一種電子設(shè)備殼體的鍍膜制備工藝的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明設(shè)及一種電子設(shè)備殼體的鍛膜制備工藝。
【背景技術(shù)】
[0002] 由于塑料具有易成型、質(zhì)輕等特點(diǎn)被廣泛應(yīng)用于制造電子產(chǎn)品的外殼。隨著電 子產(chǎn)品市場(chǎng)對(duì)產(chǎn)品外觀要求越來越高，人們已經(jīng)不再滿足于塑料本身所具有的顏色，具有 金屬光澤立體感的電子產(chǎn)品受到越來越多人的關(guān)注。電子束蒸發(fā)鍛膜巧lectronbeam evaporationcoating)技術(shù)，是指鍛膜材料在一定真空條件下，電子槍運(yùn)用物理特定手段 對(duì)膜料進(jìn)行有機(jī)轉(zhuǎn)換，使鍛膜材料轉(zhuǎn)換成粒子或分子狀態(tài)，沉積或吸附在塑膠材料的表面， 形成不導(dǎo)電的鍛膜層，該技術(shù)其最大的特點(diǎn)是氧化類鍛膜材料和金屬類鍛膜材料均可W單 獨(dú)或混合搭配鍛制。普通真空不導(dǎo)電鍛膜存在如下缺點(diǎn)：產(chǎn)品表面效果單一，沒有立體層 次感或立體層次感不明顯。金屬質(zhì)感仍然不強(qiáng)。鍛膜可靠性不高。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003] 本發(fā)明的主要目的在于克服現(xiàn)有技術(shù)的不足，提供一種電子設(shè)備殼體的鍛膜制備 工藝，使產(chǎn)品表面具有表面立體層次感強(qiáng)的3D立體效果，并具有金屬質(zhì)感強(qiáng)的金色外觀， 且鍛膜可靠性高。
[0004] 為實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明采用W下技術(shù)方案：
[0005] 一種電子設(shè)備殼體的鍛膜制備工藝，包括W下步驟：
[0006] 離子轟擊步驟：將一面經(jīng)過UV轉(zhuǎn)印處理的透明PET片材置于真空鍛室內(nèi)，對(duì)所述 PET片材的表面進(jìn)行離子轟擊；
[0007] 鍛膜步驟：利用真空鍛膜方式在所述PET片材的表面依次鍛上Sio2膜、Tio2膜、 銅膜和Sio2膜，真空鍛膜的參數(shù)如下：成膜時(shí)真空度為4. 0相-3化~2. 0相-3Pa;鍛Si02 膜時(shí)電流為50mA~150mA;鍛Tio2膜時(shí)電流為350mA~390mA;鍛銅膜時(shí)阻蒸電流280~ 300A;依次鍛上Sio2膜厚lOOA+lOA，tio2膜厚50A+10A，銅膜厚閒0A±80A，優(yōu)選厚 γ)9〇Α±1OA，si〇2膜掉1ooA+1oAc
[0008] 進(jìn)一步地；
[0009] 所述鍛膜步驟中，在鍛Sio2膜時(shí)氧氣流量為20SCCM，在鍛Tio2膜時(shí)氧氣流量為 40SCCM，在鍛銅膜時(shí)不充氧。
[0010] 束流/電流：Si02, 4 0;蓮/思，掃描光斑調(diào)到最大；ti〇2, 2.OA/s，掃描光斑調(diào)到最 ??；銅，6. 0-9.OA/s，擋板打開延遲10秒；
[0011] Si02膜的鍛膜材料直徑為0. 5~3mm，材料形態(tài)為粉末顆粒；Tio2膜的鍛膜材料 直徑為0. 5~3mm，材料形態(tài)為粉末顆粒；銅膜的鍛膜材料為長(zhǎng)條柱狀，材料直徑為1~ 2mm，材料長(zhǎng)度為3~5畑1。
[0012] 鍛膜步驟中，控制鍛膜作業(yè)前的成膜初始真空度為5. 0相-3Pa。
[0013] 鍛膜時(shí)搭載鍛膜傘具的轉(zhuǎn)架的轉(zhuǎn)速為22RPM，2甜z，作業(yè)周期為50Min。
