爐)是一種常用的精煉設(shè)備，隨著對鋼水純凈度的要求越來越高，RH承擔(dān)了深脫硫的責(zé)任，而加入脫硫劑對浸潰管的損害非常大，特別是對用于鋼水下降的浸潰管的損壞大，在浸潰的使用末期，會造成鋼水循環(huán)不均勻，。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]本實用新型所要解決的技術(shù)問題是:如何降低鋼水循環(huán)不均勻性，有效降低鋼水對浸潰管的侵蝕，提升浸潰管使用壽命。
[0004]本實用新型所采用的技術(shù)方案是:一種三浸潰管真空循環(huán)精煉爐，包括圓柱狀真空室、第一浸潰管、第二浸潰管、第三浸潰管，所述真空室為圓柱狀，內(nèi)部中空，底部與所述第一浸潰管、所述第二浸潰管、所述第三浸潰管分別連通。
[0005]作為一種優(yōu)選方式:所述第一浸潰管、所述第二浸潰管、所述第三浸潰管的軸線的水平截面的連線構(gòu)成一個重心在真空室軸線延長線上的等邊三角形，所述等邊三角形的邊長與真空室直徑之比為0.4-0.55。
[0006]作為一種優(yōu)選方式:所述第一浸潰管的直徑為真空室直徑的20%_30%，所述第二浸潰管和所述第三浸潰管的直徑相等，所述第一浸潰管直徑與所述第二浸潰管直徑之比為1~1.4。
[0007]本實用新型的有益效果是:通過使用本實用新型，可增加真空室以及浸潰管的壽命，改善鋼水循環(huán)效果。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0008]圖1是本實用新型的主視圖示意圖；
[0009]圖2是本實用新型的俯視圖示意圖；
[0010]圖3是本實用新型的左視圖示意圖。
[0011]其中，1、第一浸潰管，2、第二浸潰管，3、第三浸潰管，4、真空管。
【具體實施方式】
[0012]如圖1、圖2、圖3所示，本實用新型主要包括第一浸潰管1、第二浸潰管2、第三浸潰管3、真空管4，其中第一浸潰管I用來使鋼水上升，第二浸潰管2、第三浸潰管3用于鋼水下降。
[0013]如圖2所示所述第一浸潰管1、所述第二浸潰管2、所述第三浸潰管3的軸線的水平截面的連線構(gòu)成一個重心在真空室4軸線延長線上的等邊三角形，等邊三角形的邊長為真空室4直徑的1/2，第一浸潰管I的直徑為真空室直徑4的0.25，第一浸潰管直徑1、第二浸潰管直徑2、第三浸潰管3相等。
[0014]本實施例僅是本實用新型的較佳實施例而已，并非對本實用新型作任何形式上的限制，本領(lǐng)域技術(shù)人員利用上述揭示的技術(shù)內(nèi)容做出些許簡單修改、等同變化或修飾，均落在本實用新型的保護范圍內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1.一種三浸潰管真空循環(huán)精煉爐，其特征在于:包括真空室、第一浸潰管、第二浸潰管、第三浸潰管，所述真空室為圓柱狀，內(nèi)部中空，底部與所述第一浸潰管、所述第二浸潰管、所述第三浸潰管分別連通。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述一種三浸潰管真空循環(huán)精煉爐，其特征在于:所述第一浸潰管、所述第二浸潰管、所述第三浸潰管的軸線的水平截面的連線構(gòu)成一個重心在真空室軸線延長線上的等邊三角形，所述等邊三角形的邊長與真空室直徑之比為0.1-0.55。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或者權(quán)利要求2所述的一種三浸潰管真空循環(huán)精煉爐，其特征在于:所述第一浸潰管的直徑為真空室直徑的20%-30%，所述第二浸潰管和所述第三浸潰管的直徑相等，所述第一浸潰管直徑與所述第二浸潰管直徑之比為廣1.4。
【文檔編號】C21C7/10GK203559074SQ201320462952
【公開日】2014年4月23日 申請日期:2013年7月31日 優(yōu)先權(quán)日:2013年7月31日
【發(fā)明者】侯東濤, 杜曉健 申請人:山西太鋼不銹鋼股份有限公司