靶材優(yōu)選包含至少三相（如一個(gè)或多個(gè)純金屬相和/或一個(gè)或 多個(gè)合金相），但是，并不受此限制。更優(yōu)選的是，沉積層包括合金相或基本上由合金相組 成，其中所述合金包括鉬、第二金屬元素和第三金屬元素。甚至更優(yōu)選的是，沉積層包括合 金相或基本上由合金相組成，其中所述合金包括鉬、鈮和第三金屬元素。最優(yōu)選的是，沉積 層包括合金相或基本上由合金相組成，其中所述合金包括鉬、鈮和鉭。
[0037] 濺射靶材的形態(tài)
[0038] 濺射靶材可以是包括多個(gè)相的非均質(zhì)材料。濺射靶材優(yōu)選包括至少三相。例如，靶 材可包括，包含一個(gè)或多個(gè)第一相，每相包括大約50原子％或更多鉬，一個(gè)或多個(gè)第二相， 每個(gè)相包括大約50原子％或更多不同于鉬的第二金屬元素，及一個(gè)或多個(gè)第三相，每相包 括大約50原子％或更多不同于鉬和第二金屬元素的第三金屬元素。第二金屬元素優(yōu)選選 自由鈮和釩組成的群組。更優(yōu)選的是，第二金屬元素是鈮。第三金屬元素優(yōu)選選自由鈦、鉻、 釩、鈮和鉭組成的群組。更優(yōu)選的是，第三金屬元素是鉭。
[0039] 第二相可在下述一方面或多方面與第一相不同：一種、兩種或多種元素的濃度、密 度、電阻率、布拉維晶格結(jié)構(gòu)、對(duì)稱群、一種或多種晶格大小、或晶體學(xué)空間群。舉例而言，第 一相和第二相一種元素的濃度可相差大約〇. 5wt. %或更高，相差大約Iwt. %或更高，相差 大約5wt. %或更高，或相差大約20wt. %或更高。第三相可在下述一方面或多方面與第一 相和/或第二相不同：一種、兩種或多種元素的濃度、密度、電阻率、布拉維晶格結(jié)構(gòu)、對(duì)稱 群、一種或多種晶格大小或晶體學(xué)空間群。舉例而言，第三相中元素的濃度與第一相、第二 相中元素的濃度，或這兩相中元素的濃度，可相差大約〇.5wt. %或更高，相差大約Iwt. % 或更高，相差大約5wt. %或更高，或相差大約20wt. %或更高。濺射靶材可包括兩相（如第 一相和第二相或第三相），其中兩相的密度之差是大約〇. lg/cm3或更高，優(yōu)選是大約0. 3g/ cm3或更高，更優(yōu)選是大約0. 6g/cm3或更高，最優(yōu)選是大約I. 2g/cm3或更高。
[0040] 第一相、第二相和第三相，每相可單獨(dú)包括由14個(gè)布拉維晶格類型中的一種類型 或多種類型為特征的晶體。一相的布拉維晶格可以是三斜晶系、單斜晶系（如簡(jiǎn)單單斜晶 系或中心單斜晶系）、正交晶系（如簡(jiǎn)單底心正交晶系，或面心正交晶系）、正方晶系（如簡(jiǎn) 單的四方晶系或體心正方晶系）、菱方晶系、六方晶系或立方晶系（如簡(jiǎn)單立方、體心立方 或面心立方）。舉例來(lái)說(shuō)，第一相、第二相及第三相，每相可獨(dú)立地包括六方、簡(jiǎn)單立方、體心 立方和面心立方或它們的任意組合的布拉維晶格的晶體或由這樣的晶體組成。一個(gè)或多個(gè) 第二相可包括具有與一個(gè)或多個(gè)第一相相同或不同的布拉維晶格的晶體。舉例來(lái)說(shuō)，第一 相可包括一具有體心立方布拉維晶格的相，第二相可包括一具有體心立方布拉維晶格、六 方布拉維晶格或這兩種晶格的相。一個(gè)或多個(gè)第三相可包括具有與一個(gè)或多個(gè)第一相相同 或不同，與一個(gè)或多個(gè)第二相不同，或它們的任意組合的布拉維晶格的晶體。舉例來(lái)說(shuō)，一 個(gè)或多個(gè)第三相可包括具有體心立方布拉維晶格、六方布拉維晶格或這兩種晶格的晶體或 基本上由這樣的晶體組成。
