一種改善離子氮化效果的裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及熱處理技術(shù)領(lǐng)域，尤其是一種改善離子氮化效果的裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]離子滲氮作為一種表面化學熱處理，其不但能提高工件表面硬度及表面性能，更重要的是經(jīng)離子氮化后的工件的變形極小，不用再加工。此外，離子氮化還有無污染，耗能低，易于控制等優(yōu)點。所以，離子氮化技術(shù)的應(yīng)用不斷擴大。但是離子氮化的時間長、滲氮層厚度薄等缺點制約著其發(fā)展。雖然很多科技工作者為了提高滲層厚度和縮短滲氮時間，也采取了很多方法。如:采用催化劑、進行工件表面噴丸、采用循環(huán)變溫工藝等等。但這些方法都有一定的局限性，效果不佳，實際應(yīng)用價值較低。
[0003]在使用催化劑進行離子氮化時，由于離子氮化的溫度較低且催化劑放入爐內(nèi)的方式不同，從而使催化劑的效果不明顯。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]本發(fā)明的目的是改善離子滲氮效果、改善催化劑在離子滲氮過程中的效果、改變軟氮化的方式等。
[0005]本發(fā)明提供了一種裝置，此裝置為圓筒形，材料為可導電材料。圓筒的身上有一定數(shù)量的小孔，小孔為通孔，其直徑均小于10mm。圓筒高度200cm左右和內(nèi)徑45mm左右，外徑75mm左右，圓筒的兩端開口或者一端開口一端封閉。
[0006]本裝置使用時，可以平放、豎直放置，也可以吊掛放置，最好的放置方式是豎直放置。無論哪種放置方式，本裝置都必須與陰極相聯(lián)接。
[0007]由于采用了上述技術(shù)方案，本發(fā)明與現(xiàn)代技術(shù)相比有如下有益效果:(I)本發(fā)明利用空心陰極效應(yīng)，使得圓筒壁溫度比周圍環(huán)境高，可以作為輔助加熱熱源，從而改善爐溫；(2)本裝置的內(nèi)部可以填充催化劑、金屬及非金屬等物質(zhì)。由于本裝置的溫度較高，可以加速其內(nèi)部物質(zhì)的揮發(fā)，從而提高離子氮化的效果；(3)本裝置內(nèi)部裝上含碳的物質(zhì)，從而改變了軟氮化的方式，使軟氮化簡化及降低軟氮化的成本；(4)本發(fā)明的利用可以加速離子滲氮過程。
【附圖說明】
[0008]圖1多孔輔助滲氮筒的主視圖示意圖。
[0009]圖2多孔輔助滲氮筒在滲氮過程中實物照片。
【具體實施方式】
[0010]如圖1所示，將本裝置豎直放置在陰極盤上，并且和其他工件保持適當?shù)木嚯x。把準備好的催化劑或者其他需要的物質(zhì)放入圓筒內(nèi)(放入的物質(zhì)要盡量干燥，純潔，最好是顆粒裝，放入的量為圓筒高度的1/3為宜)。然后，蓋上爐體并抽真空到50pa左右，啟動電源，打弧、升溫、通氨氣。到達既定溫度后，關(guān)掉脈沖兩個小時，然后再打開脈沖，大約兩個小時后，再關(guān)掉脈沖。如此循環(huán)。
【主權(quán)項】
1.一種改善離子氮化效果的裝置，其特征在于:本裝置由金屬制成的圓筒，圓筒高度200cm左右和內(nèi)徑45mm左右，外徑75mm左右，其上下兩端開口或者一端開口 一端閉口。
2.根據(jù)權(quán)利I要求所述一種改善離子氮化效果的裝置，其特征是 筒身上一定數(shù)量的通孔，其直徑均小于10mm。 3根據(jù)權(quán)利I要求所述一種改善離子氮化效果的裝置，其特征是在離子滲氮時，根據(jù)實際需要，本裝置內(nèi)部可以是空的，也可以填裝催化劑、金屬、化合物等輔助滲氮的物質(zhì)。 4根據(jù)權(quán)利I要求所述一種改善離子氮化效果的裝置，其特征是本裝置在離子滲氮爐上的放置方式可以是樹立放置、掉掛、平趟放置。 5根據(jù)權(quán)利I要求所述一種改善離子氮化效果的裝置，其特征本裝置可以用在離子氮化、離子氮碳共滲、離子硫氮共滲、離子氮硫共滲等。
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種改善離子氮化效果的圓筒形裝置，命名為多孔輔助滲氮筒。圓筒高度200cm左右和內(nèi)徑45mm左右，外徑75mm左右，筒身上有一定數(shù)量的通孔，其直徑均小于10mm，孔的密度及排列狀況根據(jù)實際需要而定。進行離子滲氮時，將本裝置放置在離子滲氮爐的陰極盤上，利用離子氮化的空心陰極效應(yīng)，使得裝置上的孔內(nèi)產(chǎn)生較高的溫度。本裝置的內(nèi)部可以裝催化劑、化合物、金屬等物質(zhì)。本裝置可以改善爐溫均勻性，提高催化劑的效率等等。
【IPC分類】C23C8-36
【公開號】CN104651775
【申請?zhí)枴緾N201510120205
【發(fā)明人】張道達, 張海軍, 堯登燦
【申請人】江西省機械科學研究所
【公開日】2015年5月27日
【申請日】2015年3月19日