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      化學氣相沉積裝置的制造方法

      文檔序號:8468982閱讀:653來源:國知局
      化學氣相沉積裝置的制造方法
      【技術領域】
      [0001]本發(fā)明涉及微電子工藝設備技術領域,具體而言,涉及一種化學氣相沉積裝置。
      【背景技術】
      [0002]圖1示出了現(xiàn)有防止?jié)L輪膠圈沉積膜層的一種設計,設計原理是利用傳動軸氣缸3將傳動軸I全部退回至側(cè)壁小腔室5,再利用密封蓋氣缸4拉回密封蓋7密封小腔室,以達到密封的效果。上述技術方案在腔室焊接和加工上要求高,特別是在氬弧焊接過程中腔室側(cè)壁6的變形很不規(guī)則、很難控制。在加工側(cè)壁小腔室5中,需要挖空部分側(cè)壁,在加工過程中的機加讓刀也很難控制,一旦加工成型很難進行相應調(diào)節(jié)。同時,腔室側(cè)壁6局部變形會使安裝側(cè)壁小腔室5很難安裝,修補尺寸后會使整個傳動軸的安裝精度降低,傳動穩(wěn)定性降低,還會縮短磁流體使用壽命,加大了設備的維護成本。
      [0003]現(xiàn)有技術中的LPCVD設備是利用低壓化學反應沉積的方法在基片襯底上沉積膜層,通入適量配比的工藝氣體,基片通過加熱裝置來調(diào)節(jié)適合工藝的溫度,通過真空系統(tǒng)進行壓力調(diào)節(jié)控制。當壓力控制達到反應壓力后,所通入的工藝氣體將進行化學反應,在襯底基片上沉積特定的膜層。在反應過程中,膠圈2和傳動軸I暴露在反應腔室內(nèi),在膠圈2、滾輪和傳動軸I上會不斷的沉積膜層,當膜層達到一定厚度后會脫落,直接回掉落到基片上,影響基片沉積。同時基片在膠圈2上傳送,而膜層增厚會影響基片的傳送效果。

      【發(fā)明內(nèi)容】

      [0004]本發(fā)明的主要目的在于提供一種化學氣相沉積裝置,以解決現(xiàn)有技術中膠圈和傳動軸暴露在反應腔室內(nèi)容易沉積膜層的問題。
      [0005]為了實現(xiàn)上述目的,本發(fā)明提供了一種化學氣相沉積裝置,包括:第一殼體,具有第一內(nèi)腔;輸送軸,穿設在第一殼體上并伸入至第一內(nèi)腔中;膠圈,膠圈設置在輸送軸的位于第一殼體內(nèi)的一端上,化學氣相沉積裝置還包括:第二殼體,具有第二內(nèi)腔以及與第二內(nèi)腔連通的開口面,第二殼體固定在第一殼體內(nèi),并套設在輸送軸的位于第一殼體內(nèi)的一端上;封堵部,封堵部可開合地設置在開口面處;驅(qū)動機構,封堵部與輸送軸通過驅(qū)動機構連接,輸送軸的位于第一殼體內(nèi)的一端具有伸出開口面的伸出位置以及縮回至第二殼體內(nèi)的縮回位置,輸送軸的伸縮帶動驅(qū)動機構驅(qū)動封堵部開閉。
      [0006]進一步地,驅(qū)動機構包括:第一擺動部,第一擺動部的中部鉸接在第二殼體上,第一擺動部的第一端與輸送軸驅(qū)動連接;連接部,連接部的第一端與第一擺動部的第二端鉸接;第二擺動部,第二擺動部的第一鉸接部與第二殼體鉸接,第二擺動部的第二鉸接部與連接部的第二端鉸接,封堵部固定在第二擺動部的固定部上。
      [0007]進一步地,驅(qū)動機構還包括移動部,移動部的第一端與第一擺動部的第一端鉸接,移動部的第二端與輸送軸驅(qū)動連接。
      [0008]進一步地,化學氣相沉積裝置還包括第一固定部,第一固定部固定在第二殼體上,第一擺動部的中部與第一固定部鉸接。
      [0009]進一步地,化學氣相沉積裝置還包括第二固定部,第二固定部固定在第二殼體上,第二擺動部的第一鉸接部與第二固定部鉸接。
      [0010]進一步地,移動部的第二端伸入第二內(nèi)腔中,化學氣相沉積裝置還包括彈性體,彈性體設置在移動部的第二端上,彈性體的第一端與第二殼體的內(nèi)壁抵接,彈性體的第二端設置在移動部的第二端的端部上,輸送軸具有徑向凸部,輸送軸位于縮回位置時移動部的第二端與徑向凸部抵接,并且彈性體處于壓縮狀態(tài),輸送軸位于伸出位置時彈性體處于自然狀態(tài)。
