特征在于:上述磁性層的至少I層是軟磁性層。
[0072](其它的構(gòu)成)
[0073]在本發(fā)明的另一實施方式中，是一種磁盤用玻璃襯底的制造方法，具有使研磨墊與多成分系列的玻璃襯底的表面接觸、對上述玻璃襯底的表面供給含有研磨砂粒的研磨液、通過使上述玻璃襯底與上述研磨墊相對地移動來研磨該玻璃襯底的表面的鏡面研磨工序，將上述研磨液的PH值保持在既定的范圍內(nèi)。在該情況下，優(yōu)選地，將上述研磨液的pH值保持為大于等于I且小于等于3。
[0074]再有，在該實施方式中，上述研磨液優(yōu)選含有用于使上述研磨液的pH值成為酸性的無機酸和用于使上述研磨液的pH值保持為恒定的緩沖劑。在此，上述無機酸優(yōu)選是硫酸。此外，上述緩沖劑優(yōu)選是有機酸，更優(yōu)選地，上述有機酸是酒石酸或馬來酸。
[0075]此外，在本發(fā)明的又一實施方式中，是一種磁盤用玻璃襯底的制造方法，具有使研磨墊與多成分系列的玻璃襯底的表面接觸、對上述玻璃襯底的表面供給含有研磨砂粒的研磨液、通過使上述玻璃襯底與上述研磨墊相對地移動來研磨該玻璃襯底的表面的鏡面研磨工序，優(yōu)選設為如下構(gòu)成:控制上述研磨液的凝集度和分散度來進行該鏡面研磨工序，以使表示利用鏡面研磨工序得到的玻璃襯底的端部形狀的Duboff值在±10nm以內(nèi)。
[0076]再有，在本發(fā)明中，優(yōu)選使上述研磨液中含有的上述研磨砂粒的ζ電位小于等于一 1mV或大于等于+10mV。
[0077]此外，在本發(fā)明中，上述研磨液優(yōu)選呈酸性。在此，在上述研磨液的pH值是2.0的情況下，上述研磨砂粒的ζ電位優(yōu)選小于等于一 1mV或大于等于+10mV。此外，在上述研磨液的PH值是3.0的情況下，上述研磨砂粒的ζ電位優(yōu)選小于等于一 30mV或大于等于+30mV。上述研磨液中含有的上述研磨砂粒優(yōu)選是膠體狀二氧化硅粒子。
[0078]再者，在上述發(fā)明中，上述研磨液中含有的上述研磨砂粒優(yōu)選是膠體狀二氧化硅粒子。
[0079]此外，在上述發(fā)明中，上述玻璃襯底優(yōu)選含有網(wǎng)眼結(jié)構(gòu)的玻璃骨架和修飾該網(wǎng)眼結(jié)構(gòu)的修飾離子。
[0080]此外，在上述發(fā)明中，上述玻璃襯底優(yōu)選含有大于等于58重量％?小于等于75重量％的S12、大于等于5重量％且小于等于23重量％的Al2O3、大于等于3重量％且小于等于10重量％的Li2O和大于等于4重量％且小于等于13重量％的Na2O作為主要成分。[0081 ] 此外，在上述發(fā)明中，在上述鏡面研磨工序中，優(yōu)選經(jīng)上述研磨墊用上臺面和下臺面夾住上述玻璃襯底，對上述玻璃襯底的表面供給含有研磨砂粒的研磨液，通過使上述玻璃襯底與上述上臺面和上述下臺面相對地移動，對上述玻璃襯底的表面進行鏡面研磨。
[0082]此外，在上述發(fā)明中，優(yōu)選由對于酸具有耐蝕性的材料構(gòu)成上述上臺面和上述下臺面。
[0083]此外，在上述發(fā)明中，優(yōu)選地，在上述鏡面研磨工序之前還具有預先研磨上述玻璃襯底的表面的預備研磨工序，在上述預備研磨工序中，使研磨墊與上述玻璃襯底的表面接觸，對上述玻璃襯底的表面供給含有研磨砂粒的研磨液，使上述玻璃襯底與上述研磨墊相對地移動以研磨上述玻璃襯底的表面，上述預備研磨工序中的上述研磨砂粒是粒徑不到4 μπι的氧化鐘粒子。此外，上述預備研磨工序中的上述研磨墊優(yōu)選含有氧化錯粒子或氧化鐘粒子。