[0014] 所述離子轟擊的參數(shù)如下：先將真空度抽至6. 0相-3化~7. 0E-3pa，充入氧氣，氧 氣流量保持在40sccm，使真空度達(dá)到2. 0E-2pa~3. 0E-2pa，離子源陽(yáng)極電壓為100V，陰極 電流為4. 1A，陽(yáng)極電流為4. 0A，氧氣產(chǎn)生電離并轟擊產(chǎn)品的表面，轟擊時(shí)間為120秒。
[0015] 在所述離子轟擊步驟之前還包括鍛膜基材前處理步驟，所述鍛膜基材前處理步驟 包括：
[0016] 將UV膠注入成型模具中并讓其流平；
[0017] 在模具內(nèi)將陽(yáng)T薄膜與UV膠貼合；
[0018] 過UV固化機(jī)進(jìn)行光照固化，在PET薄膜表面形成具有圖案紋路的UV轉(zhuǎn)印層；
[0019] 將轉(zhuǎn)印好的陽(yáng)T片材從模具中取出，并進(jìn)行趕軸趕平處理。
[0020] 進(jìn)行光照固化時(shí)，UV機(jī)內(nèi)溫度在30度至50度，UV膠上蓋一層透明玻璃板，W吸收 UV燈發(fā)出的過多的熱量。
[0021] 在所述離子轟擊步驟之前還包括W下步驟：通過熱壓印處理，在透明陽(yáng)T片材壓 的另一面印一層可剝離的硬質(zhì)PE膜。
[0022] 一種電子設(shè)備殼體，具有采用前述鍛膜制備工藝所獲得的鍛層結(jié)構(gòu)。
[0023] 本發(fā)明的有益效果：
[0024] 通過本發(fā)明工藝參數(shù)的真空鍛膜步驟，可在經(jīng)UV轉(zhuǎn)印處理的陽(yáng)T片材產(chǎn)品上實(shí)現(xiàn) 3D金顏色立體外觀效果，達(dá)到W前素材正面顏色做不到的工藝效果，從而獲得金屬質(zhì)感非 常強(qiáng)的金色外觀，同時(shí)產(chǎn)品呈現(xiàn)立體感強(qiáng)的圖案紋路，表面立體層次感強(qiáng)，鍛膜可靠性高。
【附圖說明】
[00巧]圖1為本發(fā)明實(shí)施例中的PET片材貼片式平板加熱成型工藝流程圖； 陽(yáng)0%] 圖2為本發(fā)明實(shí)施例中帶UV轉(zhuǎn)印層和硬質(zhì)PE膜的PET片材結(jié)構(gòu)圖；
[0027] 圖3為本發(fā)明實(shí)施例中鍛膜制備工藝的工藝流程圖；
[0028] 圖4為經(jīng)本發(fā)明實(shí)施例鍛膜制備工藝獲得的鍛層結(jié)構(gòu)圖；
[0029] 圖5為本發(fā)明實(shí)施例的電子設(shè)備殼體剖面結(jié)構(gòu)圖；
[0030] 圖6為本發(fā)明另一實(shí)施例的電子設(shè)備殼體剖面結(jié)構(gòu)圖。
【具體實(shí)施方式】
[0031] W下對(duì)本發(fā)明的實(shí)施方式作詳細(xì)說明。應(yīng)該強(qiáng)調(diào)的是，下述說明僅僅是示例性的， 而不是為了限制本發(fā)明的范圍及其應(yīng)用。
[0032] 參閱圖1，在一種實(shí)施例中，素材為透明陽(yáng)T(聚醋）材質(zhì)，且素材正面具有UV轉(zhuǎn) 印層圖案，圖案紋路如：拉絲紋、CD紋、太陽(yáng)紋、批花紋、編織紋、噴砂紋、皮紋、幻彩效果、鼓 包效果、貓眼效果、啞面、亮面、高亮面效果等；該素材的反面為一層可剝離狀態(tài)的PE硬膜。 產(chǎn)品正面鍛制光學(xué)膜層，使其產(chǎn)生立體和金色外觀效果。運(yùn)種3D紋路加金顏色效果其采用 的是"介質(zhì)加金屬"混合鍛方式得W實(shí)現(xiàn)。光學(xué)鍛的膜厚優(yōu)選控制在85nmW內(nèi)，為不導(dǎo)電 鍛，產(chǎn)品表面達(dá)到3D金色立體效果。該素材鍛膜完成后可W和2.抓或3D的玻璃進(jìn)行TP 貼合。
