磁性記錄介質(zhì)用玻璃基板及生產(chǎn)其的方法
【專利說明】磁性巧錄介質(zhì)用玻璃基板及生產(chǎn)其的方法
[0001] 本申請為2012年5月25日提交的、申請?zhí)枮?01210166594. 4的、發(fā)明名稱為"周 表面拋光刷和生產(chǎn)磁性記錄介質(zhì)用玻璃基板的方法"的申請的分案申請。
技術(shù)領(lǐng)域
[0002] 本發(fā)明設及周表面拋光刷和使用周表面拋光刷生產(chǎn)磁性記錄介質(zhì)用玻璃基板的 方法。
【背景技術(shù)】
[0003] 隨著近年來磁盤的高記錄密度的增加，磁性記錄介質(zhì)用玻璃基板所需的特性變得 越來越嚴格。具體地，當其中屯、處具有圓形孔的用于磁性記錄介質(zhì)的盤形玻璃基板的邊緣 表面被拋光時，玻璃基板的邊緣表面的形狀和尺寸的質(zhì)量所需的精度增加。
[0004] 磁性記錄介質(zhì)用玻璃基板在生產(chǎn)所述玻璃基板的過程中經(jīng)受周表面拋光，W便去 除玻璃基板的側(cè)表面或倒角部分上的刮痕和粗糖部并從而將表面精加工成平坦的鏡面。通 過將玻璃基板的側(cè)表面或倒角部分精加工成平坦的鏡面，玻璃基板的機械性能得到提高。 此外，側(cè)表面或邊緣表面上的粗糖部上存在的異物被減少且由側(cè)表面或邊緣表面的粗糖部 產(chǎn)生的樹脂材料盒的磨損引起的顆粒被減少。
[0005] 在玻璃基板的內(nèi)周表面拋光中，例如，玻璃基板被堆疊的玻璃基板堆被安裝在周 表面拋光機器上，且拋光刷被插入玻璃基板堆中W拋光。然而，當拋光刷被推入玻璃基板堆 的內(nèi)周表面中時，存在拋光刷的軸由于玻璃基板堆的排斥力而彎曲的問題。
[0006] 因此，專利文獻1公開了通過在對拋光刷施加向下載荷的狀態(tài)下拋光玻璃基板堆 來抑制拋光刷的彎曲。
[0007][專利文獻1] JP-A-2006-007350

【發(fā)明內(nèi)容】

[0008] 然而，在專利文獻1的方法中，存在需要施加向下載荷的設備且周表面拋光機器 具有復雜構(gòu)造的問題。此外，實際上不能評估拋光的變化和玻璃基板堆中的鏡面缺陷。
[0009] 因此，本發(fā)明的目的是提供一種周表面拋光刷，其能夠均勻地且穩(wěn)定地拋光內(nèi)周 倒角部分和內(nèi)周側(cè)表面而不必使用具有復雜構(gòu)造的任何周表面拋光機器。
[0010] 本發(fā)明提供一種周表面拋光刷，用于對磁性記錄介質(zhì)用玻璃基板的內(nèi)周表面進行 拋光，在所述玻璃基板的中屯、處具有圓形孔，
[0011] 其中所述周表面拋光刷包括軸，在所述軸上植入有刷絲，并且當對所述軸施加 19. 6N的載荷時，所述軸具有420 ym或更小的最大彎曲值。
[0012] 本發(fā)明的效果如下。
[0013] 本發(fā)明提供一種周表面拋光刷，其能夠均勻地且穩(wěn)定地拋光內(nèi)周倒角部分和內(nèi)周 側(cè)表面而不必使用具有復雜構(gòu)造的任何周表面拋光機器。
【附圖說明】
[0014] 圖1是示出通過根據(jù)本發(fā)明的生產(chǎn)磁性記錄介質(zhì)用玻璃基板的方法構(gòu)造玻璃基 板的透視橫截面圖。
[0015] 圖2是示出磁性記錄介質(zhì)用玻璃基板的內(nèi)周表面被拋光的狀態(tài)的示意圖。
