一種真空鍍膜高速恒卷繞張力設(shè)備的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及真空鍍膜裝置控制技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種真空鍍膜高速恒卷繞張力設(shè)備。
【背景技術(shù)】
[0002]隨著電容器薄膜生產(chǎn)制造工藝的不斷發(fā)展，在電容器薄膜生產(chǎn)工序中的鍍膜處理占有重要的地位。
[0003]在鍍膜處理工藝中，真空鍍膜裝置是鍍膜生產(chǎn)線中的比較常用的設(shè)備，主要是對拉膜線生產(chǎn)出的薄膜基材在真空環(huán)境下進(jìn)行鍍膜。經(jīng)過鍍膜處理后能夠使薄膜的鍍層厚度、耐壓參數(shù)、收縮率、潤濕張力、粗糙度、物理機(jī)械性能等指標(biāo)達(dá)到要求，因此，在電容器薄膜生產(chǎn)過程中，鍍膜是必不可少的工藝環(huán)節(jié)之一，對于保證電容器薄膜質(zhì)量有著非常重要的作用。
[0004]發(fā)明人在現(xiàn)實(shí)的生產(chǎn)過程中發(fā)現(xiàn)，現(xiàn)有技術(shù)中存在如下不足:
[0005]傳統(tǒng)的鍍膜裝置，薄膜基材的張力和速度控制是一個(gè)比較繁瑣的過程，通常是由人工設(shè)定并憑經(jīng)驗(yàn)在鍍膜過程中實(shí)時(shí)調(diào)整來完成，人工操作一方面加大了操作人員的勞動(dòng)強(qiáng)度，另一方面降低了工作效率和產(chǎn)品質(zhì)量。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0006]本實(shí)用新型實(shí)施例提供一種真空鍍膜高速恒卷繞張力設(shè)備，通過在傳統(tǒng)鍍膜機(jī)上增加監(jiān)測裝置和控制裝置，實(shí)現(xiàn)薄膜基材從開卷、蒸鍍、收卷完成的全自動(dòng)過程控制，用于解決現(xiàn)有技術(shù)中薄膜基材的張力和速度控制由人工設(shè)定并憑經(jīng)驗(yàn)在鍍膜過程中實(shí)時(shí)調(diào)整，造成勞動(dòng)強(qiáng)度大、鍍膜效率和產(chǎn)品質(zhì)量低的問題，實(shí)現(xiàn)了系統(tǒng)張力和速度實(shí)時(shí)控制，提高了生產(chǎn)效率和鍍膜鍍層質(zhì)量，降低了勞動(dòng)強(qiáng)度，提高了系統(tǒng)自動(dòng)化水平。
[0007]本實(shí)用新型實(shí)施例提供了一種真空鍍膜高速恒卷繞張力設(shè)備，所述設(shè)備包括:
[0008]—開卷裝置，所述開卷裝置用于開卷薄膜基材；一入口裝置，所述入口裝置與所述開卷裝置連接；一蒸鍍鼓裝置，所述蒸鍍鼓裝置與所述入口裝置連接；一蒸發(fā)器裝置，所述蒸發(fā)器裝置位于蒸鍍鼓裝置下部，用于將鍍層顆粒蒸鍍在薄膜基材表面；一出口裝置，所述出口裝置用于收卷經(jīng)過鍍膜的薄膜基材；一厚度檢測裝置，所述厚度檢測裝置設(shè)于蒸鍍鼓裝置與出口裝置之間；一張力輥裝置，所述張力輥裝置設(shè)于厚度檢測裝置與出口裝置之間；一監(jiān)測裝置，所述監(jiān)測裝置用于實(shí)時(shí)監(jiān)測所述開卷裝置、蒸鍍鼓裝置、張力輥裝置及出口裝置的運(yùn)行參數(shù)；一控制裝置，所述控制裝置通過所述監(jiān)測裝置監(jiān)測的運(yùn)行參數(shù)控制所述開卷裝置、蒸鍍鼓裝置、張力輥裝置及出口裝置協(xié)同工作。
