本實(shí)用新型涉及瓷磚生產(chǎn)設(shè)備領(lǐng)域，特別是涉及一種瓷磚復(fù)合運(yùn)動軌跡拋光裝置。

背景技術(shù)：

陶瓷質(zhì)磚拋光機(jī)的主要作用是對燒制完成的磚坯表面進(jìn)行磨削，以提高燒制磚坯的平面度及光澤度。

傳統(tǒng)的拋光機(jī)，磚坯在傳動皮帶上輸送的同時(shí)，磨頭高速旋轉(zhuǎn)并隨橫梁一起擺動，安裝于磨頭上的磨塊一方面繞擺桿座擺動，使其與磚坯表面呈線接觸，同時(shí)隨磨盤公轉(zhuǎn)，隨橫梁擺動。多個(gè)運(yùn)動的疊加對磚坯表面形成連續(xù)的研磨加工，最終使磚坯獲得平整光滑的表面。單個(gè)磨頭在瓷磚表面的加工軌跡如圖18所示。

近年來隨著寬體窯的推廣，陶瓷生產(chǎn)線的產(chǎn)量越來越高，由于各廠基本為一機(jī)一線配置，所以拋光機(jī)的線速度越來越快，將近十年的時(shí)間，拋光機(jī)線速度從5m/min提高到30m/min，增長了近6倍。由于走磚線速度的提高，單個(gè)磨頭對磚面不能進(jìn)行有效覆蓋，漏拋的區(qū)域越來越大，需要配置更多的磨頭來增加覆蓋，但同時(shí)也導(dǎo)致磚坯中間部分過度磨削、生產(chǎn)線的長度及裝機(jī)功率不斷增加，如圖18所示。

磚面加寬后，由于橫梁擺動行程加長，擺動的頻次及線速度不可能無限提高，從而導(dǎo)致單線產(chǎn)量降低、磚坯漏拋和過磨的矛盾也更加突出。

如何提高磨削的均勻性及單個(gè)磨頭對磚坯的覆蓋率就成為大板及噴墨滲花磚高產(chǎn)量拋光過程中急需解決的一個(gè)問題。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

基于此，本實(shí)用新型的目的在于，提供一種瓷磚復(fù)合運(yùn)動軌跡拋光裝置，其具有加工質(zhì)量高、占地面積小、生產(chǎn)效率高、能耗少的優(yōu)點(diǎn)。

一種瓷磚復(fù)合運(yùn)動軌跡拋光裝置，包括機(jī)架及設(shè)置在機(jī)架上的橫向進(jìn)給組件、縱向進(jìn)給組件、拋光組件和輸送組件；所述橫向進(jìn)給組件包括橫向進(jìn)給器和支撐板，所述橫向進(jìn)給器的輸出端與所述支撐板連接并用于帶動所述支撐板橫向移動；所述縱向進(jìn)給組件包括縱向進(jìn)給器和支撐梁，所述縱向進(jìn)給器設(shè)置在所述支撐板上，所述縱向進(jìn)給器的輸出端與所述支撐梁連接并用于帶動所述支撐梁縱向移動；所述拋光組件設(shè)置于所述支撐梁上；所述輸送組件包括輸送電機(jī)和輸送帶，所述輸送電機(jī)的輸出端與所述輸送帶傳動連接，所述輸送帶位于所述拋光組件下方且所述輸送帶的輸送方向與所述支撐梁平行。

本實(shí)用新型的瓷磚復(fù)合運(yùn)動軌跡拋光裝置通過設(shè)置橫向進(jìn)給組件和縱向進(jìn)給組件，實(shí)現(xiàn)了對拋光組件在橫向和縱向的同時(shí)進(jìn)給，有效地提高了磨頭的有效覆蓋率，減少了漏拋或過磨的現(xiàn)象，提高了瓷磚表現(xiàn)的加工品質(zhì)和質(zhì)量，同時(shí)，其占地面積小、設(shè)備少，對模具的消耗少，既提高了生產(chǎn)效率，又有效降低了能耗。

進(jìn)一步地，所述橫向進(jìn)給器為橫向進(jìn)給電機(jī)；所述橫向進(jìn)給組件還包括橫向進(jìn)給絲杠，所述橫向進(jìn)給絲杠通過一橫向絲杠支撐座固定，所述橫向進(jìn)給絲杠的一端與所述橫向進(jìn)給電機(jī)的輸出端連接，所述橫向進(jìn)給絲杠上設(shè)置有一橫向滾珠螺母，所述橫向滾珠螺母與所述支撐板連接。

進(jìn)一步地，所述橫向進(jìn)給組件還包括橫向?qū)к墸鰴M向?qū)к壴O(shè)置于所述機(jī)架上，所述支撐板通過一滑塊滑動設(shè)置于所述橫向?qū)к壣稀?/p>

