一種用于大口徑光學(xué)基片細(xì)磨的分離器式夾持裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及一種用于大口徑光學(xué)基片細(xì)磨的單軸機(jī)配套裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]單軸機(jī)是對(duì)光學(xué)基片進(jìn)行細(xì)磨的設(shè)備?，F(xiàn)有單軸機(jī)的夾持器包括鋁板、頂塊及鐵筆接頭，其中的鋁板尺寸大于光學(xué)基片，鋁板下表面與光學(xué)基片上表面接觸，頂塊共有四個(gè)，分別固定在鋁板四條邊線中部，每個(gè)頂塊上有一個(gè)調(diào)節(jié)螺釘用于夾緊需要細(xì)磨的光學(xué)基片側(cè)面，鐵筆接頭通過螺釘固定在鋁板上表面中心用于連接單軸機(jī)擺軸鐵筆。光學(xué)基片通過夾持器放置在單軸機(jī)磨盤上進(jìn)行細(xì)磨。該夾持裝置存在的技術(shù)缺陷是:1、光學(xué)基片上表面與夾持器鋁板接觸，容易對(duì)光學(xué)基片上表面造成損傷，產(chǎn)生表面疵?。?、該夾持裝置在細(xì)磨大口徑薄形光學(xué)基片時(shí)，擺軸鐵筆和夾持器自重產(chǎn)生的壓力直接施加于光學(xué)基片上，使光學(xué)基片產(chǎn)生形變，引起光學(xué)基片下盤后面形變化嚴(yán)重，并且壓力過大容易使光學(xué)基片細(xì)磨表面產(chǎn)生劃傷。3、細(xì)磨時(shí)，光學(xué)基片在相對(duì)磨盤的位置變化小，導(dǎo)致磨盤某一環(huán)帶區(qū)域的磨損較大，在工作一段時(shí)間后需對(duì)磨盤進(jìn)行長時(shí)間的修整才能保證磨盤面形，不能連續(xù)地對(duì)大口徑光學(xué)基片進(jìn)行細(xì)磨。這些技術(shù)缺陷導(dǎo)致大口徑光學(xué)基片細(xì)磨的效率低。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]本實(shí)用新型的目的是解決上述技術(shù)缺陷，提供一種細(xì)磨效率高、細(xì)磨光學(xué)基片面形精度高、表面質(zhì)量好、下盤后面形變化小的分離器式夾持裝置。
[0004]為實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型采用的技術(shù)方案是:本實(shí)用新型提供一種用于大口徑光學(xué)基片細(xì)磨的分離器式夾持裝置，其特殊之處在于包括鐵筆接頭、十字支撐架、擋塊及鐵圈:
[0005]所述鐵筆接頭通過半球形凹槽與擺軸鐵筆連接，其中鐵筆接頭上有4個(gè)內(nèi)六角柱形沉頭孔呈90°均勻分布；
[0006]所述十字支撐架由鐵長條組裝而成，鐵長條長度大于大口徑光學(xué)基片的長邊的長度；十字支撐架上近中心處有4個(gè)螺孔，4個(gè)螺孔與鐵筆接頭上4個(gè)內(nèi)六角柱形沉頭孔配合；所述十字支撐架尾端有4個(gè)呈90°的通孔；
[0007]所述擋塊共有4個(gè)，其外形一樣，擋塊上部開有方孔，方孔尺寸大于十字支撐架的鐵長條，擋塊通過方孔扣在十字支撐架上可以移動(dòng)；擋塊一側(cè)裝有彈性墊片，用于防護(hù)光學(xué)基片在研磨過程中的硬性磕碰；在擋塊頂部有一螺孔，通過螺栓能將擋塊鎖緊在十字支撐架上適當(dāng)?shù)牡胤?。所述鐵圈上4個(gè)通孔螺孔，螺孔位置與十字支撐架通孔配合。
[0008]上述分離器式夾持裝置在磨盤直徑為1.2m的單軸機(jī)上工作時(shí)，能夾持的正方形大口徑光學(xué)基片的最大尺寸為505mmX 505mm，圓形大口徑光學(xué)基片的最大尺寸為Φ 600mm,還能有效夾持長方形大口徑光學(xué)基片。
[0009]上述分離器式夾持裝置與大口徑光學(xué)基片分離，大口徑光學(xué)基片上表面與夾持器無接觸。
[0010] 上述鐵圈內(nèi)徑為650_至750mm，外徑為800mm到850mm，高為10Omm至150_ ;所述鐵圈能對(duì)磨盤進(jìn)行均勻磨削修整，使磨盤面形保持在最佳狀態(tài)。
