一種研磨臺面的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實用新型涉及集成電路制造技術(shù)中的半導(dǎo)體設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，更具體地說，涉及一種研磨臺面。
【背景技術(shù)】
[0002]在集成電路的生產(chǎn)過程中，化學(xué)機(jī)械研磨(CMP)是半導(dǎo)體制造工藝中重要的一環(huán)，研磨臺面則是化學(xué)機(jī)械研磨工藝中的重要設(shè)備，其主要作用是使用化學(xué)機(jī)械研磨方法對晶圓表面進(jìn)行研磨處理，以使晶圓表面整體平坦化。
[0003]然而，由于晶圓表面整體平坦化的高要求和化學(xué)機(jī)械研磨的效率偏低等問題，化學(xué)機(jī)械研磨與前后工藝流程比較，其產(chǎn)量是偏低的，造成化學(xué)機(jī)械研磨工藝影響了前后工藝的流暢性，影響了半導(dǎo)體制造工藝的效率。
[0004]在現(xiàn)有技術(shù)中，為了提高化學(xué)機(jī)械研磨工藝的效率，目前業(yè)界的先進(jìn)方法是，化學(xué)機(jī)械研磨主設(shè)備實施大型化和多研磨頭化，所以與此相對應(yīng)的研磨臺面變得更大，且研磨臺面上所使用的研磨墊的尺寸也隨之增加，目前已增大到了 42英寸乃至更大。
[0005]然而，本領(lǐng)域技術(shù)人員清楚，目前的這種增大研磨臺面的尺寸的方法，需要更多的研磨液輸送管，否則會造成研磨液在研磨臺面上的分布不均勻而導(dǎo)致晶圓表面的平坦度不能得到保證，另外，目前的研磨液輸送管都是布置在研磨平臺的上方空間內(nèi)，所以更多的研磨液輸送管會造成研磨臺面上方的空間管理變的更加復(fù)雜，進(jìn)一步影響了研磨臺面的工作效率，并會給整個流程的安排造成很大壓力。
[0006]因此，本領(lǐng)域的技術(shù)人員致力于開發(fā)一種有效的研磨臺面，以提高研磨液的輸送效率，降低化學(xué)機(jī)械研磨對整個半導(dǎo)體制造工藝的效率影響，同時要求提高研磨液供給的均勾性，提尚晶圓表面的研磨質(zhì)量。
【實用新型內(nèi)容】
[0007]有鑒于現(xiàn)有技術(shù)的上述缺陷，本實用新型的目的在于提供一種有效的研磨臺面，節(jié)省研磨臺面上方的空間，以提高化學(xué)機(jī)械研磨的工作效率，提高晶圓表面的研磨質(zhì)量。
[0008]為實現(xiàn)上述目的，本實用新型提供了一種研磨臺面，其通過在研磨臺面內(nèi)部鋪設(shè)管路及其控制模塊以供給研磨液和去離子水，并進(jìn)行排空；另外在研磨臺面的表面留有出液孔和方便研磨液流動的溝槽；該研磨臺面能方便簡捷的實現(xiàn)研磨液在研磨臺面上的均布，避免眾多的研磨液輸送管對化學(xué)機(jī)械研磨的工作效率造成影響，同時也提高研磨液的分布均勻性，提高晶圓的研磨質(zhì)量。本實用新型的技術(shù)方案如下:
[0009]—種研磨臺面，所述研磨臺面用于化學(xué)機(jī)械研磨臺中，在所述研磨臺面內(nèi)部有研磨液輸送管、研磨液回流管、進(jìn)水管、排液管和控制模塊；在所述研磨臺面表面有出液孔和溝槽；所述研磨液輸送管、所述進(jìn)水管、所述排液管與所述控制模塊連接，所述控制模塊通過連接管與所述研磨臺面表面的所述出液孔連接；所述研磨液回流管連接在所述研磨液輸送管上且靠近所述控制模塊的一端。
