一種霧化噴盤的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本實(shí)用新型一種金屬粉末生產(chǎn)設(shè)備，特別是涉及一種霧化噴盤，屬于金屬粉末的 生產(chǎn)領(lǐng)域。
【背景技術(shù)】
[0002] 霧化法是現(xiàn)在最常用的金屬粉末制取方法之一。在常見(jiàn)的霧化設(shè)備中，主要是通 過(guò)噴盤控制霧化介質(zhì)的流動(dòng)和流型，以求有效的破碎液體金屬和生產(chǎn)具有所要求性能的粉 末。更具體的講，霧化設(shè)備的工作原理大致為：介質(zhì)進(jìn)入噴盤時(shí)，首先進(jìn)入噴盤空腔，然后通 過(guò)噴盤上的噴孔噴射，但現(xiàn)有霧化噴盤的空腔是簡(jiǎn)單的環(huán)形軌道，介質(zhì)的霧化壓力相對(duì)較 低，因而較難獲得較小粒徑的霧化粉末。 【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0003] 本實(shí)用新型的目的在于提供一種改良設(shè)計(jì)的霧化噴盤，其可以有效提高霧化壓 力，并減小霧化粉末的粒徑，從而克服現(xiàn)有技術(shù)中的不足。
[0004] 為實(shí)現(xiàn)前述發(fā)明目的，本實(shí)用新型采用的技術(shù)方案包括：
[0005] 一種霧化噴盤，包括盤體，所述盤體上設(shè)有一個(gè)以上介質(zhì)入口和復(fù)數(shù)個(gè)噴孔，所述 介質(zhì)入口和噴孔均與盤體內(nèi)部的空腔連通，其特征在于所述空腔具有階梯狀橫向截面結(jié) 構(gòu)。
[0006] 進(jìn)一步的，該復(fù)數(shù)個(gè)噴孔圍繞所述噴盤的中心軸線均勻?qū)ΨQ分布，且該復(fù)數(shù)個(gè)噴 孔的介質(zhì)噴射軌跡在所述噴盤的中心軸線處交匯。
[0007] 進(jìn)一步的，所述空腔為環(huán)形。
[0008] 進(jìn)一步的，該復(fù)數(shù)個(gè)噴孔的介質(zhì)噴射方向均傾斜向上或向下。
[0009] 進(jìn)一步的，所述噴盤的中心處設(shè)有柱形孔，特別是圓柱形孔。
[0010] 進(jìn)一步的，所述空腔的階梯狀結(jié)構(gòu)至少為臺(tái)階狀或梯形狀。
[0011] 進(jìn)一步的，所述空腔的階梯狀結(jié)構(gòu)分布在所述空腔靠近所述噴盤外周部一側(cè)或靠 近所述噴盤內(nèi)緣部一側(cè)。
[0012] 與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)包括：通過(guò)對(duì)噴盤的空腔結(jié)構(gòu)進(jìn)行改良設(shè)計(jì)， 即，將噴盤空腔設(shè)計(jì)為階梯結(jié)構(gòu)，可以在同等的條件下有效提高介質(zhì)的霧化壓力及減小霧 化粉末粒徑。
【附圖說(shuō)明】
[0013] 圖1是本實(shí)用新型一較佳實(shí)施方案之中一種霧化噴盤的俯視圖；
[0014] 圖2是本實(shí)用新型一實(shí)施例之中一種霧化噴盤的橫向剖視圖；
[0015] 圖3是本實(shí)用新型另一實(shí)施例之中一種霧化噴盤的橫向剖視圖；
[0016] 附圖標(biāo)記說(shuō)明：1-介質(zhì)入口、2-噴孔、3-環(huán)形空腔、4-階梯結(jié)構(gòu)、5-圓柱形孔。
【具體實(shí)施方式】
[0017] 鑒于現(xiàn)有技術(shù)的不足，即，傳統(tǒng)霧化噴盤內(nèi)部的介質(zhì)通道是簡(jiǎn)單的圓環(huán)軌道而導(dǎo) 致的介質(zhì)壓力較低等缺陷，本案發(fā)明人經(jīng)長(zhǎng)期研宄和大量實(shí)踐，得以獲得本實(shí)用新型的技 術(shù)方案，其主要是通過(guò)改變噴盤的介質(zhì)通道的形狀來(lái)改變介質(zhì)通過(guò)的截面積，進(jìn)而改變介 質(zhì)的壓力，最終改變霧化粉末的粒徑。
[0018] 下面結(jié)合附圖本實(shí)用新型的較佳實(shí)施例進(jìn)行詳細(xì)闡述，以使本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)和 特征能更易于被本領(lǐng)域技術(shù)人員理解，從而對(duì)本實(shí)用新型的保護(hù)范圍做出更為清楚明確的 界定。
[0019] 請(qǐng)參閱圖1所示，在本實(shí)用新型一較佳實(shí)施方案之中，一種霧化噴盤包括盤體，盤 體上設(shè)有一個(gè)以上介質(zhì)入口 1和若干噴孔2,噴盤上每個(gè)噴孔2沿噴盤中心軸線均勻?qū)ΨQ 分布，且介質(zhì)噴射路徑交匯于噴盤中心軸線，噴盤內(nèi)部有空腔3,介質(zhì)入口 1、噴孔2均與空 腔3連通，空腔的結(jié)構(gòu)為階梯結(jié)構(gòu)4,噴盤中心有圓柱形孔5,在霧化時(shí)，高壓介質(zhì)通過(guò)噴盤 上介質(zhì)入口 1的進(jìn)入空腔3,通過(guò)噴孔2噴射出來(lái)，金屬液流沿噴盤中心軸線通過(guò)噴盤上的 圓柱形孔5流下，在介質(zhì)的交匯處被高壓介質(zhì)沖擊，金屬被擊碎并冷卻凝固。