進(jìn)一步地，所述縱向進(jìn)給器為縱向進(jìn)給電機(jī)；所述縱向進(jìn)給組件還包括縱向?qū)к壓涂v向進(jìn)給絲杠，所述支撐梁滑動設(shè)置于所述縱向?qū)к壣?，所述縱向進(jìn)給絲杠通過一縱向進(jìn)給絲杠支撐座固定于所述支撐板上，所述縱向進(jìn)給絲杠上設(shè)置有縱向滾珠螺母，所述縱向滾珠螺母與所述支撐梁連接，所述縱向進(jìn)給絲杠的一端與所述縱向進(jìn)給電機(jī)的輸出端連接。

進(jìn)一步地，所述拋光組件包括磨頭驅(qū)動電機(jī)、磨頭主軸和磨頭；所述磨頭驅(qū)動電機(jī)豎直設(shè)置于所述支撐梁上，所述磨頭驅(qū)動電機(jī)的輸出端經(jīng)一磨頭驅(qū)動帶與所述磨頭主軸連接，所述磨頭固定于所述磨頭主軸上。

進(jìn)一步地，所述拋光組件還包括磨頭推動氣缸，所述磨頭推動氣缸的缸體固定于所述支撐梁上，所述磨頭推動氣缸的活塞桿與所述磨頭主軸套接，所述磨頭推動氣缸用于帶動所述磨頭主軸上下移動。

進(jìn)一步地，所述輸送組件還包括輸送帶輪，所述輸送帶輪樞接于所述機(jī)架的下部，所述輸送帶設(shè)置于所述輸送帶輪上，所述輸送電機(jī)的輸出端與所述輸送帶輪連接。

進(jìn)一步地，還包括控制器，所述控制器設(shè)置在所述機(jī)架上，所述控制器與所述橫向進(jìn)給組件、縱向進(jìn)給組件、拋光組件和輸送組件信號連接。

相對于現(xiàn)有技術(shù)，本實(shí)用新型的瓷磚復(fù)合運(yùn)動軌跡拋光裝置通過設(shè)置橫向進(jìn)給組件和縱向進(jìn)給組件，實(shí)現(xiàn)了對拋光組件在橫向和縱向的同時(shí)進(jìn)給，有效地提高了磨頭的有效覆蓋率，減少了漏拋或過磨的現(xiàn)象，提高了瓷磚表現(xiàn)的加工品質(zhì)和質(zhì)量，同時(shí)，其占地面積小、設(shè)備少，對模具的消耗少，既提高了生產(chǎn)效率，又有效降低了能耗。本實(shí)用新型的瓷磚復(fù)合運(yùn)動軌跡拋光裝置具有加工質(zhì)量高、占地面積小、生產(chǎn)效率高、能耗少等優(yōu)點(diǎn)。

為了更好地理解和實(shí)施，下面結(jié)合附圖詳細(xì)說明本實(shí)用新型。

附圖說明

圖1是本實(shí)用新型的瓷磚復(fù)合運(yùn)動軌跡拋光裝置的主視圖。

圖2是本實(shí)用新型的瓷磚復(fù)合運(yùn)動軌跡拋光裝置的俯視圖。

圖3是本實(shí)用新型的瓷磚復(fù)合運(yùn)動軌跡拋光裝置的側(cè)視圖。

圖4是橫向進(jìn)給組件的結(jié)構(gòu)示意圖。

圖5是縱向進(jìn)給組件的結(jié)構(gòu)示意圖。

圖6是拋光組件的結(jié)構(gòu)示意圖。

圖7是步驟S1的移動示意圖。

圖8是步驟S1的合成移動示意圖。

圖9是步驟S1的合成向量示意圖。

圖10是步驟S1的拋光軌跡示意圖。

圖11是步驟S2的移動示意圖。

圖12是步驟S2的拋光軌跡示意圖。

圖13是步驟S3的移動示意圖。

圖14是步驟S3的拋光軌跡示意圖。

圖15是步驟S4的移動示意圖。

圖16是步驟S4的拋光軌跡示意圖。

圖17是瓷磚表面的復(fù)合拋光軌跡的示意圖。

圖18是現(xiàn)有技術(shù)的瓷磚表面拋光軌跡示意圖。

具體實(shí)施方式

請參閱圖1-3，本實(shí)用新型的瓷磚復(fù)合運(yùn)動軌跡拋光裝置，包括機(jī)架10及設(shè)置在機(jī)架10上的橫向進(jìn)給組件20、縱向進(jìn)給組件30、拋光組件40、輸送組件50和控制器。橫向進(jìn)給組件20用于帶動拋光組件40進(jìn)行橫向進(jìn)給，縱向進(jìn)給組件30用于帶動拋光組件40進(jìn)行縱向進(jìn)給，輸送組件50則用于為拋光組件40輸送瓷磚。所述控制器設(shè)置在所述機(jī)架10上，所述控制器與所述橫向進(jìn)給組件20、縱向進(jìn)給組件30、拋光組件40和輸送組件50信號連接。