[0041] 應(yīng)該了解的是，濺射靶材的第一相可包括一種或多種第一相，每相包括大約50原 子％或更多鉬。舉例來(lái)說(shuō)，第一相可包括一基本上純鉬的相、一包括鉬和少量（即少于50 原子％ )第二金屬元素的合金相及一包括鉬和少量第三金屬元素的合金相，或它們的任何 組合。濺射靶材的第二相可包括一相或多相，每相包括大約50原子％或更多第二金屬元 素。舉例來(lái)說(shuō)，第二相可包括一基本上純的第二金屬元素相，一包括第二金屬元素和少量鉬 的合金相，一包括第二金屬元素和少量第三金屬元素的合金相，或它們的任意組合。濺射靶 材的第三相可包括一相或多相，每相包括大約50原子％或更多第三金屬元素。舉例來(lái)說(shuō)， 第三相可包括一基本上純的第三金屬元素相，一包括第三金屬元素和少量鉬的合金相，一 包括第三金屬元素和少量第二金屬元素的合金相，或它們的任意組合。
[0042] 第一相、第二相和第三相，每相可以獨(dú)立地是分散相或連續(xù)相。第一相優(yōu)選是連續(xù) 相。人們認(rèn)為，連續(xù)的第一相可以改進(jìn)乳制濺射靶材的能力，以增加其長(zhǎng)度、寬度或兩者，但 是，并不受這一理論的限制。第二相優(yōu)選是分散相，第三相優(yōu)選是分散相。應(yīng)該了解的是， 連續(xù)相指的是共-連續(xù)相（即存在多個(gè)連續(xù)相）或是唯一的連續(xù)相的連續(xù)相。
[0043] 圖1是包括鉬、鈮和鉭的濺射靶材采用二次電子成像法得到的說(shuō)明性掃描電子顯 微照片。根據(jù)本發(fā)明的教導(dǎo)，濺射靶材中可以使用其它金屬元素。參考圖1，濺射靶材10可 包括第一相16、第二相14和第三相12。濺射靶材10的第一相16可以是連續(xù)相，包括50原 子％或50原子％以上鉬（如大約75原子％或75原子％以上鉬）或兩者。如圖1所不，第 二相14、第三相12或這兩相可以是分散相（如分散在第一相中的分散相）。第二相、第三 相或這兩相都是連續(xù)相（如共-連續(xù)相）也屬于本發(fā)明的范圍。第二相14可包括占第二 相原子總數(shù)大約50原子％或更高的第二元素，如鈮或釩。第三相12可包括大約占第三相 原子總數(shù)50原子％或更高的第三元素，如鈦、鉻、鈮、釩或鉭。如圖1所示，一個(gè)或多個(gè)第一 相的體積大約占濺射靶材總體積的大約40體積％或更高，或占大約50體積％或更高。一 個(gè)或多個(gè)第二相的體積，一個(gè)或多個(gè)第三相的體積，及一個(gè)或多個(gè)第一相和第二相的總體 積，占濺射靶材總體積的大約1體積％或更高，或占大約5體積％或更高。一個(gè)或多個(gè)第二 相的體積，一個(gè)或多個(gè)第三相的體積，及一個(gè)或多個(gè)第一相和第二相的總體積，占濺射靶材 總體積的大約50體積％或更少，或占大約25體積％或更少。第二相、第三相或這兩相通常 是隨機(jī)取向的。第二相、第三相或這兩相通常是細(xì)長(zhǎng)的。