[0033] 鍛膜基材前處理
[0034]在鍛膜前，對(duì)PET材質(zhì)進(jìn)行UV轉(zhuǎn)印工藝處理（又稱UV灌注工藝或UV披覆工藝）， 利用UV轉(zhuǎn)印膠水與金屬不粘的特性處理實(shí)施，步驟如下：
[0035] 1、將透明PET材質(zhì)（該材質(zhì)為熱塑性材料，其密度為1. 38,折射率為1. 65,透過率 為90%，吸水率為0. 6% )和硬質(zhì)PE膜進(jìn)行熱壓印處理，其采用的方式為貼片式平板加熱 成型工藝，其成型工藝如圖1所示。壓印一層可剝離的硬質(zhì)PE膜，有利于后面工序進(jìn)行TP 工藝貼合，保證PET材質(zhì)和玻璃進(jìn)行貼合時(shí)表面的潔凈度。
[0036] 2、在第一步的基礎(chǔ)上，在產(chǎn)品的另一面做UV圖案紋路熱轉(zhuǎn)印處理（圖案紋路如： 拉絲紋、CD紋、太陽(yáng)紋、批花紋、編織紋、噴砂紋、皮紋、幻彩效果、鼓包效果、貓眼效果、啞 面、亮面、高亮面效果等），其采用的方式為UV熱轉(zhuǎn)印工藝（是一種光固化型單組分成型點(diǎn) 膠）。具體加工流程可包括W下步驟：
[0037] 1)取材：清除PET薄膜表面雜質(zhì)；
[0038] 2)點(diǎn)膠：將UV膠流（灌）在成型模具中，并讓其流平；
[0039] 3)貼模：將PET薄膜與模具注膠部分貼合，再用膠棍將片材緊壓，將其壓覆在轉(zhuǎn)印 模具上。為了讓UV膠和陽(yáng)T薄膜有優(yōu)異的附著力，讓陽(yáng)T薄膜片與UV膠貼合后在室溫下 放置3-5分鐘，讓UV膠與PET薄膜片充分潤(rùn)濕。 W40] 4)光固化：過UV固化機(jī)進(jìn)行光照固化。優(yōu)選地，UV機(jī)內(nèi)溫度大于30度小于50度， 避免溫度過高基材變形；同時(shí)為了避免UV膠在光固化時(shí)產(chǎn)生收縮，在上面蓋一層透明玻璃 板，W吸收UV燈發(fā)出的過多的熱量。
[0041] 5)脫模：將轉(zhuǎn)印好的產(chǎn)品從模具上取出放到指定位置做趕軸處理（工藝基本完 成），之后覆蓋保護(hù)膜保護(hù)。 陽(yáng)0創(chuàng) UV轉(zhuǎn)印后所得產(chǎn)品的結(jié)構(gòu)如圖2所示。
[0043] 在優(yōu)選的實(shí)施例中，鍛膜制備工藝的工藝流程如圖3所示，包括如下步驟：
[0044] 產(chǎn)品上傘：將基材片利用夾具固定在鍛膜傘具上，產(chǎn)品同傘具邊緣距離保持 3-5畑1，防止掛傘過程中壓到產(chǎn)品。
[0045] 鍛膜基材清潔處理：撕掉基材鍛膜面上的保護(hù)膜，采用靜電除塵槍做表面除塵處 理。
[0046] 離子源轟擊：將潔凈的產(chǎn)品通過傘具掛置于真空蒸發(fā)鍛膜室內(nèi)，離子轟擊參 數(shù)如下：先將真空度抽至7. 0E-化曰，充入氧氣，氧氣流量保持在40sccm，使真空度達(dá)到 2. 0E-化曰，離子源陽(yáng)極電壓為100V，陰極電流為4. 1A，陽(yáng)極電流為4. 0A，氣體設(shè)為自動(dòng)給氣 方式，氧氣產(chǎn)生電離并轟擊產(chǎn)品的表面，轟擊時(shí)間為120秒，之后關(guān)閉離子源。離子源轟擊 產(chǎn)品去除產(chǎn)品表面浮塵，增加膜層的附著力。
[0047] 離子源轟擊步驟中，轟擊前的真空度（開啟離子源前的真空度）7. 0巧-3化。
[0048] 真空鍛膜：離子源轟擊完成后，將真空度抽至5. 0E-3pa，在產(chǎn)品的表面鍛金顏色 膜。鍛膜方式是利用電子束蒸發(fā)的真空鍛膜。其工作原理為：在高真空的環(huán)