請參閱圖4，本實(shí)施例的所述橫向進(jìn)給組件20包括橫向進(jìn)給器21、支撐板22、橫向進(jìn)給絲杠23和橫向?qū)к?4。

所述橫向進(jìn)給器21的輸出端與所述支撐板22連接并用于帶動所述支撐板22橫向移動。本實(shí)施例還優(yōu)選地設(shè)置了一橫向進(jìn)給器支撐座25，其用于將所述橫向進(jìn)給器21固定在機(jī)架10上。所述橫向進(jìn)給器21為橫向進(jìn)給電機(jī)。

所述橫向進(jìn)給絲杠23通過一橫向絲杠支撐座26固定，所述橫向進(jìn)給絲杠23的一端與所述橫向進(jìn)給電機(jī)的輸出端連接，所述橫向進(jìn)給絲杠23上設(shè)置有一橫向滾珠螺母27，所述橫向滾珠螺母27與所述支撐板22連接。所述橫向?qū)к?4設(shè)置于所述機(jī)架10上，所述支撐板22通過一滑塊滑動設(shè)置于所述橫向?qū)к?4上。本實(shí)施例的所述橫向?qū)к?4優(yōu)選地通過一橫向?qū)к壷ё?8固定于機(jī)架10上。本實(shí)施例使用聯(lián)軸器將橫向進(jìn)給絲杠23的一端與所述橫向進(jìn)給電機(jī)連接。

請參閱圖5，本實(shí)施例的所述縱向進(jìn)給組件30包括縱向進(jìn)給器31、支撐梁32、縱向?qū)к?3和縱向進(jìn)給絲杠34。

所述縱向進(jìn)給器31設(shè)置在所述支撐板22上，本實(shí)施例優(yōu)選地設(shè)置了一縱向進(jìn)給器支撐板35以將縱向進(jìn)給器設(shè)置于所述支撐板22上。所述縱向進(jìn)給器31的輸出端與所述支撐梁32連接并用于帶動所述支撐梁32縱向移動。本實(shí)施例的所述縱向進(jìn)給器31為縱向進(jìn)給電機(jī)。

所述支撐梁32滑動設(shè)置于所述縱向?qū)к?3上，所述縱向進(jìn)給絲杠34通過一縱向絲杠支撐座36固定于所述支撐板22上，所述縱向進(jìn)給絲杠34上設(shè)置有縱向滾珠螺母37，所述縱向滾珠螺母37與所述支撐梁32連接，所述縱向進(jìn)給絲杠34的一端與所述縱向進(jìn)給電機(jī)的輸出端連接。

請參閱圖6，所述拋光組件40設(shè)置于所述支撐梁32上。本實(shí)施例的所述拋光組件40包括磨頭驅(qū)動電機(jī)41、磨頭推動氣缸42、磨頭主軸43和磨頭44。

所述磨頭驅(qū)動電機(jī)41豎直設(shè)置于所述支撐梁32上，所述磨頭驅(qū)動電機(jī)41的輸出端經(jīng)一磨頭驅(qū)動帶45與所述磨頭主軸43連接，所述磨頭44固定于所述磨頭主軸43上。

所述磨頭推動氣缸42的缸體固定于所述支撐梁32上，所述磨頭推動氣缸42的活塞桿與所述磨頭主軸43套接，所述磨頭推動氣缸42用于帶動所述磨頭主軸43上下移動。通過套接，在磨頭主軸43在磨頭驅(qū)動電機(jī)41帶動旋轉(zhuǎn)時(shí)，磨頭主軸43不會與磨頭推動氣缸42的活塞桿發(fā)生干涉，在需要調(diào)整磨頭44高度時(shí)，啟動磨頭推動氣缸42推動磨頭主軸43上下移動即可。

本實(shí)施例的所述輸送組件50包括輸送電機(jī)51、輸送帶輪52和輸送帶53。所述輸送電機(jī)51的輸出端與所述輸送帶53傳動連接，所述輸送帶53位于所述拋光組件40下方且所述輸送帶53的輸送方向與所述支撐梁32平行。所述輸送帶輪52樞接于所述機(jī)架10的下部，所述輸送帶53設(shè)置于所述輸送帶輪52上，所述輸送電機(jī)51的輸出端與所述輸送帶輪52連接。

本實(shí)施例的橫向進(jìn)給器21、縱向進(jìn)給器31、磨頭驅(qū)動電機(jī)41和輸送電機(jī)51均優(yōu)選地設(shè)置為伺服電機(jī)。

