本實(shí)用新型涉及光學(xué)元件冷加工技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種拋光磨料研磨活化裝置。

背景技術(shù)：

隨著光學(xué)系統(tǒng)對(duì)光學(xué)元件的面形精度、表面粗糙度、激光損傷閾值、亞表面損傷等技術(shù)要求的日益提高，對(duì)光學(xué)元件冷加工所使用的拋光磨料要求也越來(lái)越高。拋光磨料在光學(xué)元件冷加工過(guò)程中作為輔料，可對(duì)加工表面進(jìn)行細(xì)微切削，要求拋光磨料的粒度分布均勻、化學(xué)性質(zhì)穩(wěn)定。目前的拋光磨料存在以下問(wèn)題：1.粒度分布不均，對(duì)光學(xué)元件表面的切削不均勻，產(chǎn)生表面及亞表面損傷，降低光學(xué)元件的表面粗糙度精度；2.在冷加工過(guò)程中會(huì)發(fā)生團(tuán)聚、結(jié)塊等不良現(xiàn)象，造成加工表面產(chǎn)生寬度大的深劃痕；3.拋光磨料的形狀不規(guī)則、棱角過(guò)于銳利，在加工表面產(chǎn)生表面裂紋，磨削效率不穩(wěn)定；由于存在上述問(wèn)題，目前的拋光磨料不能滿足在超光滑拋光、超微損傷拋光等技術(shù)領(lǐng)域中的使用要求。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)缺陷，本實(shí)用新型提供一種拋光磨料研磨活化裝置，對(duì)拋光磨料進(jìn)行研磨活化處理，使拋光磨料粒度更小、分布更加均勻、化學(xué)性質(zhì)更穩(wěn)定、懸浮性能更好，并使拋光磨料在進(jìn)入拋光前就得到活化，解決現(xiàn)有拋光磨料粒度分布不均及團(tuán)聚、結(jié)塊的問(wèn)題，降低光學(xué)元件表面/亞表面裂紋深度，降低光學(xué)元件表面粗糙度。

為解決上述技術(shù)問(wèn)題，本實(shí)用新型采用的技術(shù)方案是：

本實(shí)用新型提供一種拋光磨料研磨活化裝置，其特征是包括：儲(chǔ)液罐、攪拌器、輸液管、上磨盤、下磨盤、驅(qū)動(dòng)電機(jī)、集液槽、出液管、機(jī)臺(tái)、過(guò)濾池、輸送管、隔離罩；其中，含有拋光磨料的液體儲(chǔ)存在儲(chǔ)液罐內(nèi)，儲(chǔ)液罐內(nèi)放置攪拌器，上磨盤設(shè)置有進(jìn)液孔，拋光磨料流經(jīng)輸液管到達(dá)上磨盤進(jìn)液孔后進(jìn)入上磨盤和下磨盤之間；上磨盤在驅(qū)動(dòng)電機(jī)驅(qū)動(dòng)下轉(zhuǎn)動(dòng)，拋光磨料被上磨盤和下磨盤研磨，下磨盤周圍設(shè)置集液槽用于收集研磨后的拋光磨料；集液槽連接出液管，出液管末端連接過(guò)濾池，過(guò)濾池設(shè)置有一級(jí)過(guò)濾網(wǎng)、二級(jí)過(guò)濾網(wǎng)，過(guò)濾池連接輸送管。

所述上磨盤設(shè)置的進(jìn)液孔貫穿所述上磨盤的上下表面，所述上磨盤下面中心設(shè)置有內(nèi)齒輪；所述下磨盤固定在機(jī)臺(tái)上，所述下磨盤中心設(shè)置有通孔；所述驅(qū)動(dòng)電機(jī)的輸出端連接有外齒輪，所述驅(qū)動(dòng)電機(jī)的輸出端通過(guò)所述下磨盤中心的通孔，所述外齒輪與所述上磨盤的內(nèi)齒輪咬合。

