一種真空旋轉基片承載盤的制作方法
【技術領域】
[0001]本發(fā)明涉及一種真空旋轉基片承載盤，不僅僅適用于OLED器件，還適用于所有熱蒸鍍成膜器件，屬于機械技術領域。
【背景技術】
[0002]真空熱蒸發(fā)鍍膜在有機EL (Electro Luminescence)顯示器等平板顯示器(FPD-Flat Panel Display)的制造方法中被廣泛應用，以及相應薄膜器件的產(chǎn)業(yè)化中應用也非常廣泛，其基本原理是利用加熱的手段使源受熱蒸發(fā)，由固相/液相變成氣相，然后氣體分子或原子在蒸發(fā)源與基板(襯底)之間輸運，最后蒸發(fā)的分子或原子在基板(襯底)上沉積。
[0003]在有機發(fā)光顯示裝置中，發(fā)射可見光的有機發(fā)光層和接近有機發(fā)光層的有機層通過利用各種方法形成。尤其是真空沉積方法由于其簡單的工藝而經(jīng)常被使用。在真空沉積方法中，將粉狀或固態(tài)的沉積材料填充到熔爐中，并通過對熔爐進行加熱而在期望的區(qū)域上形成沉積膜?，F(xiàn)有的基片盤功能單一、密封性能差，且更換需停機步驟繁瑣。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]鑒于上述現(xiàn)有技術存在的缺陷，本發(fā)明的目的是提出一種真空旋轉基片承載盤。
[0005]本發(fā)明的目的，將通過以下技術方案得以實現(xiàn):
一種真空旋轉基片承載盤，包括磁流體主體，所述磁流體主體下方通過轉動軸依次連接有基片盤、掩膜盤及擋板，所述擋板與掩膜盤相對轉動，所述磁流體主體的上方套設有一轉動把手，所述把手與磁流體主體之間設置有定位盤，所述轉動把手轉動帶動磁流體主體轉動，所述基片盤上開設有基片孔，所述基片孔下設置有基片托盤，所述擋板上于基片孔相應位置開設有孔，所述掩膜盤上通過磁性連接有掩膜板，所述轉動把手上連接有一指針，所述轉動把手轉動帶動指針在定位盤上進行指示。
[0006]優(yōu)選地，所述基片孔設置有4個，所述擋板上開設的孔數(shù)量小于基片孔的數(shù)量。
[0007]優(yōu)選地，所述掩膜板與掩膜盤通過定位銷固定。
[0008]優(yōu)選地，所述轉動軸上套設有提升套，所述提升套的一端與基片盤通過螺栓固定連接。
[0009]優(yōu)選地，所述掩膜盤通過螺栓與轉動軸固定。
[0010]優(yōu)選地，所述磁流體主體上設置有冷卻水接口。
[0011 ] 優(yōu)選地，每塊所述掩膜板上設置有兩種圖案。
[0012]本發(fā)明突出效果為:承載盤上集成的功能多，可放置四個基片，可在線更換掩膜板，通過定位盤可準確定位。轉動部分采用磁流體密封，漏率小，具有可靠的密封性?；c掩膜板之間距離較小，所蒸鍍圖案邊緣影響小。采用鋁盤，減輕了基片架的重量，同時變形量小，增加了蒸鍍的精度。擋板與掩膜盤之間緊貼，遮擋效果較好。整體采用手動操作，成本低，經(jīng)濟實用。
[0013]以下便結合實施例附圖，對本發(fā)明的【具體實施方式】作進一步的詳述，以使本發(fā)明技術方案更易于理解、掌握。
【附圖說明】
[0014]圖1是本裝置的立體結構示意圖。
[0015]圖2是本裝置的剖面結構示意圖。
【具體實施方式】
[0016]如圖1至圖2所示，本發(fā)明揭示了一種真空旋轉基片承載盤，包括磁流體主體6，所述磁流體主體6下方通過轉動軸4依次連接有用于放置基片的基片盤3、掩膜盤2及擋板1，所述掩膜盤2通過螺栓與轉動軸4固定，所述擋板I與掩膜盤2相對轉動，所述磁流體主體6的上方套設有一轉動把手7，所述轉動把手7上連接有一指針71，連接方式可以采用焊接或其他固定方式。