[0011 ] 工作時(shí)，先將鐵圈放在單軸機(jī)磨盤上，將大口徑光學(xué)基片無磕碰地放入鐵圈內(nèi)，置于單軸機(jī)磨盤上，將擋塊扣在十字支撐架上之后裝配在鐵圈上，調(diào)節(jié)擋塊到合適位置將大口徑光學(xué)基片阻擋在鐵圈中央位置，擰緊擋塊頂部螺栓，十字支撐架上安裝鐵筆接頭連接單軸機(jī)擺軸鐵筆。這時(shí)該夾持裝置能隨單軸機(jī)擺軸擺動(dòng)，并且能自轉(zhuǎn)，帶動(dòng)大口徑光學(xué)基片進(jìn)行細(xì)磨。
[0012]本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)是:大口徑光學(xué)基片與夾持器分離，這使已經(jīng)加工好的大口徑光學(xué)基片上表面得到很好的保護(hù)，減少應(yīng)因夾持不當(dāng)造成的損傷；同時(shí)大口徑光學(xué)基片與夾持器分離，使大口徑光學(xué)基片受到的壓力減小，細(xì)磨下盤后大口徑光學(xué)基片的形變小，面形變化??；另外鐵圈能對(duì)單軸機(jī)磨盤面形進(jìn)行修整，起到修整磨盤面形的作用。利用該分離器式夾持裝置對(duì)大口徑光學(xué)基片進(jìn)行細(xì)磨，能明顯提高細(xì)磨工作效率、面形精度和表面質(zhì)量。
[0013]為了使本實(shí)用新型更清晰和便于理解，下面通過附圖和實(shí)施例對(duì)其進(jìn)行進(jìn)一步闡述。
【附圖說明】
[0014]圖1是本實(shí)用新型實(shí)施例的總體結(jié)構(gòu)俯視圖。
[0015]圖2是本實(shí)用新型實(shí)施例的剖面圖。
【具體實(shí)施方式】
[0016]參看圖1及圖2。本實(shí)施示例所述的一種用于大口徑光學(xué)基片細(xì)磨的分離器式夾持裝置包括:鐵筆接頭1、十字支撐架2、擋塊3及鐵圈4。
[0017]鐵筆接頭I通過半球形凹槽101與擺軸鐵筆連接，另外鐵筆接頭I上有4個(gè)內(nèi)六角柱形沉頭孔1102呈90°均勻分布。
[0018]十字支撐架2為兩條一樣的鐵長條201加工而成，鐵長條201長度長于大口徑光學(xué)基片5的長邊；鐵長條201中間一凹槽202用于連接成十字支撐架2 ;十字支撐架2上近中心處有4個(gè)螺孔II203沿其中心呈90°均勻分布，4個(gè)螺孔II203與鐵筆接頭上4個(gè)內(nèi)六角柱形沉頭孔1102配合；十字架上邊緣處有4個(gè)通孔III204沿其中心呈90°均勻分布。
[0019]擋塊3共有4個(gè)，其外形一樣，擋塊3上部開有方孔IV301，方孔IV301尺寸大于十字支撐架2的鐵長條201，擋塊3通過方孔IV301扣在十字支撐架2上可以移動(dòng)；擋塊3 —側(cè)裝有彈性墊片302，彈性墊片采用聚四氟乙烯材料，用于防護(hù)光學(xué)基片6在研磨過程中的硬性磕碰；在擋塊3頂部有一螺孔V303，通過螺栓能將擋塊3鎖緊在十字支撐架2上適當(dāng)?shù)奈恢谩?br>[0020]鐵圈內(nèi)徑為650_至750mm，外徑為800mm到850mm，高為10Omm至150_ ；
[0021]優(yōu)選地，鐵圈4內(nèi)徑為720mm，外徑為820mm，高10mm ;鐵圈4內(nèi)能無廳碰地輕松平放下大口徑光學(xué)基片5 ;鐵圈4上4個(gè)通孔螺孔VI401，螺孔VI401位置與十字支撐架通孔III204配合。
[0022]本實(shí)施示例在磨盤直徑為1.2m的單軸機(jī)上工作時(shí)，能夾持的正方形大口徑光學(xué)基片5的最大尺寸為505mmX 505mm，能夾持圓形大口徑光學(xué)基片5的最大尺寸為Φ 600mm，同時(shí)也能夾持長方形大口徑光學(xué)基片。
