技術(shù)特征：

技術(shù)總結(jié)
本公開提供了一種饋入結(jié)構(gòu)、上電極組件以及物理氣相沉積腔室和設(shè)備。射頻功率經(jīng)饋入結(jié)構(gòu)的引入桿中心饋入，并由多個(gè)分配桿均勻分配到靶材。

技術(shù)研發(fā)人員：鄧玉春;張超;陳鵬;邱國慶;趙夢欣
受保護(hù)的技術(shù)使用者：北京北方華創(chuàng)微電子裝備有限公司
技術(shù)研發(fā)日：2017.06.29
技術(shù)公布日：2017.08.25