      [0011]進一步地,化學氣相沉積裝置還包括第三固定部,第三固定部設置在移動部的第二端的端部上,彈性體的第二端與第三固定部抵接。
      [0012]進一步地,化學氣相沉積裝置還包括第四固定部,第四固定部固定在第二殼體的遠離封堵部的一端上,第四固定部固定在第一殼體的內(nèi)壁上。
      [0013]進一步地,第一擺動部為Y形擺動柱。
      [0014]進一步地,開口面呈橢圓形。
      [0015]應用本發(fā)明的技術方案,當需要通過輸送軸對基片進行輸送時,輸送軸朝向封堵部的一側(cè)移動,輸送軸的移動帶動驅(qū)動機構驅(qū)動封堵部慢慢打開,進而開啟封堵部,這時輸送軸處于伸出位置,這樣就可以對基片進行輸送。當需要對基片進行沉積膜層時,輸送軸向遠離封堵部的一側(cè)移動,輸送軸的移動帶動驅(qū)動機構驅(qū)動封堵部慢慢關閉,進而關閉封堵部,這時輸送軸處于縮回位置,使得輸送軸的位于第一殼體內(nèi)的一端位于第二殼體內(nèi),這樣在對基片進行沉積膜層時輸送軸的位于第一殼體內(nèi)的一端縮回至第二殼體內(nèi),即在基片進行沉積膜層時不會在輸送軸和膠圈上沉積膜層,通過第二殼體和封堵部對輸送軸和膠圈進行保護,有效地避免了輸送軸和膠圈容易受到污染的問題,進而有效地解決了膠圈沉積膜層的問題,有效地縮短了現(xiàn)有技術在滾輪回縮上所用的時間。同時,這樣就不需要加工現(xiàn)有技術中的密封小腔室,從而有效地降低了真空腔室的加工難度,還有效地提高了設備的工作效率。
      【附圖說明】
      [0016]構成本申請的一部分的說明書附圖用來提供對本發(fā)明的進一步理解,本發(fā)明的示意性實施例及其說明用于解釋本發(fā)明,并不構成對本發(fā)明的不當限定。在附圖中:
      [0017]圖1示出了現(xiàn)有技術中的化學氣相沉積裝置的局部結(jié)構示意圖;
      [0018]圖2示出了根據(jù)本發(fā)明的化學氣相沉積裝置的實施例的結(jié)構示意圖;
      [0019]圖3示出了圖2的化學氣相沉積裝置的局部結(jié)構示意圖;
      [0020]圖4不出了圖2的化學氣相沉積裝置的局部俯視不意圖;
      [0021]圖5示出了圖2的化學氣相沉積裝置的部分結(jié)構示意圖;
      [0022]圖6示出了圖5的化學氣相沉積裝置的輸送軸處縮回位置時的結(jié)構示意圖;
      [0023]圖7示出了圖5的化學氣相沉積裝置的輸送軸處伸出位置時的結(jié)構示意圖;
      [0024]圖8示出了圖7的化學氣相沉積裝置的立體結(jié)構示意圖;以及
      [0025]圖9不出了圖5的化學氣相沉積裝置的A放大不意圖。
      [0026]其中,上述附圖包括以下附圖標記:
      [0027]1、傳動軸;2、膠圈;3、傳動軸氣缸;4、密封蓋氣缸;5、側(cè)壁小腔室;6、腔室側(cè)壁;7、密封蓋;10、輸送軸;11、徑向凸部;20、膠圈;30、第二殼體;40、封堵部;50、驅(qū)動機構;51、第一擺動部;52、連接部;53、第二擺動部;54、移動部;61、第一固定部;62、第二固定部;63、第三固定部;64、第四固定部;65、彈性體;71、均氣裝置;73、加熱裝置;74、真空腔室;81、銷軸。
      【具體實施方式】
      [0028]需要說明的是,在不沖突的情況下,本申請中的實施例及實施例中的特征可以相互組合。下面將參考附圖并結(jié)合實施例來詳細說明本發(fā)明。
