一種遮擋裝置及其遮擋方法和蒸鍍系統(tǒng)的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域，具體地，涉及一種遮擋裝置及其遮擋方法和蒸鍍系統(tǒng)。
【背景技術(shù)】
[0002]在顯示技術(shù)領(lǐng)域，OLED蒸鍍工藝在進(jìn)行蒸鍍過程中需要進(jìn)行蒸鍍材料的速率控制。目前，在OLED的蒸鍍腔室內(nèi)通常設(shè)置有多個(gè)蒸鍍?cè)?，每個(gè)蒸鍍?cè)粗械恼翦儾牧嫌糜谡翦冃纬蒓LED器件的一個(gè)功能層(如發(fā)光層、電子傳輸層或空穴傳輸層)。每個(gè)蒸鍍?cè)吹恼戏蕉挤謩e設(shè)置有一塊擋板，擋板與蒸鍍?cè)吹恼翦兠嫫叫?，且擋板的大小恰好能夠遮擋與其對(duì)應(yīng)的蒸鍍?cè)吹恼翦兠妗?br>[0003]每個(gè)蒸鍍?cè)丛谡翦冮_始時(shí)，擋板拿掉之后才能開始對(duì)蒸鍍材料的速率進(jìn)行控制，同時(shí)向待鍍基板上進(jìn)行蒸鍍。一個(gè)蒸鍍?cè)凑翦兺旰?，下一個(gè)蒸鍍?cè)粗貜?fù)同樣的過程進(jìn)行另一種蒸鍍材料的速率控制和蒸鍍。這種蒸鍍方法不僅蒸鍍時(shí)間過長(zhǎng)，而且往往在蒸鍍材料的速率還沒有穩(wěn)定時(shí)，部分蒸鍍材料就已經(jīng)蒸鍍到待鍍基板上，使待鍍基板上的蒸鍍膜厚控制不夠精準(zhǔn)，既浪費(fèi)蒸鍍材料，又影響基板上該蒸鍍膜層的品質(zhì)。
[0004]目前的蒸鍍工藝不但使OLED顯示器件良率低，而且極大地提高了 OLED顯示器件的成本，使OLED顯示器件一直處于難以取代IXD顯示器件的境地。特別是對(duì)于G2.5產(chǎn)線產(chǎn)生了諸如產(chǎn)能低、材料成本高、時(shí)間伴隨成本高、重復(fù)性穩(wěn)定性差等問題，且這些問題成為阻礙OLED發(fā)展的瓶頸問題。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]本發(fā)明針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)中存在的上述技術(shù)問題，提供一種遮擋裝置及其遮擋方法和蒸鍍系統(tǒng)。該遮擋裝置實(shí)現(xiàn)了蒸鍍的連續(xù)性控制，不僅縮短了蒸鍍時(shí)間，而且節(jié)約了蒸鍍材料，從而不僅提高了產(chǎn)能，而且節(jié)約了成本，同時(shí)還提高了蒸鍍的穩(wěn)定性和良率。
[0006]本發(fā)明提供一種遮擋裝置，包括動(dòng)力機(jī)構(gòu)和遮擋機(jī)構(gòu)，所述動(dòng)力機(jī)構(gòu)用于帶動(dòng)所述遮擋機(jī)構(gòu)在蒸鍍速率控制階段和蒸鍍階段變換不同位置，所述遮擋機(jī)構(gòu)用于在所述蒸鍍速率控制階段遮擋蒸鍍?cè)磁c待鍍基板之間的蒸鍍通道，并保持所述蒸鍍?cè)磁c蒸鍍速率感應(yīng)器之間的蒸鍍通道開啟；還用于在所述蒸鍍階段開啟所述蒸鍍?cè)磁c所述待鍍基板之間的蒸鍍通道，并繼續(xù)保持所述蒸鍍?cè)磁c所述蒸鍍速率感應(yīng)器之間的蒸鍍通道開啟。
[0007]優(yōu)選地，所述蒸鍍速率感應(yīng)器和所述待鍍基板均位于所述蒸鍍?cè)吹纳戏?，且所述蒸鍍速率感?yīng)器和所述待鍍基板在所述蒸鍍?cè)此谄矫嫔系恼队胺謩e位于所述蒸鍍?cè)吹南鄬?duì)兩側(cè)；