第二相、第三相或這兩相的長(zhǎng)寬比 優(yōu)選是大約20 : 1或更小，大約10 : 1或更小或大約5 : 1或更小。第二相可包括平均 長(zhǎng)度大約是0. 3μπι或0. 3μπι以上的粒子，平均長(zhǎng)度大約是200 μ m或200 μ m以下的粒子， 或者包括這兩種平均長(zhǎng)度的粒子。第三相可包括平均長(zhǎng)度大約是0. 3 μ m或0. 3 μ m以上的 粒子，平均長(zhǎng)度大約是200 μ m或200 μ m以下的粒子，或者包括這兩種平均長(zhǎng)度的粒子。一 個(gè)相的長(zhǎng)度和/或體積可采用掃描電子顯微鏡測(cè)定?？刹捎闷渌椒ㄝo助掃描電子顯微鏡 法，如能量色散X-射線光譜法測(cè)定一個(gè)相的組成。
[0044] 圖2是包括鉬、銀和鉭的濺射靶材采用背散射電子成像法得到的說(shuō)明性掃描電子 顯微照片。根據(jù)本發(fā)明的教導(dǎo)，濺射靶材中可以使用其它金屬元素。參考圖2,濺射靶材10 可包括第一相16、第二相14和第三相12。每個(gè)單獨(dú)的相可以是基本上純的金屬相（如一 個(gè)包括大約80原子％或更高，大約90原子％或更高，或大約95原子％或更高的金屬相）。 濺射靶材還可以包括合金相，如包括鉬和鉭的合金相18,和/或金屬間相。
[0045] 一個(gè)或多個(gè)第一相可任選包括相對(duì)純的第一相及鉬的濃度比相對(duì)純的第一相低 的高合金第一相。例如，相對(duì)純的第一相中鉬的濃度是相對(duì)純的第一相原子總數(shù)的大約80 原子％或更高，更優(yōu)選大約90原子％或更高。舉例來(lái)說(shuō)，高合金第一相中鉬的濃度是大約 90原子％或更低，大約80原子％或更低，或大約70原子％或更低。一個(gè)或多個(gè)第一相優(yōu) 選包括足夠體積鉬濃度通常較高（如大約60原子％或更多鉬，大約70原子％或更多鉬，大 約80原子％或更多鉬，或大約90原子％或更多鉬）的材料，這樣，濺射靶材可以在增加濺 射靶材的寬度、長(zhǎng)度或這兩者的步驟中乳制。
[0046] -個(gè)或多個(gè)第二相可任選包括相對(duì)較純的第二相（如包含占相對(duì)較純第二相原 子總數(shù)大約80原子％或更高，更優(yōu)選占大約90原子％或更高的第二金屬元素）和包含濃 度比相對(duì)較純第二相低的第二金屬元素（如濃度大約90原子％或更低，或大約80原子％ 或更低）的高合金第二相。一個(gè)或多個(gè)第三相可任選包括相對(duì)較純的第三相（如包含占相 對(duì)較純第三相原子總數(shù)大約80原子％或更高，更優(yōu)選占大約90原子％或更高的第三金屬 元素）和包含濃度比相對(duì)較純第三相低的第三金屬元素（如濃度大約90原子％或更低，或 大約80原子％或更低）的高合金第三相。
[0047] -個(gè)或多個(gè)第一相的體積優(yōu)選足夠高，這樣，第一相是連續(xù)相（如一個(gè)或多個(gè)其 它相在其中分散的基質(zhì)相）。一個(gè)或多個(gè)第一相的體積是濺射靶材總體積的大約40體積％ 或更高，大約50體積％或更高，大約60體積％或更高，大約70體積％或更高。一個(gè)或多個(gè) 第一相的體積優(yōu)選大于一個(gè)或多個(gè)第二相的體積。一個(gè)或多個(gè)第一相的體積優(yōu)選大于一個(gè) 或多個(gè)第二相的體積。一個(gè)或多個(gè)第一相的體積是濺射靶材總體積的大約99體積％或更 低，大約95體積％或更低，大約92體積％或更低，大約90體積％或更低。