      [0029]如圖2至圖5所示,本實施例的化學氣相沉積裝置包括:第一殼體、輸送軸10、膠圈20、第二殼體30、封堵部40以及驅(qū)動機構50,第一殼體具有第一內(nèi)腔,輸送軸10穿設在第一殼體上并伸入至第一內(nèi)腔中,膠圈20設置在輸送軸10的位于第一殼體內(nèi)的一端上,第二殼體30具有第二內(nèi)腔以及與第二內(nèi)腔連通的開口面,第二殼體30固定在第一殼體內(nèi),并套設在輸送軸10的位于第一殼體內(nèi)的一端上,封堵部40可開合地設置在開口面處,封堵部40與輸送軸10通過驅(qū)動機構50連接,輸送軸10的位于第一殼體內(nèi)的一端具有伸出開口面的伸出位置以及縮回至第二殼體30內(nèi)的縮回位置,輸送軸10的伸縮帶動驅(qū)動機構50驅(qū)動封堵部40開閉。
      [0030]應用本實施例的化學氣相沉積裝置,當需要通過輸送軸10對基片進行輸送時,輸送軸10朝向封堵部40的一側(cè)移動,輸送軸10的移動帶動驅(qū)動機構50驅(qū)動封堵部40慢慢打開,進而開啟封堵部40,這時輸送軸10處于伸出位置,這樣就可以對基片進行輸送。當需要對基片進行沉積膜層時,輸送軸10向遠離封堵部40的一側(cè)移動,輸送軸10的移動帶動驅(qū)動機構50驅(qū)動封堵部40慢慢關閉,進而關閉封堵部40,這時輸送軸10處于縮回位置,使得輸送軸10的位于第一殼體內(nèi)的一端位于第二殼體30內(nèi),這樣在對基片進行沉積膜層時輸送軸10的位于第一殼體內(nèi)的一端縮回至第二殼體30內(nèi),即在基片進行沉積膜層時不會在輸送軸10和膠圈上沉積膜層,通過第二殼體30和封堵部40對輸送軸10和膠圈進行保護,有效地避免了輸送軸10和膠圈容易受到污染的問題,進而有效地解決了膠圈沉積膜層的問題,有效地縮短了現(xiàn)有技術在滾輪回縮上所用的時間。同時,這樣就不需要加工現(xiàn)有技術中的密封小腔室,從而有效地降低了真空腔室的加工難度,還有效地提高了設備的工作效率。
      [0031]在本實施例中,輸送軸10為多個,多個輸送軸10相對于基片的中心對稱分布且位于基片的沿輸送方向的兩側(cè),基片搭設在多個輸送軸10上的膠圈上,輸送軸10位于伸出位置時輸送軸10轉(zhuǎn)動便可對基片進行輸送。
      [0032]如圖6和圖7所示,在本實施例中,驅(qū)動機構50包括第一擺動部51、連接部52以及第二擺動部53,第一擺動部51的中部鉸接在第二殼體30上,第一擺動部51的第一端與輸送軸10驅(qū)動連接;連接部52的第一端與第一擺動部51的第二端鉸接;第二擺動部53的第一鉸接部與第二殼體30鉸接,第二擺動部53的第二鉸接部與連接部52的第二端鉸接,封堵部40固定在第二擺動部53的固定部上。
      [0033]打開封堵部40時,輸送軸10朝向封堵部40的一側(cè)移動帶動第一擺動部51的第一端繞著第一擺動部51的中部朝向封堵部40的一側(cè)擺動,同時第一擺動部51的第二端向遠離封堵部40的一側(cè)擺動,進而帶動連接部52運動,連接部52運動帶動第二擺動部53繞著第一鉸接部轉(zhuǎn)動,從而慢慢打開封堵部40。關閉封堵部40時,輸送軸10向遠離封堵部40的一側(cè)移動帶動第一擺動部51的第一端繞著第一擺動部51的中部向遠離封堵部40的一側(cè)擺動,同時第一擺動部51的第二端朝向封堵部40的一側(cè)擺動,進而帶動連接部52運動,連接部52運動帶動第二擺動部53繞著第一鉸接部轉(zhuǎn)動,從而慢慢關閉封堵部40。上述驅(qū)動機構50的結(jié)構簡單,加工方便,安裝簡便,成本低廉。
      [0034]在本實施例中,驅(qū)動機構50還包括移動部54,移動部54的第一端與第一擺動部51的第一端鉸接,移動部54的第二端與輸送軸10驅(qū)動連接。輸送軸10移動帶動移動部54移動,進而帶動第一擺動部51的第一端擺動。優(yōu)選地,第一擺動部51為擺動柱,連接部52為連接桿,第二擺動部53為擺動塊,移動部54為移動柱,移動柱與第一擺動部51通過
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