[0084]此外，根據(jù)本發(fā)明的磁盤的制造方法是在使用上述的磁盤用玻璃襯底的制造方法制造的玻璃襯底上形成磁性層的構(gòu)成。再者，在根據(jù)本發(fā)明的磁盤的制造方法中，通過在上述玻璃襯底上形成至少I層軟磁性層可得到垂直磁記錄磁盤。
[0085](發(fā)明的效果)
[0086]根據(jù)本發(fā)明可提供在研磨處理的中途不使研磨加工速度下降、且可確保高的生產(chǎn)性的磁盤用玻璃襯底的制造方法和磁盤的制造方法。再者，根據(jù)本發(fā)明可提供能得到良好的端部形狀的磁盤用玻璃襯底的制造方法和磁盤的制造方法。
【附圖說明】
[0087]圖1是用于實施作為本發(fā)明的實施方式的磁盤用玻璃襯底的制造方法的研磨裝置的剖面結(jié)構(gòu)圖。
[0088]圖2是將根據(jù)本發(fā)明的另一實施方式的實施例1?6中的研磨液的pH值與研磨加工速度的關系作成表來表不的圖。
[0089]圖3是將根據(jù)本發(fā)明的參考例I?4中的研磨砂粒的ζ電位與實施鏡面研磨工序后的玻璃襯底I的端部形狀的關系作成表來表不的圖。
[0090]圖4是將根據(jù)本發(fā)明的又一實施方式的實施例1?3和根據(jù)比較例I的研磨砂粒的ζ電位與實施鏡面研磨工序后的玻璃襯底的端部形狀的關系作成表來表示的圖。
[0091]圖5是將根據(jù)本發(fā)明的參考例I?6的研磨液的pH值與研磨加工速度的關系作成表來表不的圖。
[0092](符號說明)
[0093]I玻璃襯底
[0094]2研磨墊
[0095]3a上臺面
[0096]3b下臺面
[0097]10研磨裝置
【具體實施方式】
[0098]〔第I實施方式〕
[0099]作為磁盤用玻璃襯底，非晶玻璃是合適的。這是因為，非晶玻璃與例如結(jié)晶化玻璃或玻璃陶瓷不同，可通過進行鏡面研磨使其表面極為平滑。
[0100]作為玻璃材料，硅酸鋁玻璃等的多成分系列玻璃可合適地用作磁盤用玻璃襯底的材料。在玻璃中，硅酸鋁玻璃例如與硼硅酸玻璃相比，具有在耐熱性、耐藥品性方面優(yōu)良的特征。因而，即使在清洗處理等中暴露于化學藥液中，經(jīng)過了鏡面研磨的表面變得過度粗糙的可能較小，作為特別要求平滑性的磁盤用玻璃襯底是合適的。所謂硅酸鋁玻璃是含有硅和鋁的氧化物作為主要成分的玻璃。
[0101]將玻璃襯底用于磁盤是合適的，但難以提高鏡面研磨處理的加工速度以適應大量生產(chǎn)。因而，生產(chǎn)量受到限制，生產(chǎn)成本容易升高，難以廉價地供給市場。
[0102]關于這樣的問題，本發(fā)明人在進行了努力研宄后查明了研磨液的氫離子濃度(pH值)在玻璃襯底的研磨處理的中途發(fā)生變動這一點是研磨加工速度下降的一個主要原因。而且查明了上述的PH值的變動的一個主要原因是玻璃襯底中含有的離子在研磨過程中洗脫到酸性的研磨液中。
[0103]特別是在研磨多成分系列玻璃襯底的情況下，容易發(fā)生研磨液的pH值的變動。例如，在含有膠體二氧化硅研磨砂粒的酸性的研磨液中對硅酸鋁玻璃襯底進行研磨處理時，有時會有鋁離子從多成分系列玻璃襯底洗脫到研磨液中從而研磨液的pH值發(fā)生變動的情況。除此以外，如果在研磨對象的玻璃中含有了鈉、鉀等，則也存在鈉離子、鉀離子等洗脫到研磨液中從而使研磨液的pH值發(fā)生變動的可能性。