本實(shí)用新型的瓷磚復(fù)合運(yùn)動軌跡拋光裝置的拋光方法，包括以下步驟：

設(shè)橫向進(jìn)給器21推動支撐板22往復(fù)移動的兩個(gè)相反的速度分別為和二者的絕對值相等；縱向進(jìn)給器31推動支撐梁32往復(fù)移動的兩個(gè)相反的速度分別為和二者的絕對值相等；支撐板22和支撐梁32的合速度為

設(shè)輸送帶53輸送瓷磚的速度的絕對值為v；

令v與或的絕對值的差值恒定且不為0；

S1.請參閱圖7-圖10。

啟動輸送組件50，輸送電機(jī)51帶動輸送帶53輸送瓷磚；

啟動橫向進(jìn)給組件20和縱向進(jìn)給組件30，橫向進(jìn)給器21推動支撐板22進(jìn)行向的橫向移動，支撐梁32和拋光組件隨之進(jìn)行橫向移動，

同時(shí)，縱向進(jìn)給器31推動支撐梁32進(jìn)行向的縱向移動，

在此期間，拋光組件40對瓷磚進(jìn)行拋光，

直至支撐梁32在橫向和縱向均移動至極限位置。

不考慮輸送帶53的進(jìn)給時(shí)，

向的橫向移動與向的縱向移動的合運(yùn)動為斜線運(yùn)動

通過調(diào)整v的大小，及和的方向和絕對值的大小，v與結(jié)合，可得到一條橫向穿過瓷磚表面的的直線，即為該步驟瓷磚表面的拋光軌跡，如圖10所示。

S2.請參閱圖11和圖12。

橫向進(jìn)給組件20停止動作，其停止動作保持時(shí)間為N；

在該N時(shí)間段內(nèi)，縱向進(jìn)給組件30的縱向推動器推動支撐梁32進(jìn)行向的縱向移動，

在此期間，拋光組件40進(jìn)行拋光，

直至支撐梁32在縱向移動至極限位置；

由于橫向進(jìn)給組件20停止動作，此時(shí)，拋光組件的進(jìn)給只有向的縱向移動，而與v的合運(yùn)動與共線，在瓷磚表面的拋光軌跡即為在瓷磚上縱向的直線，瓷磚表面的拋光軌跡如圖12所示。

S3.請參閱圖13-14。

橫向進(jìn)給組件20重新啟動，橫向進(jìn)給器21推動支撐板22進(jìn)行向的橫向移動，支撐梁32和拋光組件40隨之進(jìn)行橫向移動，

同時(shí)，縱向進(jìn)給器31推動支撐梁32進(jìn)行向的縱向移動，

在此期間，拋光組件40對瓷磚進(jìn)行拋光，

直至支撐梁32在橫向和縱向均移動至極限位置。

其拋光原理和軌跡可參照S1。

S4.請參閱圖15-16。

橫向進(jìn)給組件20停止動作，其停止動作保持時(shí)間也為N；

在該N時(shí)間段內(nèi)，縱向進(jìn)給組件30的縱向推動器推動支撐梁32進(jìn)行向的縱向移動，

在此期間，拋光組件40進(jìn)行拋光，

直至支撐梁32在縱向移動至極限位置。

其拋光原理和軌跡可參照S2。

S5.重復(fù)S1至S4。

瓷磚表面的復(fù)合拋光軌跡如圖17所示。

瓷磚表面的軌跡為矩形軌跡，其大幅度提高了磨頭44的有效覆蓋率，減少了漏拋或過磨的現(xiàn)象。

相對于現(xiàn)有技術(shù)，本實(shí)用新型的瓷磚復(fù)合運(yùn)動軌跡拋光裝置通過設(shè)置橫向進(jìn)給組件和縱向進(jìn)給組件，實(shí)現(xiàn)了對拋光組件在橫向和縱向的同時(shí)進(jìn)給，有效地提高了磨頭的有效覆蓋率，減少了漏拋或過磨的現(xiàn)象，提高了瓷磚表現(xiàn)的加工品質(zhì)和質(zhì)量，同時(shí)，其占地面積小、設(shè)備少，對模具的消耗少，既提高了生產(chǎn)效率，又有效降低了能耗。本實(shí)用新型的瓷磚復(fù)合運(yùn)動軌跡拋光裝置具有加工質(zhì)量高、占地面積小、生產(chǎn)效率高、能耗少等優(yōu)點(diǎn)。

以上所述實(shí)施例僅表達(dá)了本實(shí)用新型的幾種實(shí)施方式，其描述較為具體和詳細(xì)，但并不能因此而理解為對實(shí)用新型專利范圍的限制。應(yīng)當(dāng)指出的是，對于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說，在不脫離本實(shí)用新型構(gòu)思的前提下，還可以做出若干變形和改進(jìn)，這些都屬于本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。