載荷并利用刻度表等測量運動距離而獲得的值。 陽08引此外，實例和比較例使用的周表面拋光刷具有2. 5mm的通道高度、3. 7mm的刷絲長 度、0. 2mm的刷絲線性直徑和30%的植絲部分面積比率。
[0089] 而且，運里使用的拋光漿料是包含作為主要成分的具有1.4ym的平均顆粒直徑 的氧化姉研磨料和具有I. 2的比重的拋光漿料。下面將詳細描述拋光程序。
[0090] 將通過浮動過程形成且包含作為主要成分的Si〇2的玻璃基板加工成在其中屯、處 具有圓形孔的盤形形狀，作為磁性記錄介質(zhì)用玻璃基板，其具有65mm的外徑、20mm的內(nèi)徑 和0. 635mm的厚度。
[0091] 在其中屯、處具有圓形孔的盤形玻璃基板的內(nèi)周側(cè)表面和外周側(cè)表面被倒角W獲 得作為最終產(chǎn)品的具有0.15mm寬度和45°倒角的磁性記錄介質(zhì)用玻璃基板。然后使用氧 化侶研磨料（平均顆粒直徑7至7. 5 y m)研磨玻璃基板的上主表面和下主表面并且通過清 潔來去除研磨料。
[0092] 之后，利用對準夾具來堆疊玻璃基板W形成玻璃基板堆。此外，將由樹脂制成的 0.2mm厚度的間隔件插入相鄰的玻璃基板之間且堆疊200個玻璃基板W形成玻璃基板堆。
[0093] 將所獲得的玻璃基板堆插入夾具W拋光內(nèi)周表面并通過在玻璃基板堆的上下方 向上牢固地緊固玻璃基板堆來固定，并且將對準夾具從玻璃基板堆分離。將玻璃基板堆安 裝在內(nèi)周表面拋光機器（由UTK系統(tǒng)有限公司制造，產(chǎn)品名：BTK-08)的拋光物質(zhì)保持部分 上，并且，將周表面拋光刷插入玻璃基板堆的中屯、處的圓形孔內(nèi)。運里使用的周表面拋光刷 具有：206GPa的楊氏模量；375mm的周表面拋光刷的軸長度；50%的軸直徑與玻璃基板的圓 形孔直徑的比率；W及通過該方法測量的210ym的彎曲值。
[0094] 周表面拋光刷沿一個方向從玻璃基板堆的圓形孔的中屯、移動且將預(yù)定量的刷絲 推入玻璃基板堆的內(nèi)周側(cè)表面和內(nèi)周倒角部分中。將前述拋光漿料供應(yīng)到玻璃基板堆的內(nèi) 周表面，沿相反方向旋轉(zhuǎn)拋光刷和玻璃基板堆，并且在玻璃基板堆的堆疊方向上搖動周表 面拋光刷的同時執(zhí)行拋光。
[0095] 而且，在實例和比較例中，設(shè)定7至化/min的拋光漿料流速、250化pm的拋光刷旋 轉(zhuǎn)速率、3化pm的玻璃基板堆旋轉(zhuǎn)速率和100至1500mm/min的搖動速率，并且執(zhí)行拋光直到 內(nèi)周側(cè)表面的去除量變?yōu)?5 ym(-個表面：12. 5 ym)。
[0096] 在拋光內(nèi)周表面之后，從用于拋光內(nèi)周表面的夾具釋放玻璃基板堆，且將玻璃基 板一個接一個地從玻璃基板堆分離。分離的玻璃基板在通過清潔去除其上存在的研磨料之 后用于隨后的評估。
[0097](實例。
[0098] W與實例1中相同的方式執(zhí)行拋光，只不過所用的周表面拋光刷具有：199GPa的 楊氏模量；375mm的周表面拋光刷的軸長度；50%的軸直徑與玻璃基板的圓形孔的直徑的 比率；W及通過該方法測量的220ym的彎曲值。
[0099](實例如