[0016] 圖3是示出根據(jù)本發(fā)明的周表面拋光刷的示意性橫截面視圖。
[0017] 圖4是根據(jù)本發(fā)明的周表面拋光刷的放大的橫截面視圖。
[0018] 附圖標記說明
[0019] 1...玻璃基板
[0020] 2...主表面 陽OW3...圓形孔 陽0巧 4...外周表面 陽〇2引 5...外周側(cè)表面 [0024] 6...外周倒角部分 陽0巧]7...內(nèi)周表面
[0026] 8...內(nèi)周側(cè)表面
[0027] 9...內(nèi)周倒角部分
[0028] 10...間隔件
[0029] 11...玻璃基板堆
[0030]12...周表面拋光刷 W31] 13...刷絲
[0032]14...軸
[0033] 15...通道部件
[0034]16...植入的絲的長度
[0035]17...通道部件的高度
[0036]18...植絲部分
[0037]19...通道部件的節(jié)距寬度
[0038] 20...周表面拋光刷的外徑
[0039]21...刷絲的長度
【具體實施方式】
[0040] 在下文中，將描述本發(fā)明的優(yōu)選實施例，但是本發(fā)明不限于此。
[0041] 首先，將描述使用周表面拋光刷拋光磁性記錄介質(zhì)用玻璃基板的構(gòu)造。圖1是示 出玻璃基板的構(gòu)造的透視橫截面視圖。在圖1中，玻璃基板1具有環(huán)狀物形狀，其在主表面 2的中屯、處具有圓形孔3。玻璃基板1的外周的側(cè)表面是外周表面4,而圓形孔3的側(cè)表面 是內(nèi)周表面7。外周表面4包括與主表面2形成90度角度的外周側(cè)表面5和在外周側(cè)表面 5處接觸主表面2的外周倒角部分6。而且，內(nèi)周表面7包括：與主表面2形成90度角度的 內(nèi)周側(cè)表面8;和接觸主表面2及內(nèi)周側(cè)表面8的內(nèi)周倒角部分9。
[0042] 圖2是示出磁性記錄介質(zhì)用玻璃基板的內(nèi)周表面被拋光的狀態(tài)的示意圖。當磁性 記錄介質(zhì)用玻璃基板的內(nèi)周表面被拋光時，多個盤形玻璃基板使圓形孔重疊，使得玻璃基 板對應于圓形孔的位置，從而形成玻璃基板堆。此時，如圖2所示，間隔件10可W例如插入 相鄰的盤形玻璃基板1之間。通過將間隔件10插入其間，刷絲和拋光漿料容易進入到主表 面2和內(nèi)周倒角部分9之間的邊界，且內(nèi)周表面7能夠被進一步均勻地拋光。此外，可防止 對玻璃基板的主表面的刮擦。通常，在玻璃基板堆中，間隔件10的圓形孔具有與玻璃基板 的圓形孔相同的中屯、軸線且中屯、軸線在垂直于玻璃基板1的主表面2的方向上延伸。
[0043] 優(yōu)選地，間隔件10的圓形孔的內(nèi)徑略微大于由玻璃基板1的主表面2和主表面2 的內(nèi)周倒角部分9之間的邊界形成的直徑。通過使間隔件10的圓形孔的內(nèi)徑略大于由玻 璃基板1的主表面2和主表面2的內(nèi)周倒角部分9之間的邊界形成的直徑，內(nèi)周倒角部分 9的整個表面可被均勻地拋光。而且，間隔件10的厚度優(yōu)選地是0. 2mm至0. 5mm。當間隔 件10的厚度小于0. 2mm時，可能難W均勻地拋光內(nèi)周倒角部分9的整個表面。另一方面， 當間隔件10的厚度大于0. 5mm時，由于玻璃基板堆的尺寸增加，所W不是優(yōu)選的。同樣，間 隔件10的材料具體不受限制，而是例如可使用橡膠、塑料、侶合金、不誘鋼等。