[0023]本實(shí)用新型實(shí)施示例工作時(shí)，實(shí)現(xiàn)大口徑光學(xué)基片5與夾持器分離，這使已經(jīng)加工好的大口徑光學(xué)基片5上表面得到很好的保護(hù)，減少應(yīng)因夾持不當(dāng)造成的損傷；同時(shí)大口徑光學(xué)基片5與夾持器分離，使大口徑光學(xué)基片受到的壓力減小，細(xì)磨下盤后大口徑光學(xué)基片的形變小，面形變化小；另外鐵圈4能對(duì)單軸機(jī)磨盤面形進(jìn)行修整，磨盤表面得到均勻磨削而使其保持最佳工作狀態(tài)。利用該分離器式夾持裝置對(duì)大口徑光學(xué)基片5進(jìn)行細(xì)磨，能明顯提高細(xì)磨工作效率、面形精度和表面質(zhì)量。
[0024]以上僅為本實(shí)用新型之較佳實(shí)施例，但其并不限制本實(shí)用新型的實(shí)施范圍，即不偏離本實(shí)用新型的權(quán)利要求所作之等同變化與修飾，仍應(yīng)屬于本實(shí)用新型之保護(hù)范圍。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種用于大口徑光學(xué)基片細(xì)磨的分離器式夾持裝置，包括鐵筆接頭、十字支撐架、擋塊、鐵圈，其特征在于: 所述鐵筆接頭通過半球形凹槽與擺軸鐵筆連接，其中鐵筆接頭上有4個(gè)內(nèi)六角柱形呈90°的沉頭孔，并且均勻分布； 所述十字支撐架由鐵長條組裝而成，鐵長條長度大于大口徑光學(xué)基片長邊的長度；十字支撐架上近中心處有4個(gè)螺孔，4個(gè)螺孔與鐵筆接頭上4個(gè)內(nèi)六角柱形沉頭孔配合；所述十字支撐架上尾端有4個(gè)呈90°的通孔； 所述擋塊共有4個(gè)，其外形一樣，擋塊上部開有方孔，尺寸大于十字支撐架的鐵長條，擋塊通過方孔扣在十字支撐架上可以移動(dòng)；擋塊一側(cè)裝有彈性墊片，用于防護(hù)光學(xué)基片在研磨過程中的硬性磕碰；在擋塊頂部有一螺孔，通過螺栓能將擋塊鎖緊在十字支撐架上適當(dāng)?shù)牡胤剑? 所述鐵圈內(nèi)能無磕碰地平放下大口徑光學(xué)基片；所述鐵圈上4個(gè)通孔螺孔，螺孔位置與十字支撐架通孔配合。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于大口徑光學(xué)基片細(xì)磨的分離器式夾持裝置，其特征是:所述分離器式夾持裝置在磨盤直徑為1.2m的單軸機(jī)上工作時(shí)，能夾持的正方形大口徑光學(xué)基片的最大尺寸為505mmX505mm、圓形大口徑光學(xué)基片的最大尺寸為Φ600ι?πι、還能有效地夾持長方形大口徑光學(xué)基片。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于大口徑光學(xué)基片細(xì)磨的分離器式夾持裝置，其特征是:所述分離器式夾持裝置與大口徑光學(xué)基片分離，大口徑光學(xué)基片上表面與夾持器無接觸。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于大口徑光學(xué)基片細(xì)磨的分離器式夾持裝置，其特征是:其鐵圈內(nèi)徑為650mm至750mm，外徑為800mm到850mm，高為10mm至150mm ;所述鐵圈能對(duì)磨盤進(jìn)行均勻磨削修整，使磨盤面形保持在最佳狀態(tài)。
【專利摘要】本實(shí)用新型提供了一種用于大口徑光學(xué)基片細(xì)磨的分離器式夾持裝置，旨在解決現(xiàn)有技術(shù)在大口徑光學(xué)基片在細(xì)磨工序中的表面質(zhì)量損壞、下盤后面形變化較大、面形精度不高、細(xì)磨效率低的不足。該裝置包括鐵筆接頭、十字支撐架、擋塊、鐵圈四部分，其中鐵筆接頭與十字支撐架減少了夾持裝置自重對(duì)大口徑光學(xué)基片產(chǎn)生的壓力，擋塊實(shí)現(xiàn)了對(duì)光學(xué)基片的無損傷夾持，鐵圈實(shí)現(xiàn)了對(duì)細(xì)磨磨盤的面形修整，提高了細(xì)磨精度和效率。
【IPC分類】B24B13/005
【公開號(hào)】CN204700699
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201420873589
【發(fā)明人】毛衛(wèi)平
【申請(qǐng)人】東莞市蘭光光學(xué)科技有限公司
【公開日】2015年10月14日
【申請(qǐng)日】2014年12月30日