技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明公開了一種波長(zhǎng)可調(diào)的熒光涂層及其制備方法和應(yīng)用，采用了磁控濺射法通過控制硅靶和硼靶的功率來調(diào)節(jié)熒光涂層的富硅量和摻硼量。摻硼量的變化在涂層中引入大量發(fā)光中心的同時(shí)，不同缺陷之間的比例也發(fā)生變化，從而實(shí)現(xiàn)熒光涂層的最大發(fā)射熒光波長(zhǎng)在很大范圍內(nèi)變化，即可以通過調(diào)節(jié)硼含量可以得到理想的發(fā)光色彩。本發(fā)明制備工藝簡(jiǎn)單，工業(yè)兼容性好，在熒光粉以及光電子器件領(lǐng)域有廣闊的應(yīng)用前景。

技術(shù)研發(fā)人員：李東升;劉國(guó)華;楊德仁
受保護(hù)的技術(shù)使用者：浙江大學(xué)
文檔號(hào)碼：201611040248
技術(shù)研發(fā)日：2016.11.21
技術(shù)公布日：2017.05.31