[0104]再有，作為磁盤用玻璃襯底的鏡面研磨方法，有將含有膠體二氧化硅研磨砂粒的研磨液調(diào)整為酸性或堿性來供給以進行研磨的情況。例如，在【背景技術】中公開了的日本專利特開平7 - 240025號是將含有膠體二氧化硅的漿液調(diào)整為既定的酸性來研磨的例子。
[0105]但是，根據(jù)本發(fā)明者的研宄，已經(jīng)證實特別是在多成分系列玻璃的情況下，在鏡面研磨處理的過程中，在玻璃中含有的離子容易洗脫到研磨液中。在硅酸鋁玻璃中，鋁離子容易洗脫到研磨液中。如果在玻璃中含有了鈉、鉀等，則存在鈉離子、鉀離子等洗脫到研磨液中的危險。
[0106]如果將研磨液調(diào)整為酸性，則伴隨這些離子的洗脫，研磨液的液體性質(zhì)容易紊亂。根據(jù)本發(fā)明者的研宄，發(fā)現(xiàn)在用含有酸性的膠體二氧化硅研磨砂粒的研磨液對硅酸鋁玻璃襯底進行鏡面研磨處理時，在大量生產(chǎn)的過程中研磨液的PH容易從既定的PH發(fā)生變動。證實了研磨液的液體性質(zhì)紊亂的結(jié)果是鏡面研磨處理的加工速度也紊亂了。
[0107]即使預先將利用于研磨處理的研磨液的pH值調(diào)整為既定的值，在實施了多個玻璃襯底的研磨處理時，也從當初調(diào)整了的PH值逐漸地產(chǎn)生了差異。本發(fā)明人發(fā)現(xiàn)如果實施玻璃襯底的大量生產(chǎn)，則該差異為不能忽略的程度。
[0108]在玻璃襯底中，特別是磁盤用的玻璃襯底，如果磁頭一邊保持狹窄的浮起量一邊高速地通過，則必須形成極為平滑的表面。因此，在磁盤用的玻璃襯底的鏡面研磨處理時，將研磨液的液體性質(zhì)保持為恒定是極為有效的。
[0109]此外，在磁盤用的玻璃襯底中，為了與大量生產(chǎn)相適應，有必要將鏡面研磨處理的加工速度保持為恒定。因此，在磁盤用的玻璃襯底的鏡面研磨處理時，將研磨液的液體性質(zhì)保持為恒定是極為有效的。
[0110]作為將研磨液的pH保持為恒定的具體方法，在研磨液中添加將pH保持為恒定的成分是有效的?？珊袑⒀心ヒ旱膒H保持為恒定的藥液。
[0111](研磨液)
[0112]優(yōu)選將研磨液的pH維持為酸性。這是因為，通過將研磨液維持為酸性，在鏡面研磨處理時，可使玻璃表面化學變質(zhì)以提高研磨加工速度。特別是在使用了多成分系列玻璃作為玻璃襯底I的材料的情況下，通過將玻璃襯底I浸漬于酸性的研磨液中，金屬離子容易從S1的網(wǎng)眼結(jié)構(gòu)脫離，可提高研磨加工速度。
[0113]例如，在多成分系列玻璃中，在作為玻璃骨架的S1的網(wǎng)眼結(jié)構(gòu)中含有作為修飾離子的鋁、鈉或鉀等的金屬離子，但由于如果將研磨液維持為酸性，則這些金屬離子容易從S1的網(wǎng)眼結(jié)構(gòu)脫離，并可發(fā)揮提高研磨加工速度的作用，故是合適的。另一方面，由于該金屬離子分散在研磨液內(nèi)，故研磨液的PH值隨時間而增加，難以維持所希望的鏡面研磨加工速度，但通過實施本發(fā)明，可將鏡面研磨加工速度保持在所希望的值。
[0114]作為將研磨液的pH保持為恒定的成分，在研磨液中含有緩沖劑是合適的。由于有機酸具有緩沖作用，故是合適的。作為使研磨液成為酸性的成分，無機酸是合適的。