[0100] W與實例1中相同的方式執(zhí)行拋光，只不過所用的周表面拋光刷具有：199GPa的 楊氏模量；230mm的周表面拋光刷的軸長度；40%的軸直徑與玻璃基板的圓形孔的直徑的 比率；W及通過該方法測量的120ym的彎曲值。 陽1〇1](實例4) 陽102] W與實例1中相同的方式執(zhí)行拋光，只不過所用的周表面拋光刷具有：199GPa的 楊氏模量；230mm的周表面拋光刷的軸長度；30%的軸直徑與玻璃基板的圓形孔的直徑的 比率；W及通過該方法測量的390 ym的彎曲值。 陽103](比較例1)
[0104] W與實例I中相同的方式執(zhí)行拋光，只不過所用的周表面拋光刷具有aOlGPa的 楊氏模量；375mm的周表面拋光刷的軸長度；50%的軸直徑與玻璃基板的圓形孔的直徑的 比率；W及通過該方法測量的430ym的彎曲值。
[0105](比較例。 陽106] W與實例1中相同的方式執(zhí)行拋光，只不過所用的周表面拋光刷具有：69GPa的楊 氏模量；375mm的周表面拋光刷的軸長度；50%的軸直徑與玻璃基板的圓形孔的直徑的比 率；W及通過該方法測量的640ym的彎曲值。 陽107][評估]
[0108](去除量的差異）
[0109] 周表面拋光之前的玻璃基板和周表面拋光之后獲得的玻璃基板被清潔并干燥，所 述玻璃基板隨后用于使用高精度2維尺寸計（由Keyence有限公司制造，產(chǎn)品名：VM8040) 測量去除量。具體地，在內(nèi)周側(cè)表面上測量玻璃基板的中屯、處的圓形孔的直徑且周表面拋 光之前和之后之間的圓形孔的直徑差被作為去除量。
[0110] 從200個玻璃基板堆批次中任意抽取20個玻璃基板，測量其前述去除量并且將最 大值和最小值之間的差定義為一個批次中的去除量的差。
[01川（凹坑缺陷數(shù)目）
[0112] 使用含有氨氣酸和硝酸的酸性蝕刻溶液將拋光之后的玻璃基板的內(nèi)周表面在深 度方向上蝕刻到5ym的厚度。結(jié)果，設(shè)計出容易觀察到的作為凹坑缺陷的損壞層（劃痕）。 然后，清潔并干燥玻璃基板。最后，將玻璃基板切割到一定尺寸，使得容易評估凹坑缺陷數(shù) 目W生產(chǎn)包括內(nèi)周側(cè)表面8和內(nèi)周倒角部分9的用于觀察凹坑缺陷數(shù)目的樣品。
[0113] 通過使用光學(xué)顯微鏡（由奧林己斯公司生產(chǎn)，BX60M，明視場微分干設(shè)對比金相顯 微鏡）計數(shù)凹坑缺陷數(shù)目來評估凹坑缺陷數(shù)目。將用于觀察的各個樣品固定在樣品臺上使 得內(nèi)周側(cè)表面8或內(nèi)周倒角部分9的表面平行于光學(xué)顯微鏡的物鏡的透鏡表面。利用光學(xué) 顯微鏡的20倍物鏡在480ymX328ym的視場下對具有10ym或更大直徑的圓形或楠圓形 凹坑缺陷的數(shù)目進行計數(shù)。而且，計算通過觀察區(qū)域分割所測得的凹坑缺陷數(shù)目的值。 陽114] 具有200件玻璃基板的玻璃基板批次被粗分為上部、中部和下部，且從各個劃分 的區(qū)域中任意地抽取3件玻璃基板并通過前述方法對其進行測量，并且使用運些值的平均 值作為凹坑缺陷數(shù)目。通常，所獲得的值低于5/mm2的拋光方法是優(yōu)選的，并且所獲得的值 不低于5/mm2的拋光方法不是優(yōu)選的。 陽11引表1 陽116]
[0117] 本發(fā)明的周表面拋光刷能夠均勻地且穩(wěn)定地拋光玻璃基板的內(nèi)周倒角部分和內(nèi) 周側(cè)表面，因為其在19. 6N的施加載荷下具有420ym或更小的彎曲值。
[0118] 盡管已經(jīng)參考本發(fā)明的具體實施例詳細描述了本發(fā)明，但是對于本領(lǐng)域技術(shù)人員 將明顯的是，在不偏離本發(fā)明的精神和范圍的情況下可在其中作出各種變化和修改。