[0008]所述動(dòng)力機(jī)構(gòu)用于設(shè)置在所述蒸鍍?cè)吹呐c所述待鍍基板位置相對(duì)應(yīng)的一側(cè)，所述遮擋機(jī)構(gòu)包括遮擋部和連接板，所述遮擋部和所述連接板之間成一夾角，所述連接板與所述動(dòng)力機(jī)構(gòu)連接，所述動(dòng)力機(jī)構(gòu)能帶動(dòng)所述遮擋部轉(zhuǎn)動(dòng)到遮擋所述蒸鍍?cè)磁c所述待鍍基板之間的蒸鍍通道的位置。
[0009]優(yōu)選地，所述遮擋部呈矩形板狀，所述遮擋部的長(zhǎng)邊沿遠(yuǎn)離所述動(dòng)力機(jī)構(gòu)的方向延伸，所述遮擋部的寬度大于等于所述蒸鍍?cè)吹闹睆健?br>[0010]優(yōu)選地，所述遮擋部呈圓筒狀，所述圓筒的一端筒口用于與所述蒸鍍?cè)吹恼翦兠嫦鄬?duì)，所述圓筒的筒徑沿遠(yuǎn)離所述動(dòng)力機(jī)構(gòu)的方向延伸，所述圓筒的直徑大于等于所述蒸鍍?cè)吹闹睆健?br>[0011]優(yōu)選地，所述連接板平行于所述蒸鍍?cè)吹恼翦兠?，矩形板狀的所述遮擋部與所述連接板之間的夾角范圍為大于90°且小于180°。
[0012]優(yōu)選地，所述連接板平行于所述蒸鍍?cè)吹恼翦兠妫瑘A筒狀的所述遮擋部的筒徑與所述連接板之間的夾角范圍為大于90°且小于180°。
[0013]優(yōu)選地，所述遮擋機(jī)構(gòu)還包括支撐板，所述支撐板設(shè)置在所述遮擋部和所述連接板的夾角位置，且所述支撐板的相鄰的兩側(cè)邊分別連接所述遮擋部和所述連接板。
[0014]優(yōu)選地，所述遮擋部采用金屬材料。
[0015]優(yōu)選地，所述遮擋部的用于面向所述蒸鍍?cè)吹恼趽趺嬖O(shè)置為網(wǎng)格狀。
[0016]優(yōu)選地，還包括控制模塊，所述控制模塊與所述動(dòng)力機(jī)構(gòu)連接，用于在所述蒸鍍速率控制階段控制所述動(dòng)力機(jī)構(gòu)動(dòng)作，以帶動(dòng)所述遮擋機(jī)構(gòu)遮擋所述蒸鍍?cè)磁c所述待鍍基板之間的蒸鍍通道；還用于在所述蒸鍍階段控制所述動(dòng)力機(jī)構(gòu)動(dòng)作，以帶動(dòng)所述遮擋機(jī)構(gòu)變換位置，使所述蒸鍍?cè)磁c所述待鍍基板之間的蒸鍍通道開啟。
[0017]本發(fā)明還提供一種蒸鍍系統(tǒng)，包括上述遮擋裝置。
[0018]優(yōu)選地，還包括蒸鍍?cè)础⒄翦兯俾矢袘?yīng)器和蒸鍍膜厚控制器，所述蒸鍍?cè)从糜谙虼兓迳险翦兡樱凰稣翦兯俾矢袘?yīng)器用于采集所述蒸鍍?cè)吹恼翦兯俾?，并將采集的所述蒸鍍速率發(fā)送給所述蒸鍍膜厚控制器；所述蒸鍍膜厚控制器用于根據(jù)所述蒸鍍速率控制蒸鍍到所述待鍍基板上的膜層厚度；
[0019]所述遮擋裝置的控制模塊連接所述蒸鍍膜厚控制器，所述蒸鍍膜厚控制器還用于控制所述控制模塊向動(dòng)力機(jī)構(gòu)發(fā)出控制指令。
[0020]本發(fā)明還提供一種上述遮擋裝置的遮擋方法，包括:
[0021]在蒸鍍速率控制階段，動(dòng)力機(jī)構(gòu)帶動(dòng)遮擋機(jī)構(gòu)遮擋蒸鍍?cè)磁c待鍍基板之間的蒸鍍通道，并保持所述蒸鍍?cè)磁c蒸鍍速率感應(yīng)器之間的蒸鍍通道開啟；