[0020] 其中，階梯結(jié)構(gòu)的臺(tái)階數(shù)量可以1個(gè)或更多。
[0021] 其中，階梯結(jié)構(gòu)的形狀可以是臺(tái)階狀，梯形狀等穩(wěn)定結(jié)構(gòu)。
[0022] 其中，階梯狀結(jié)構(gòu)可以是在噴盤空腔的內(nèi)側(cè)和外側(cè)，見(jiàn)圖1和圖2。
[0023] 請(qǐng)繼續(xù)參閱圖1，并請(qǐng)同時(shí)參閱圖2,在本實(shí)用新型的一實(shí)施例之中，一種霧化噴 盤的空腔是臺(tái)階結(jié)構(gòu)，噴孔數(shù)量14個(gè)，噴孔直徑I. 5mm，臺(tái)階寬度4mm，臺(tái)階高度3mm，臺(tái)階數(shù) 量2個(gè)，階梯結(jié)構(gòu)在噴盤空腔的內(nèi)側(cè)。
[0024] 該霧化噴盤使用水為介質(zhì)霧化金屬銅粉，對(duì)霧化噴盤通入高壓水介質(zhì)，然后熔化 的金屬銅液沿霧化噴盤的中心軸線流下，被噴盤射出的高壓水柱沖擊而霧化為銅粉顆粒。 將該噴盤與現(xiàn)有噴盤（空腔無(wú)階梯結(jié)構(gòu)）進(jìn)行比較，可以發(fā)現(xiàn)，在同樣的介質(zhì)流量下，兩者 的介質(zhì)壓力有明顯的區(qū)別。
【主權(quán)項(xiàng)】
1. 一種霧化噴盤，包括盤體，所述盤體上設(shè)有一個(gè)以上介質(zhì)入口（1)和復(fù)數(shù)個(gè)噴孔 (2)，所述介質(zhì)入口（1)和噴孔（2)均與盤體內(nèi)部的空腔（3)連通，其特征在于所述空腔（3) 具有階梯狀橫向截面結(jié)構(gòu)。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的霧化噴盤，其特征在于該復(fù)數(shù)個(gè)噴孔（2)圍繞所述噴盤的中 心軸線均勻?qū)ΨQ分布，且該復(fù)數(shù)個(gè)噴孔（2)的介質(zhì)噴射軌跡在所述噴盤的中心軸線處交匯。
3. 根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的霧化噴盤，其特征在于所述空腔（3)為環(huán)形。
4. 根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的霧化噴盤，其特征在于該復(fù)數(shù)個(gè)噴孔（2)的介質(zhì)噴射方 向均傾斜向上或向下。
5. 根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的霧化噴盤，其特征在于所述噴盤的中心處設(shè)有柱形孔 (5)〇
6. 根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的霧化噴盤，其特征在于所述空腔（3)的階梯狀結(jié)構(gòu)至少 為臺(tái)階狀或梯形狀。
7. 根據(jù)權(quán)利要求6所述的霧化噴盤，其特征在于所述空腔（3)的階梯狀結(jié)構(gòu)分布在所 述空腔靠近所述噴盤外周部一側(cè)或靠近所述噴盤內(nèi)緣部一側(cè)。
【專利摘要】本實(shí)用新型公開(kāi)了一種霧化噴盤，包括盤體，所述盤體上設(shè)有一個(gè)以上介質(zhì)入口（1）和復(fù)數(shù)個(gè)噴孔（2），所述介質(zhì)入口（1）和噴孔（2）均與盤體內(nèi)部的空腔（3）連通，所述空腔（3）具有階梯狀橫向截面結(jié)構(gòu)。進(jìn)一步的，該復(fù)數(shù)個(gè)噴孔（2）圍繞所述噴盤的中心軸線均勻?qū)ΨQ分布，且該復(fù)數(shù)個(gè)噴孔（2）的介質(zhì)噴射軌跡在所述噴盤的中心軸線處交匯。以及，所述空腔（3）為環(huán)形。本實(shí)用新型的霧化噴盤改變了介質(zhì)在通過(guò)霧化噴盤時(shí)的截面積，改變了介質(zhì)的壓力；改進(jìn)后的噴盤可以減小噴盤空腔的各處的截面積，在相同介質(zhì)流量時(shí)噴射出的介質(zhì)有更大的壓力，可以使霧化的粉末粒徑更細(xì)。
【IPC分類】B22F9-08
【公開(kāi)號(hào)】CN204524261
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201520204275
【發(fā)明人】莫文劍, 盛洪超, 單國(guó)強(qiáng)
【申請(qǐng)人】蘇州銅寶銳新材料有限公司
【公開(kāi)日】2015年8月5日
【申請(qǐng)日】2015年4月8日