[0010]優(yōu)選地，所述出液孔的中心分布在以所述研磨臺面中心為圓心的不同直徑的圓周上。
[0011]優(yōu)選地，在所述研磨臺面的中心有一個所述出液孔。
[0012]優(yōu)選地，不同直徑的所述圓周上的所述出液孔的數(shù)量相同。
[0013]優(yōu)選地，所述出液孔在所述圓周上均布。
[0014]此處設(shè)計的目的在于，根據(jù)工藝需要，在化學(xué)機(jī)械研磨臺閑置時研磨液由研磨液輸送管流入，在進(jìn)入控制模塊前經(jīng)研磨液回流管流回供應(yīng)系統(tǒng)；在投入工藝生產(chǎn)時，研磨液由研磨液輸送管進(jìn)入所述控制模塊，再通過所述控制模塊控制流量流向臺面所述出液孔；所述出液孔數(shù)量在臺面中心的分布較外沿更密集，并利用研磨臺面旋轉(zhuǎn)時的離心力使研磨液更快速分布到整個臺面；工藝生產(chǎn)完成后，去離子水通過進(jìn)水管流入控制模塊，同時對控制模塊和控制模塊與臺面間的連接管路以及臺面進(jìn)行清洗；完成后多余去離子水通過排液管排入廢液系統(tǒng)；從研磨臺面的邊緣部位流出的研磨液，通過化學(xué)機(jī)械研磨臺具有的原回收裝置回流到收集槽中；出液孔在圓周方向上均布，使研磨液能均勻的分布在研磨臺面的表面，所以該設(shè)計合理利用了研磨臺面設(shè)備的內(nèi)部空間，可以簡化化學(xué)機(jī)械研磨臺的打磨模塊，并通過減少研磨液懸臂來節(jié)約空間；同時，通過研磨臺面的溝槽和出液孔使研磨液更快更均勻的分布到研磨墊表面，不但減少研磨液結(jié)晶的面積，也提高了對晶圓的研磨質(zhì)量。
[0015]優(yōu)選地，所述出液孔位于所述研磨臺面表面上的所述溝槽的底部。
[0016]優(yōu)選地，所述溝槽在所述研磨臺面的表面呈縱橫交錯的均勻分布。
[0017]優(yōu)選地，所述出液孔位于所述溝槽的縱橫交錯點處。
[0018]優(yōu)選地，所述溝槽以所述研磨臺面中心為圓心呈放射狀分布。
[0019]此處設(shè)計的目的在于，所述出液孔位于所述研磨臺面表面上的所述溝槽的底部，使研磨液和清洗液能流暢的從研磨臺面流向回流管，并能減少液體的殘留；分布于研磨臺面中間的出液孔密度大于分布在邊緣的出液孔數(shù)密度，以利用研磨臺面旋轉(zhuǎn)時的離心力使分布于研磨臺面中間的研磨液分布到整個臺面，提高研磨液的利用率；出液孔的孔徑一般為1/4英寸大小。
[0020]從上述技術(shù)方案可以看出，本實用新型的一種研磨臺面，其通過在研磨臺面內(nèi)部鋪設(shè)管路及其控制模塊以供給研磨液和去離子水，并進(jìn)行排空；另外在研磨臺面的表面留有出液孔和方便研磨液流動的溝槽；該研磨臺面能方便簡捷的實現(xiàn)研磨液在研磨臺面上的均布，避免眾多的研磨液輸送管對化學(xué)機(jī)械研磨的工作效率造成的影響，同時也提高研磨液的分布均勻性，提高晶圓的研磨質(zhì)量。
[0021]以下將結(jié)合附圖對本實用新型的構(gòu)思、具體流程及產(chǎn)生的技術(shù)效果作進(jìn)一步說明，以充分地了解本實用新型的目的、特征和效果。
【附圖說明】
[0022]圖1為本實用新型的研磨臺面主視圖；
[0023]圖2為本實用新型的研磨臺面俯視圖。
[0024]圖中，I為研磨臺面，2為研磨液輸送管，3為研磨液回流管，4為進(jìn)水管，5為排液管，6為控制模塊，7為出液孔，8為溝槽。