[0048] -個(gè)或多個(gè)第二相的體積，一個(gè)或多個(gè)第三相的體積，或一個(gè)或多個(gè)第二相和一 個(gè)或多個(gè)第三相組合的體積，是濺射靶材總體積的大約1體積％或更高，大約2體積％或更 高，大約3體積％或更高，大約5體積％或更高。一個(gè)或多個(gè)第二相的體積，一個(gè)或多個(gè)第 三相的體積，或一個(gè)或多個(gè)第二相和一個(gè)或多個(gè)第三相組合的體積，是濺射靶材總體積的 大約50體積％或更低，大約45體積％或更低，大約40體積％或更低，大約35體積％或更 低，大約30體積％或更低，大約25體積％或更低，大約20體積％或更低。
[0049] 濺射靶材的一個(gè)或多個(gè)第一相、一個(gè)或多個(gè)第二相及一個(gè)或多個(gè)第三相中的每個(gè) 相可以獨(dú)立地是分散相、連續(xù)相或共-連續(xù)相。例如，濺射靶材可包括是連續(xù)相的第一相。 優(yōu)選一個(gè)或多個(gè)第二相包括分散相。例如，分散的第二相可以是第一相中的分散相，或者是 第三相中的分散相。濺射靶材更優(yōu)選包括一含50原子％或更多鈮或釩且分散在含50原 子％或更多鉬的第一相內(nèi)的分散相第二相。優(yōu)選一個(gè)或多個(gè)第三相包括分散相。例如，分 散的第三相可以是第一相中的分散相，或者是第二相中的分散相。濺射靶材更優(yōu)選包括一 含50原子％或更多鈮或釩且是分散在50原子％或更多鉬的第一相內(nèi)的分散相第三相。如 果濺射靶材有至少兩個(gè)第二相，其形態(tài)是其中一個(gè)第二相包含大約80原子％或更多第二 金屬元素且被另一個(gè)第二金屬元素濃度更低的第二相包圍。如果濺射靶材有至少兩個(gè)第三 相，其形態(tài)是其中一個(gè)第三相包含大約80原子％或更多第三金屬元素且被另一個(gè)第三金 屬元素濃度更低的第三相包圍。
[0050] 濺射靶材的一個(gè)或多個(gè)相，或甚至全部相的相區(qū)尺寸（即包括一個(gè)或多個(gè)相的晶 粒連續(xù)區(qū)）相對(duì)較大。例如，濺射靶材的一個(gè)或多個(gè)相，或甚至全部相的相區(qū)尺寸可能大于 濺射靶材制備的沉積層的相或各相的相區(qū)尺寸（如大50%或更多，大約大100%或更多，大 約大200%或更多，大約大500%或更多，或者大約大1000%或更多）。一個(gè)或多個(gè)第一相、 一個(gè)或多個(gè)第二相，和/或一個(gè)或多個(gè)第三相的相區(qū)尺寸（相區(qū)的數(shù)均長(zhǎng)度）可以是大約 0· 3um或更大，優(yōu)選是大約0· 5um或更大，更優(yōu)選是大約Ium或更大，及最優(yōu)選是大約3um 或更大，但是并不限于這些。在測(cè)定濺射靶材各個(gè)相的相區(qū)尺寸時(shí)，所有第一相可視為一個(gè) 相，所有第二相可視為一個(gè)相，所有第三相可視為一個(gè)相。一個(gè)或多個(gè)第一相、一個(gè)或多個(gè) 第二相，和/或一個(gè)或多個(gè)第三相的相區(qū)尺寸（相區(qū)的數(shù)均長(zhǎng)度）可以是大約200um或更 低或更小，優(yōu)選是大約IOOum或更低或更小，更優(yōu)選是大約50um或更低或更小，但是并不限 于這些。