[0044] 堆疊多個玻璃基板的玻璃基板堆11安裝在保持部分中W將玻璃基板堆保持在眾 所周知的內(nèi)周表面拋光機器中。然后，將下述的周表面拋光刷12插入形成在玻璃基板堆11 的中屯、處的圓形孔3中，使得玻璃基板的內(nèi)周側(cè)表面8及內(nèi)周倒角部分9與刷絲13接觸。 之后，將包含研磨料的拋光漿料供應到玻璃基板的內(nèi)周側(cè)表面8和內(nèi)周倒角部分9。在該狀 態(tài)下，通過在相反的方向旋轉(zhuǎn)玻璃基板堆11和周表面拋光刷12來執(zhí)行拋光。
[0045] 此時，例如，周表面拋光刷12可被強有力地壓到玻璃基板堆11上約1. 5mm至約 2.Omm的深度。而且，可通過使周表面拋光刷12在刷插入方向上往復運動來執(zhí)行拋光。而 且，周表面拋光刷12往復運動的往復運動距離優(yōu)選地為玻璃基板堆在堆方向上的長度的 15%或更多。當周表面拋光刷12往復運動的往復運動距離低于玻璃基板堆沿堆方向的長 度的15 %時，可能會由玻璃基板堆沿拋光刷的軸向方向的變化特性引起拋光的變化量。
[0046] 在圖2中，通過堆疊六個盤形玻璃基板形成了玻璃基板堆，但是本發(fā)明不限于 此。待堆疊的多個盤形玻璃基板的堆疊數(shù)目具體不受限制且玻璃基板堆可形成為例如堆疊 100、200或300個玻璃基板。通常，通過增加堆疊的玻璃基板的數(shù)目，許多玻璃基板可被同 時拋光且鑒于經(jīng)濟效率和效能是更優(yōu)選的。
[0047][周表面拋光刷]
[0048] 圖3是示出根據(jù)本發(fā)明的周表面拋光刷12的示意性橫截面視圖。而且，圖4是周 表面拋光刷12的放大的橫截面視圖。周表面拋光刷12通常包括周向軸14和安裝在軸14 上的刷絲13。刷絲13在大體垂直于軸14的周向方向的方向上植入。 W例周向軸14在軸向方向上在中屯、處的最大彎曲值5 (ym)使用施加的載荷P㈱、 軸14在軸向方向上的長度L(Him)、軸的直徑r(底部的半徑）（mm)和構(gòu)成材料的楊氏模量 E(GPa)定義為W下公式（1)。 陽0 加]5 =PLV(123ir4E) (1)
[0051] 測量公式（1)的最大彎曲值的方法在上面示出且本發(fā)明不限于此。例如，軸的在 軸向方向上的兩端的IOmm內(nèi)側(cè)被支撐，在軸向方向上利用推拉規(guī)等將19.6N的載荷施加到 軸的中屯、且利用刻度表等測量運動距離（即，最大彎曲值）。
[0052] 在本發(fā)明的周表面拋光刷12中，在19. 6N的載荷被施加到軸14的情形中的彎曲 值優(yōu)選地為420ym或更小，更優(yōu)選地為400ym或更小，甚至更優(yōu)選地為300ym或更小， 特別優(yōu)選地為250ym或更小。通過使用其中當19. 6N的載荷被施加到軸14時彎曲值為 420ym或更小的周表面拋光刷，當內(nèi)周表面被拋光時軸不會彎曲且玻璃基板堆因而可被均 勻地拋光。具體地，在同一玻璃基板堆批次中的拋光變化可被控制到7ym或更小，因而可 實現(xiàn)內(nèi)周倒角部分和內(nèi)周側(cè)表面的均勻且穩(wěn)定的拋光。此時，軸的楊氏模量E、軸的底部的 半徑r和軸的長度L具體不受限制，只要軸的彎曲值5滿足基于公式（1)的所有前述條件 即可。
[005引將刷絲13植入在周表面拋光刷12上的方法具體不受限制，且例如如圖3