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      一種氫摻雜氧化鋅可見-近紅外透明導(dǎo)電薄膜及其制備方法

      文檔序號(hào):40238881發(fā)布日期:2024-12-06 17:03閱讀:來源:國(guó)知局

      技術(shù)特征:

      1.一種氫摻雜氧化鋅可見-近紅外透明導(dǎo)電薄膜,其特征在于,其制備方法如下:利用磁控濺射,以氧化鋅為靶材,并以混合有氫氣和/或水蒸氣的惰性氣體為濺射氣體,通過將濺射氣體中氫氣、水蒸氣的總體積占比控制為2~10%,并控制濺射氣壓為0.2~1.2pa,濺射功率密度為3.0~5.0w·cm-2,即可在襯底上沉積得到氫摻雜氧化鋅可見-近紅外透明導(dǎo)電薄膜;

      2.如權(quán)利要求1所述氫摻雜氧化鋅可見-近紅外透明導(dǎo)電薄膜,其特征在于,室溫下,所述透明導(dǎo)電薄膜的載流子遷移率高于35cm2·v-1·s-1,方阻低于30ω·sq-1。

      3.如權(quán)利要求1所述氫摻雜氧化鋅可見-近紅外透明導(dǎo)電薄膜,其特征在于,所述透明導(dǎo)電薄膜厚度為100~800nm。

      4.如權(quán)利要求1-3任意一項(xiàng)所述氫摻雜氧化鋅可見-近紅外透明導(dǎo)電薄膜的制備方法,其特征在于,包括如下步驟:

      5.如權(quán)利要求4所述制備方法,其特征在于,所述濺射時(shí)間為30~120分鐘,相應(yīng)得到的透明導(dǎo)電薄膜厚度為100~800nm。

      6.如權(quán)利要求4所述制備方法,其特征在于,所述惰性氣體為氬氣、氦氣中的至少一種。

      7.如權(quán)利要求4所述制備方法,其特征在于,磁控濺射過程中,襯底溫度為20~60℃。

      8.如權(quán)利要求1-3任意一項(xiàng)所述氫摻雜氧化鋅可見-近紅外透明導(dǎo)電薄膜作為0.78μm~2.50μm波段透明導(dǎo)電薄膜的應(yīng)用,其特征在于,該氫摻雜氧化鋅可見-近紅外透明導(dǎo)電薄膜在0.78μm~2.50μm波段的透過率不低于70%。

      9.如權(quán)利要求1-3任意一項(xiàng)所述氫摻雜氧化鋅可見-近紅外透明導(dǎo)電薄膜作為0.38μm~0.78μm波段透明導(dǎo)電薄膜的應(yīng)用,其特征在于,該氫摻雜氧化鋅可見-近紅外透明導(dǎo)電薄膜在0.38μm~0.78μm波段的透過率不低于60%。


      技術(shù)總結(jié)
      本發(fā)明屬于透明導(dǎo)電薄膜技術(shù)領(lǐng)域,公開了一種氫摻雜氧化鋅可見?近紅外透明導(dǎo)電薄膜及其制備方法,該透明導(dǎo)電薄膜在0.38μm~0.78μm波段的透過率不低于60%,在0.78μm~2.50μm波段的透過率不低于70%,同時(shí)室溫下電導(dǎo)率高于0.8×10<supgt;3</supgt;S·cm<supgt;?1</supgt;,制備方法如下:利用磁控濺射,以氧化鋅為靶材,并以混合有氫氣和/或水蒸氣的惰性氣體為濺射氣體,通過將濺射氣體中氫氣、水蒸氣的總體積占比控制為2~10%,并控制濺射氣壓、濺射功率密度,即可在襯底上沉積得到氫摻雜氧化鋅透明導(dǎo)電薄膜。本發(fā)明通過控制薄膜的組成及結(jié)晶性,進(jìn)而控制薄膜的載流子濃度、并提升遷移率,能夠有效解決傳統(tǒng)透明導(dǎo)電薄膜難以兼容高近紅外透過率和高電導(dǎo)率的技術(shù)問題。

      技術(shù)研發(fā)人員:胡彬,李依依
      受保護(hù)的技術(shù)使用者:華中科技大學(xué)
      技術(shù)研發(fā)日:
      技術(shù)公布日:2024/12/5
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