應(yīng)該了解的是，濺射靶材可以使用更大的相區(qū)尺寸。例如，正如本發(fā)明所教導(dǎo)的那 樣，一個(gè)或多個(gè)相可以是連續(xù)相。第二相、第三相或這兩個(gè)相的相區(qū)形狀通常是細(xì)長(zhǎng)的。第 二相、第三相或這兩相的長(zhǎng)寬比優(yōu)選是大約20 : 1或更低或更小，大約10 : 1或更低或更 小或大約5:1或更低或更小。
[0051] 圖3A是包括鉬、鈮和鉭的濺射靶材一個(gè)區(qū)域的掃描電子顯微照片（背散射電子）， 包括鉬相16和鉬相中的點(diǎn)32。圖3B是圖3A中點(diǎn)32的說(shuō)明性能量色散X-射線光譜圖。 圖3B的譜圖僅包括一個(gè)與鉬對(duì)應(yīng)的峰34。如圖3B所示，濺射靶材可包括包含一個(gè)基本上 純鉬相（即包括大約80原子％或更多鉬，大約90原子％或更多鉬，大約95原子％或更多 鉬）的區(qū)域。
[0052] 圖4A是包括鉬、鈮和鉭的濺射靶材一個(gè)區(qū)域的掃描電子顯微照片（背散射電子）， 包括鈮相14和鈮相中的點(diǎn)42。圖4B是圖4A中點(diǎn)42的說(shuō)明性能量色散X-射線光譜圖。 圖4B的光譜圖僅包括一個(gè)與銀對(duì)應(yīng)的峰44。如圖4B所示，派射革El材可包括一個(gè)區(qū)域，包括 基本上純的第二金屬元素相（即包括大約80原子％或更多第二金屬元素，大約90原子％ 或更多第二金屬元素，大約95原子％或更多第二金屬元素），如一個(gè)基本上純鈮或基本上 純釩的相。
[0053] 圖5A是包括鉬、銀和鉭的派射革E材一個(gè)區(qū)域的掃描電子顯微照片（背散射電子）， 包括鉭相12、鉬相16和鉭相中的點(diǎn)52。圖5B是圖5A中點(diǎn)52的說(shuō)明性能量色散X-射線光 譜圖。圖5B僅包括與鉭對(duì)應(yīng)的峰54、5f、54"和54" ^。如圖5B所示，濺射靶材可包括 一個(gè)區(qū)域，包括基本上純的第三金屬元素相（即包括大約80原子％或更多第三金屬元素， 大約90原子％或更多第三金屬元素，大約95原子％或更多第三金屬元素），如一個(gè)基本上 純鉭、基本上純鈦或基本上純鉻的相。
[0054] 圖6A是包括鉬、銀和鉭的派射革E材一個(gè)區(qū)域的掃描電子顯微照片（背散射電子）。 所述顯微照片表明所述濺射靶材包括鈮相14、鉬相16、鉬/鈮合金相17及合金相17中的 點(diǎn)62。圖6B是圖6A中點(diǎn)62的說(shuō)明性能量色散X-射線光譜圖。圖6B的光譜圖包括與Mo 對(duì)應(yīng)的峰64及與Nb對(duì)應(yīng)的峰66。如圖6B所示，濺射靶材可包括一個(gè)區(qū)域，所述區(qū)域包括 一含第二金屬元素和鉬的合金相，如鈮和鉬的合金。
[0055] 圖7A是包括鉬、鈮和鉭的濺射靶材一個(gè)區(qū)域的掃描電子顯微照片（背散射電子）。 所述顯微照片表明所述濺射靶材包括鉭相12、鉬相16、鉬/鉭合金相19及合金相19中的 點(diǎn)72。圖7B是圖7A中點(diǎn)72的說(shuō)明性能量色散X-射線光譜圖。圖7B的光譜圖包括與Mo 對(duì)應(yīng)的峰74及與鉭對(duì)應(yīng)的