[0115]將研磨液的pH保持為小于等于3、優(yōu)選使pH小于等于2.5、特別優(yōu)選使pH小于等于2是合適的。通過將研磨液保持為這樣的酸性，可將玻璃襯底，特別是多成分系列玻璃襯底、硅酸鋁玻璃襯底的鏡面研磨速度維持為適合于大量生產(chǎn)的速度。
[0116]關于研磨液的pH，不過度地增強其酸性是合適的。過度地增強其酸性會導致腐蝕研磨裝置的危險變高。如果發(fā)生研磨裝置的腐蝕，則存在微細的異物(例如銹)等附著于進行了鏡面研磨的玻璃襯底上的危險。這是因為，如果這樣的異物附著于玻璃襯底的表面上，則對作為磁頭的重放組件利用的磁致電阻效應型組件產(chǎn)生不良影響，在信息的重放信號中引起熱不均勾(thermal asperity)的錯誤。
[0117]此外，作為玻璃襯底的鏡面研磨用的研磨砂粒，膠體二氧化硅研磨砂粒是合適的，但如果使PH過度地成為酸性，則膠體二氧化硅的化學狀態(tài)變得不穩(wěn)定，容易凝膠化。如果膠體二氧化硅凝膠化了，則喪失作為研磨砂粒的功能。
[0118]因而，研磨液的pH值優(yōu)選為不過度地增強其酸性。具體地說，優(yōu)選將pH值定為大于等于1.0。
[0119]根據(jù)以上的觀點，研磨液的pH為大于等于1.0且小于等于3.0，優(yōu)選大于等于1.0且小于等于2.5，特別優(yōu)選大于等于1.0且小于等于2.0o
[0120](酸性研磨液調(diào)整方法)
[0121]作為將研磨液調(diào)整為酸性的方法，優(yōu)選使研磨液中含有無機酸。如果是具有完全離解性的無機酸，則容易制成例如PH大于等于1.0且小于等于3.0的酸性狀態(tài)。因而，對玻璃襯底的鏡面研磨是合適的。
[0122]作為無機酸，可舉出硫酸、鹽酸、硝酸、硼酸、磷酸、磺酸、膦酸等。如果是氧化性強的無機酸，則容易引起研磨裝置的腐蝕，此外，存在引起熱不均勻的問題的危險。
[0123]根據(jù)以上的觀點，作為研磨液所含有的無機酸，硫酸、磷酸、磺酸是合適的。特別是氧化性相對較弱的硫酸最為優(yōu)選。由于硫酸的氧化性弱，故腐蝕研磨裝置的危險最小。因而，引起熱不均勻問題的可能性最小。再者，由于硫酸在空氣中蒸發(fā)或飛散的情況少，故在鏡面研磨處理時，可得到容易將研磨液中的濃度保持為恒定的優(yōu)點。再有，在使用硫酸來調(diào)整液體性質(zhì)的情況下，研磨液中的硫酸濃度例如優(yōu)選定為大于等于0.05重量％且小于等于1.00重量％。
[0124](液體性質(zhì)調(diào)整方法)
[0125]再有，根據(jù)上述的發(fā)明人的見解，玻璃襯底中含有的離子在研磨工序的過程中洗脫到研磨液中，使研磨液的pH發(fā)生了變動。而且，pH值的變動成為使研磨加工速度下降的一個主要原因。因此，為了防止研磨工序的過程中的研磨液的pH值的變動，在研磨液中優(yōu)選含有緩沖劑。
[0126]作為在研磨液中含有的緩沖材料，有機酸是合適的。因研磨液具備緩沖作用，可將研磨液的PH保持為所希望的恒定的值。在將研磨液的pH保持為大于等于I且小于等于3、特別是大于等于I且小于等于2的情況下，選擇酒石酸、馬來酸、丙二酸是特別合適的。其中，酒石酸或馬來酸，特別是酒石酸是合適的。再有，在使用酒石酸作為緩沖材料的情況下，研磨液中的酒石酸的濃度優(yōu)選定為大于等于0.05重量％且小