[0022]在蒸鍍階段，所述動(dòng)力機(jī)構(gòu)帶動(dòng)所述遮擋機(jī)構(gòu)開啟所述蒸鍍?cè)磁c所述待鍍基板之間的蒸鍍通道，并繼續(xù)保持所述蒸鍍?cè)磁c所述蒸鍍速率感應(yīng)器之間的蒸鍍通道開啟。
[0023]本發(fā)明的有益效果:本發(fā)明所提供的遮擋裝置，通過設(shè)置遮擋機(jī)構(gòu)，既能在蒸鍍速率控制階段遮擋蒸鍍?cè)磁c待鍍基板之間的蒸鍍通道，并保持蒸鍍?cè)磁c蒸鍍速率感應(yīng)器之間的蒸鍍通道開啟；又能在蒸鍍階段開啟蒸鍍?cè)磁c待鍍基板之間的蒸鍍通道，并繼續(xù)保持蒸鍍?cè)磁c蒸鍍速率感應(yīng)器之間的蒸鍍通道開啟，實(shí)現(xiàn)了在蒸鍍之前能夠提前進(jìn)行蒸鍍材料的速率控制，蒸鍍開始時(shí)，蒸鍍材料的速率已經(jīng)達(dá)到穩(wěn)定，從而實(shí)現(xiàn)了蒸鍍的連續(xù)性控制，不僅縮短了蒸鍍時(shí)間，而且節(jié)約了蒸鍍材料，從而不僅提高了產(chǎn)能，而且節(jié)約了成本，同時(shí)還提高了蒸鍍的穩(wěn)定性和良率。
[0024]本發(fā)明所提供的蒸鍍系統(tǒng)，通過采用上述遮擋裝置，實(shí)現(xiàn)了該蒸鍍系統(tǒng)的連續(xù)性蒸鍍控制，使該蒸鍍系統(tǒng)不僅縮短了蒸鍍時(shí)間，而且節(jié)約了蒸鍍材料，從而不僅提高了產(chǎn)能，而且節(jié)約了成本，同時(shí)還提高了蒸鍍的穩(wěn)定性和良率。
【附圖說明】
[0025]圖1為本發(fā)明實(shí)施例1中遮擋裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0026]圖2為圖1中遮擋部的遮擋面的結(jié)構(gòu)俯視圖；
[0027]圖3為本發(fā)明實(shí)施例1的遮擋裝置在蒸鍍速率控制階段的設(shè)置位置示意圖；
[0028]圖4為本發(fā)明實(shí)施例1的遮擋裝置在蒸鍍階段的設(shè)置位置示意圖；
[0029]圖5為本發(fā)明實(shí)施例2中遮擋裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0030]其中的附圖標(biāo)記說明:
[0031]1.動(dòng)力機(jī)構(gòu)；2.遮擋機(jī)構(gòu)；21.遮擋部；22.連接板；23.支撐板；L.遮擋部的長(zhǎng)邊;W.遮擋部的寬度；3.蒸鍍?cè)矗?1.蒸鍍面；4.待鍍基板；5.蒸鍍速率感應(yīng)器。
【具體實(shí)施方式】
[0032]為使本領(lǐng)域的技術(shù)人員更好地理解本發(fā)明的技術(shù)方案，下面結(jié)合附圖和【具體實(shí)施方式】對(duì)本發(fā)明所提供的一種遮擋裝置及其遮擋方法和蒸鍍系統(tǒng)作進(jìn)一步詳細(xì)描述。
[0033]實(shí)施例1:
[0034]本實(shí)施例提供一種遮擋裝置，如圖1所示，包括動(dòng)力機(jī)構(gòu)I和遮擋機(jī)構(gòu)2，動(dòng)力機(jī)構(gòu)I用于帶動(dòng)遮擋機(jī)構(gòu)2在蒸鍍速率控制階段和蒸鍍階段變換不同位置，遮擋機(jī)構(gòu)2用于在蒸鍍速率控制階段遮擋蒸鍍?cè)?與待鍍基板4之間的蒸鍍通道，并保持蒸鍍?cè)?與蒸鍍速率感應(yīng)器5之間的蒸鍍通道開啟；還用于在蒸鍍階段開啟蒸鍍?cè)?與待鍍基板4之間的蒸鍍通道，并繼續(xù)保持蒸鍍?cè)?與蒸鍍速率感應(yīng)器5之間的蒸鍍通道開啟。