所述上磨盤的材料是低膨脹系數(shù)的濟(jì)南青大理石，所述上磨盤為圓形，其直徑是1.2米，其厚度是0.12米；所述下磨盤的材料是低膨脹系數(shù)的濟(jì)南青大理石，所述下磨盤為圓形，其直徑是1.3米，其厚度是0.15米。

所述過(guò)濾池的一級(jí)過(guò)濾網(wǎng)有五層結(jié)構(gòu)，依次是紗布、無(wú)塵棉、紗布、無(wú)塵棉、紗布，所述紗布為醫(yī)用脫脂紗布，所述無(wú)塵棉為高級(jí)醫(yī)用脫脂棉；所述過(guò)濾池的二級(jí)過(guò)濾網(wǎng)有七層結(jié)構(gòu)，依次是紗布、無(wú)塵棉、紗布、無(wú)塵棉、紗布，無(wú)塵棉、紗布，所述紗布為醫(yī)用脫脂紗布，所述無(wú)塵棉為高級(jí)醫(yī)用脫脂棉。

本實(shí)用新型的工作過(guò)程是：含有拋光磨料的液體儲(chǔ)存在所述儲(chǔ)存罐內(nèi)，所述攪拌器工作對(duì)含有拋光磨料的液體進(jìn)行攪拌，拋光磨料通過(guò)所述輸液管輸送進(jìn)入隔離罩內(nèi)到達(dá)所述上磨盤進(jìn)液孔后，進(jìn)入所述上磨盤和所述下磨盤之間，所述上磨盤在所述驅(qū)動(dòng)電機(jī)驅(qū)動(dòng)下轉(zhuǎn)動(dòng)，拋光磨料被研磨，所述下磨盤周圍的所述集液槽收集研磨后的拋光磨料，通過(guò)所述出液管輸送到所述過(guò)濾池中，拋光磨料經(jīng)過(guò)所述一級(jí)過(guò)濾網(wǎng)、所述二級(jí)過(guò)濾網(wǎng)過(guò)濾后，通過(guò)輸送管輸出隔離罩到達(dá)拋光磨料使用端。

本實(shí)用新型的有益效果是：

本實(shí)用新型提供一種拋光磨料研磨活化裝置，對(duì)拋光磨料進(jìn)行研磨活化處理，使拋光磨料粒度更小、分布更加均勻、化學(xué)性質(zhì)更穩(wěn)定、懸浮性能更好，并使拋光磨料在進(jìn)入拋光前就得到活化，解決現(xiàn)有拋光磨料粒度分布不均及團(tuán)聚、結(jié)塊的問(wèn)題，降低光學(xué)元件表面/亞表面裂紋深度，降低光學(xué)元件表面粗糙度。

附圖說(shuō)明

附圖是本實(shí)用新型的一種拋光磨料研磨活化裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖中零部件及編號(hào)：1-儲(chǔ)液罐，101-攪拌器，2-輸液管，3-上磨盤，301-進(jìn)液孔，302-內(nèi)齒輪，4-下磨盤，401-通孔，5-驅(qū)動(dòng)電機(jī)，501-外齒輪，6-集液槽，7-出液管，8-機(jī)臺(tái)，9-過(guò)濾池，901-一級(jí)過(guò)濾網(wǎng)，902-二級(jí)過(guò)濾網(wǎng)，10-輸送管，11-隔離罩。

下面結(jié)合實(shí)施例和附圖對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)行進(jìn)一步說(shuō)明。