[0017]所述轉動把手7與磁流體主體6之間設置有定位盤8，所述定位盤8上標示有角度分布。具體的，所述定位盤8套接于磁流體主體6的上端部，所述轉動把手7轉動，帶動磁流體主體6轉動，同時，也將帶動指針71在定位盤7上進行角度的指示。所述磁流體主體6為不銹鋼材質(zhì)，且采用了磁性液體密封，保證了其密封性能。所述磁流體主體6上設置有用于冷卻承載盤的冷卻水接口。
[0018]所述基片盤3上開設有基片孔，為了提高效率，一般基片孔2設置有四個，均布與基片盤上。所述基片孔下設置有防止基片掉落的基片托盤31，所述擋板上于基片孔相應位置開設有孔，所述擋板I上開設的孔為I個，當開擋板I上開設有一個孔時，則同一時間可完成一個基片的蒸鍍，當然，擋板上的孔也可以開設有多個，但數(shù)量需要小于基片盤上基片孔數(shù)量。
[0019]所述掩膜盤2上通過磁性連接有四塊掩膜板，為了加強連接與固定，所述掩膜板與掩膜盤2通過定位銷加強固定，每塊所述掩膜板上設置有兩種圖案。為了方便更換掩膜板，所述轉動軸4上還套設有提升套5，所述提升套5的一端與基片盤3通過螺栓固定連接。需要更換時，只需要在提升套5處向上施力，即可將基片盤與掩膜盤分離，進行對掩膜板的更換，以此更換蒸鍍圖案，基片盤與研磨盤分離快速，掩膜板的更換時間快速，小于15S。
[0020]本發(fā)明尚有多種實施方式，凡采用等同變換或者等效變換而形成的所有技術方案，均落在本發(fā)明的保護范圍之內(nèi)。
【主權項】
1.一種真空旋轉基片承載盤，其特征在于:包括磁流體主體，所述磁流體主體下方通過轉動軸依次連接有基片盤、掩膜盤及擋板，所述擋板與掩膜盤相對轉動，所述磁流體主體的上方套設有一轉動把手，所述把手與磁流體主體之間設置有定位盤，所述轉動把手轉動帶動磁流體主體轉動，所述基片盤上開設有基片孔，所述基片孔下設置有基片托盤，所述擋板上于基片孔相應位置開設有孔，所述掩膜盤上通過磁性連接有掩膜板，所述轉動把手上連接有一指針，所述轉動把手轉動帶動指針在定位盤上進行指示。2.根據(jù)權利要求1所述的一種真空旋轉基片承載盤，其特征在于:所述基片孔設置有4個，所述擋板上開設的孔數(shù)量小于基片孔的數(shù)量。3.根據(jù)權利要求1所述的一種真空旋轉基片承載盤，其特征在于:所述掩膜板與掩膜盤通過定位銷固定。4.根據(jù)權利要求1所述的一種真空旋轉基片承載盤，其特征在于:所述轉動軸上套設有提升套，所述提升套的一端與基片盤通過螺栓固定連接。5.根據(jù)權利要求1所述的一種真空旋轉基片承載盤，其特征在于:所述掩膜盤通過螺栓與轉動軸固定。6.根據(jù)權利要求1所述的一種真空旋轉基片承載盤，其特征在于:所述磁流體主體上設置有冷卻水接口。7.根據(jù)權利要求1所述的一種真空旋轉基片承載盤，其特征在于:每塊所述掩膜板上設置有兩種圖案。
【專利摘要】本發(fā)明揭示了一種真空旋轉基片承載盤，包括磁流體主體，所述磁流體主體下方通過轉動軸依次連接有基片盤、掩膜盤及擋板，擋板與掩膜盤相對轉動，磁流體主體的上方套設有一轉動把手，所述把手與磁流體主體之間設置有定位盤，所述轉動把手轉動帶動磁流體主體轉動，所述基片盤上開設有基片孔，所述基片孔下設置有基片托盤，所述擋板上于基片孔相應位置開設有孔，所述掩膜盤上通過磁性連接有掩膜板，所述轉動把手上連接有一指針，所述轉動把手轉動帶動指針在定位盤上進行指示。本發(fā)明的承載盤上集成的功能多，可放置四個基片，可在線更換掩膜板，通過定位盤可準確定位，且使用時精度高。
【IPC分類】C23C14/24, C23C14/04, C23C14/50
【公開號】CN105018893
【申請?zhí)枴緾N201510457426
【發(fā)明人】廖良生, 武啟飛, 陳敏
【申請人】蘇州方昇光電裝備技術有限公司
【公開日】2015年11月4日
【申請日】2015年7月30日