[0035]該遮擋裝置通過設(shè)置既能在蒸鍍速率控制階段遮擋蒸鍍?cè)?與待鍍基板4之間的蒸鍍通道，并保持蒸鍍?cè)?與蒸鍍速率感應(yīng)器5之間的蒸鍍通道開啟；又能在蒸鍍階段開啟蒸鍍?cè)?與待鍍基板4之間的蒸鍍通道，并繼續(xù)保持蒸鍍?cè)?與蒸鍍速率感應(yīng)器5之間的蒸鍍通道開啟的遮擋機(jī)構(gòu)2，實(shí)現(xiàn)了在蒸鍍之前能夠提前進(jìn)行蒸鍍材料的速率控制，蒸鍍開始時(shí)，蒸鍍材料的速率已經(jīng)達(dá)到穩(wěn)定，從而實(shí)現(xiàn)了蒸鍍的連續(xù)性控制，不僅縮短了蒸鍍時(shí)間，而且節(jié)約了蒸鍍材料，從而不僅提高了產(chǎn)能，而且節(jié)約了成本，同時(shí)還提高了蒸鍍的穩(wěn)定性和良率。
[0036]本實(shí)施例中，蒸鍍速率感應(yīng)器5和待鍍基板4均位于蒸鍍?cè)?的上方，且蒸鍍速率感應(yīng)器5和待鍍基板4在蒸鍍?cè)?所在平面上的正投影分別位于蒸鍍?cè)?的相對(duì)兩側(cè)?’動(dòng)力機(jī)構(gòu)I用于設(shè)置在蒸鍍?cè)?的與待鍍基板4位置相對(duì)應(yīng)的一側(cè)，遮擋機(jī)構(gòu)2包括遮擋部21和連接板22，遮擋部21和連接板22之間成一夾角，連接板22與動(dòng)力機(jī)構(gòu)I連接，動(dòng)力機(jī)構(gòu)I能帶動(dòng)遮擋部21轉(zhuǎn)動(dòng)到遮擋蒸鍍?cè)?與待鍍基板4之間的蒸鍍通道的位置。從而實(shí)現(xiàn)在蒸鍍速率控制階段對(duì)蒸鍍?cè)?與待鍍基板4之間的蒸鍍通道進(jìn)行遮擋，進(jìn)而確保在蒸鍍?cè)?的蒸鍍材料速率沒有達(dá)到穩(wěn)定之前，不會(huì)蒸鍍到待鍍基板4上，因此確保了待鍍基板4上鍍膜質(zhì)量。
[0037]其中，遮擋部21呈矩形板狀，遮擋部21的長(zhǎng)邊L沿遠(yuǎn)離動(dòng)力機(jī)構(gòu)I的方向延伸，遮擋部21的寬度W大于等于蒸鍍?cè)?的直徑。蒸鍍?cè)?為將蒸鍍材料設(shè)置在圓柱體狀的蒸鍍腔室內(nèi)，蒸鍍時(shí)，對(duì)腔室內(nèi)的蒸鍍材料進(jìn)行加熱升溫，使蒸鍍材料向上蒸發(fā)。遮擋部21的結(jié)構(gòu)設(shè)置，能使其在蒸鍍速率控制階段的遮擋位置上恰好遮擋住蒸鍍?cè)?與待鍍基板4之間的蒸鍍通道，使蒸鍍材料無法蒸鍍到待鍍基板4上。
[0038]本實(shí)施例中，連接板22平行于蒸鍍?cè)?的蒸鍍面31，蒸鍍面31為蒸鍍?cè)?的蒸鍍材料向外蒸發(fā)的一面。矩形板狀的遮擋部21與連接板22之間的夾角范圍為大于90°且小于180°。該夾角角度范圍設(shè)置，能使遮擋部21在蒸鍍速率控制階段轉(zhuǎn)動(dòng)到遮擋位置時(shí)，恰好能將蒸鍍?cè)?與待鍍基板4之間的蒸鍍通道完全遮擋住，避免在蒸鍍速率控制階段速率不穩(wěn)定的蒸鍍材料蒸鍍到待鍍基板4上，造成蒸鍍膜層異常。
[0039]本實(shí)施例中，遮擋機(jī)構(gòu)2還包括支撐板23，支撐板23設(shè)置在遮擋部21和連接板22的夾角位置，且支撐板23的相鄰的兩側(cè)邊分別連接遮擋部21和連接板22。支撐板23的設(shè)置，能夠確保遮擋部21