具體實(shí)施方式

如附圖，一種拋光磨料研磨活化裝置，其特征是包括：儲(chǔ)液罐1、攪拌器101、輸液管2、上磨盤3、下磨盤4、驅(qū)動(dòng)電機(jī)5、集液槽6、出液管7、機(jī)臺(tái)8、過(guò)濾池9、輸送管10、隔離罩11；其中，含有拋光磨料的液體儲(chǔ)存在儲(chǔ)液罐1內(nèi)，儲(chǔ)液罐1內(nèi)放置攪拌器101，上磨盤3設(shè)置有進(jìn)液孔301，拋光磨料流經(jīng)輸液管2到達(dá)上磨盤進(jìn)液孔301后進(jìn)入上磨盤3和下磨盤4之間；上磨盤3在驅(qū)動(dòng)電機(jī)5驅(qū)動(dòng)下轉(zhuǎn)動(dòng)，拋光磨料被上磨盤3和下磨盤4研磨，下磨盤4周圍設(shè)置集液槽6用于收集研磨后的拋光磨料；集液槽6連接出液管7，出液管7末端連接過(guò)濾池9，過(guò)濾池設(shè)置有一級(jí)過(guò)濾網(wǎng)901、二級(jí)過(guò)濾網(wǎng)902，過(guò)濾池9連接輸送管10。

所述上磨盤3設(shè)置的進(jìn)液孔301貫穿所述上磨盤3的上下表面，所述上磨盤3下面中心設(shè)置有內(nèi)齒輪302；所述下磨盤4固定在機(jī)臺(tái)8上，所述下磨盤4中心設(shè)置有通孔401；所述驅(qū)動(dòng)電機(jī)5的輸出端連接有外齒輪501，所述驅(qū)動(dòng)電機(jī)5的輸出端通過(guò)所述下磨盤4中心的通孔401，所述外齒輪501與所述上磨盤的內(nèi)齒輪302咬合。

所述上磨盤3的材料是低膨脹系數(shù)的濟(jì)南青大理石，所述上磨盤3為圓形，其直徑是1.2米，其厚度是0.12米；所述下磨盤4的材料是低膨脹系數(shù)的濟(jì)南青大理石，所述下磨盤4為圓形，其直徑是1.3米，其厚度是0.15米。

所述過(guò)濾池9的一級(jí)過(guò)濾網(wǎng)901有五層結(jié)構(gòu)，依次是紗布、無(wú)塵棉、紗布、無(wú)塵棉、紗布，所述紗布為醫(yī)用脫脂紗布，所述無(wú)塵棉為高級(jí)醫(yī)用脫脂棉；所述過(guò)濾池9的二級(jí)過(guò)濾網(wǎng)902有七層結(jié)構(gòu)，依次是紗布、無(wú)塵棉、紗布、無(wú)塵棉、紗布，無(wú)塵棉、紗布，所述紗布為醫(yī)用脫脂紗布，所述無(wú)塵棉為高級(jí)醫(yī)用脫脂棉。

本實(shí)用新型的工作過(guò)程是：含有拋光磨料的液體儲(chǔ)存在所述儲(chǔ)存罐1內(nèi)，所述攪拌器101工作對(duì)含有拋光磨料的液體進(jìn)行攪拌，拋光磨料通過(guò)所述輸液管2輸送進(jìn)入隔離罩11內(nèi)到達(dá)所述上磨盤3進(jìn)液孔301后，進(jìn)入所述上磨盤3和所述下磨盤4之間，所述上磨盤3在所述驅(qū)動(dòng)電機(jī)5驅(qū)動(dòng)下轉(zhuǎn)動(dòng)，拋光磨料被研磨，所述下磨盤4周圍的所述集液槽6收集研磨后的拋光磨料，通過(guò)所述出液管7輸送到所述過(guò)濾池9中，拋光磨料經(jīng)過(guò)所述一級(jí)過(guò)濾網(wǎng)901、所述二級(jí)過(guò)濾網(wǎng)902過(guò)濾后，通過(guò)輸送管10輸出所述隔離罩11到達(dá)拋光磨料使用端。

以上所述僅為本實(shí)用新型實(shí)施例，并非因此限定本實(shí)用新型的專利范圍，凡是利用本說(shuō)明書內(nèi)容所作的等效結(jié)構(gòu)或等效流程變換，或直接或間接運(yùn)用在其它相關(guān)的技術(shù)領(lǐng)域，均同理包括的本實(shí)用新型的專利保護(hù)范圍之內(nèi)。