[0119] 順便提一下，本申請基于2011年5月27日提交的日本專利申請JP2011-119586 且內(nèi)容通過引用并入此處。
[0120] 而且，運里引用的所有文獻整體并入。
【主權(quán)項】
1. 一種生產(chǎn)磁性記錄介質(zhì)用玻璃基板的方法，所述方法包括： 成形步驟，形成盤形玻璃基板，所述盤形玻璃基板具有內(nèi)周側(cè)表面、外周側(cè)表面和主表 面，并且在所述玻璃基板的中心處具有圓形孔； 內(nèi)周倒角步驟，在所述玻璃基板的所述內(nèi)周側(cè)表面和所述主表面的相交部分處形成內(nèi) 周倒角部分； 內(nèi)周表面拋光步驟，對所述內(nèi)周側(cè)表面和所述內(nèi)周倒角部分進行拋光；以及 主表面拋光步驟，對所述玻璃基板的所述主表面進行拋光， 其中所述內(nèi)周表面拋光步驟包括： 堆疊多個所述玻璃基板并將包含研磨料的拋光漿料供應(yīng)到堆疊的玻璃基板的所述內(nèi) 周側(cè)表面和所述內(nèi)周倒角部分的步驟；以及 在使周表面拋光刷旋轉(zhuǎn)的同時使所述周表面拋光刷與所述內(nèi)周側(cè)表面及所述內(nèi)周倒 角部分接觸的步驟，其中所述周表面拋光刷具有軸和植入在所述軸上的刷絲，并且當對所 述軸施加19. 6N的載荷時，所述軸具有390 μ m或更小的最大彎曲值， 在所述內(nèi)周表面拋光步驟中進行了內(nèi)周表面拋光后的所述玻璃基板的所述內(nèi)周表面 通過蝕刻溶液在所述玻璃基板的深度方向上蝕刻5 μ m時，所述內(nèi)周倒角部分的直徑10 μ m 以上的圓形狀或橢圓形狀的凹坑缺陷不足5個/mm2。2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的生產(chǎn)磁性記錄介質(zhì)用玻璃基板的方法，其中所述軸的直徑是 所述圓形孔的直徑的30%至60%。3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的生產(chǎn)磁性記錄介質(zhì)用玻璃基板的方法，其中所述軸具有 199GPa或更大的楊氏模量。4. 一種磁性記錄介質(zhì)用玻璃基板，通過權(quán)利要求1~3中任一項所述的生產(chǎn)磁性記錄 介質(zhì)用玻璃基板的方法來生產(chǎn)， 所述磁性記錄介質(zhì)用玻璃基板中，所述內(nèi)周表面通過蝕刻溶液在所述玻璃基板的深度 方向上蝕刻5 μπι時，所述內(nèi)周倒角部分的直徑10 μπι以上的圓形狀或橢圓形狀的凹坑缺陷 不足5個/mm2。
【專利摘要】本發(fā)明涉及磁性記錄介質(zhì)用玻璃基板及生產(chǎn)其的方法，拋光刷用于拋光在其中心處具有圓形孔的磁性記錄介質(zhì)用玻璃基板的內(nèi)周表面，其中周表面拋光刷包括具有植入其上的刷絲的軸，并且當對軸施加19.6N的載荷時，軸具有420μm或更小的最大彎曲值。
【IPC分類】B24B29/00, C03C15/00, B24B9/10, A46B9/08
【公開號】CN105364688
【申請?zhí)枴緾N201510641690
【發(fā)明人】鹿島出, 吉宗大介
【申請人】旭硝子株式會社
【公開日】2016年3月2日
【申請日】2012年5月25日
【公告號】CN102794685A, CN102794685B