一種新型pvd鍍膜機工件轉臺的制作方法
【技術領域】
[0001]本實用新型涉及真空鍍膜技術領域，尤其是涉及一種新型PVD鍍膜機工件轉臺。
【背景技術】
[0002]真空鍍膜機用于在真空中對工件鍍膜，真空鍍膜機包含構成于工件的加工腔體的真空室，真空室內(nèi)設置有轉架裝置，該轉架裝置可以通過驅動裝置驅動轉動，從而實現(xiàn)工件的轉動。
[0003]現(xiàn)有的PVD真空鍍膜真空室結構為原型或者多邊形。底部結構為平底。轉架一般直接安裝在真空室平底上，進行轉動。需要加工的工件安置在轉架上，被轉架帶動進行自轉和公轉。因為轉架結構是安裝在真空室平底上，轉架本身的傳動結構較復雜，所以它需要一定的高度來安裝這些傳動結構。由于被加工的工件是放置在轉架上的，所以工件的位置將比轉架更高。這樣真空室的有效空間就有部分被轉架所占用，真空室的空間不能得到有效充分利用。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]本實用新型目的是克服現(xiàn)有技術的不足，提供一種新型PVD鍍膜機工件轉臺。
[0005]為解決上述技術問題，本實用新型所采用的技術方案是:一種新型PVD鍍膜機工件轉臺，包括鍍膜機、轉盤、轉架、傳動軸、軸承座、隔熱管，其中鍍膜機底面開設有圓孔；所述傳動軸設置在該圓孔中心位置，其中轉動軸上方設有轉盤和轉架，該傳動軸下方設有軸承座；所述圓孔周邊設有隔熱管，該隔熱管為上端開口大，下端開口小的“T”型擴口管；所述隔熱管上端擴口與鍍膜機底面外側連接，該隔熱管下端開口與軸承座連接；所述隔熱管上端擴口內(nèi)部與鍍膜機底面和圓孔組成一容納凹槽，其中轉盤、轉架設置在該容納凹槽內(nèi)。
[0006]作為優(yōu)選，所述圓孔的孔徑大于轉盤的直徑。
[0007]作為優(yōu)選，所述轉盤設置在轉架下方，其中轉架上端面與鍍膜機底面內(nèi)側齊平。
[0008]作為優(yōu)選，所述容納凹槽的槽深與轉盤的高度相同。
[0009]本實用新型采用下沉結構，通過在鍍膜機底部增設容納凹槽，并將轉盤和轉架設置在容納凹槽內(nèi)，大大增加了真空鍍膜機真空室的有效空間和裝載量，使真空室的空間完全得到充分有效的使用。
【附圖說明】
[0010]圖1是本實用新型結構示意圖。
【具體實施方式】
[0011 ] 下面通過實施例，并結合附圖，對本實用新型的技術方案作進一步具體說明。
[0012]圖1是本實用新型結構示意圖。由圖1可知，一種新型PVD鍍膜機工件轉臺，主要由鍍膜機、轉盤4、轉架3、傳動軸5、軸承座7、隔熱管8等組成，其中鍍膜機底面I開設有圓孔2 ;所述傳動軸5設置在該圓孔2中心位置，其中轉動軸5上方設有轉盤4和轉架3，該傳動軸5下方設有軸承座7。圓孔2的孔徑大于轉盤4和轉架3的直徑，轉盤4設置在轉架3下方，其中轉架3上端面300與鍍膜機底面I內(nèi)側面100齊平。
[0013]圓孔2周邊設有隔熱管8，該隔熱管8為上端開口大，下端開口小的“T”型擴口管；隔熱管8上端擴口與鍍膜機底面I外側連接，該隔熱管8下端開口與軸承座7連接；隔熱管8上端擴口內(nèi)部與圓孔2組成一容納凹槽6，其中轉盤4、轉架3設置在該容納凹槽6內(nèi)，該容納凹槽6的槽深與轉盤4的高度相同。
[0014]本實用新型采用下沉結構，通過在鍍膜機底部I增設容納凹槽6，并將轉盤4和轉架3設置在容納凹槽6內(nèi)，大大增加了真空鍍膜機真空室的有效空間和裝載量，使真空室的空間完全得到充分有效的使用。
[0015]本實用新型通過上述實施例來說明本實用新型的實施方案及結構，但本專利并不局限于上述實施方式，凡采用和本實用新型相似結構來實現(xiàn)本實用新型目的的所有方式，均在本實用新型的保護范圍之內(nèi)。
【主權項】
1.一種新型PVD鍍膜機工件轉臺，包括鍍膜機、轉盤、轉架、傳動軸、軸承座、隔熱管，其中鍍膜機底面開設有圓孔；其特征是，所述傳動軸設置在該圓孔中心位置，其中轉動軸上方設有轉盤和轉架，該傳動軸下方設有軸承座；所述圓孔周邊設有隔熱管，該隔熱管為上端開口大，下端開口小的“T”型擴口管；所述隔熱管上端擴口與鍍膜機底面外側連接，該隔熱管下端開口與軸承座連接；所述隔熱管上端擴口內(nèi)部與鍍膜機底面、圓孔組成一容納凹槽，其中轉盤、轉架設置在該容納凹槽內(nèi)。
2.根據(jù)權利要求1所述的一種新型PVD鍍膜機工件轉臺，其特征是，所述圓孔的孔徑大于轉盤的直徑。
3.根據(jù)權利要求1所述的一種新型PVD鍍膜機工件轉臺，其特征是，所述轉盤設置在轉架下方，其中轉架上端面與鍍膜機底面內(nèi)側齊平。
4.根據(jù)權利要求1所述的一種新型PVD鍍膜機工件轉臺，其特征是，所述容納凹槽的槽深與轉盤的高度相同。
【專利摘要】一種新型PVD鍍膜機工件轉臺，包括鍍膜機、轉盤、轉架、傳動軸、軸承座、隔熱管，其中鍍膜機底面開設有圓孔；所述傳動軸設置在該圓孔中心位置，其中轉動軸上方設有轉盤和轉架，該傳動軸下方設有軸承座；所述圓孔周邊設有隔熱管，該隔熱管為上端開口大，下端開口小的“T”型擴口管；所述隔熱管上端擴口與鍍膜機底面外側連接，該隔熱管下端開口與軸承座連接；所述隔熱管上端擴口內(nèi)部與鍍膜機底面組成一容納凹槽，其中轉盤、轉架設置在該容納凹槽內(nèi)。本實用新型采用下沉結構，通過在鍍膜機底部增設容納凹槽，并將轉盤和轉架設置在容納凹槽內(nèi)，大大增加了真空鍍膜機真空室的有效空間和裝載量，使真空室的空間完全得到充分有效的使用。
【IPC分類】C23C14-50
【公開號】CN204281854
【申請?zhí)枴緾N201420747007
【發(fā)明人】郭濤, 蔡云鋒, 王寧, 郭勤輝, 周嶺
【申請人】深圳市萊恩頓納米技術有限公司
【公開日】2015年4月22日
【申請日】2014年12月3日