[0009]進(jìn)一步的，所述開卷裝置包括:一開卷機(jī)，所述開卷機(jī)用于開卷所述薄膜基材；一導(dǎo)輥，所述導(dǎo)輥與所述開卷機(jī)連接；一展平輥，所述展平輥與所述導(dǎo)輥連接，用于將薄膜基材展開平鋪，便于蒸發(fā)器進(jìn)行蒸鍍。
[0010]進(jìn)一步的，所述蒸發(fā)器裝置包括:一送絲裝置，用于將鍍膜原料均勻輸送至蒸發(fā)舟內(nèi)；一蒸發(fā)舟，所述蒸發(fā)舟用于將所述送絲裝置傳送過來的鍍膜原料進(jìn)行加熱蒸發(fā)成霧狀；一蒸鍍窗口，所述蒸鍍窗口安裝于蒸鍍鼓裝置與蒸發(fā)舟之間，所述蒸鍍窗口薄膜基材的寬度和需鍍膜的厚度相適應(yīng)。
[0011 ] 進(jìn)一步的，所述厚度檢測裝置包括:一入口測量輥，所述入口測量輥將經(jīng)過鍍膜的薄膜基材傳送至方阻檢測器的檢測位置；一方阻檢測器，所述方阻檢測器用于檢測薄膜基材上鍍膜的厚度；一出口測量輥，所述出口測量輥與出口裝置連接。
[0012]進(jìn)一步的，所述出口裝置包括:一舞動(dòng)輥，所述舞動(dòng)輥容納一組緊湊型卷繞輥，舞動(dòng)輥可移動(dòng)并在鍍膜收卷過程中進(jìn)行實(shí)時(shí)調(diào)整；一收卷機(jī)，所述收卷機(jī)用于將經(jīng)過鍍膜的薄膜基材進(jìn)行收卷。
[0013]本實(shí)用新型實(shí)施例的有益效果如下:
[0014]本實(shí)用新型實(shí)施例提供一種真空鍍膜高速恒卷繞張力設(shè)備，用于解決現(xiàn)有技術(shù)中薄膜基材的張力和速度控制由人工設(shè)定并憑經(jīng)驗(yàn)在鍍膜過程中實(shí)時(shí)調(diào)整，造成勞動(dòng)強(qiáng)度大、鍍膜效率和產(chǎn)品質(zhì)量低的問題，達(dá)到系統(tǒng)張力和速度實(shí)時(shí)控制，自動(dòng)化水平高、鍍膜效率高的技術(shù)效果。
【附圖說明】
[0015]圖1為本實(shí)用新型一實(shí)施例中一種真空鍍膜高速恒卷繞張力設(shè)備的結(jié)構(gòu)示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0016]本實(shí)用新型實(shí)施例提供一種真空鍍膜高速恒卷繞張力設(shè)備和控制方法，通過在傳統(tǒng)鍍膜機(jī)上增加監(jiān)測裝置和控制裝置，實(shí)現(xiàn)薄膜基材從開卷、蒸鍍、收卷完成的全自動(dòng)過程控制，用于解決現(xiàn)有技術(shù)中薄膜基材的張力和速度控制由人工設(shè)定并憑經(jīng)驗(yàn)在鍍膜過程中實(shí)時(shí)調(diào)整，造成勞動(dòng)強(qiáng)度大、鍍膜效率和產(chǎn)品質(zhì)量低的問題，實(shí)現(xiàn)了系統(tǒng)張力和速度實(shí)時(shí)控制，提高了生產(chǎn)效率和鍍膜鍍層質(zhì)量，降低了勞動(dòng)強(qiáng)度，提高了系統(tǒng)自動(dòng)化水平。
[0017]為使本領(lǐng)域技術(shù)人員能夠更詳細(xì)了解本實(shí)用新型，以下結(jié)合附圖對本實(shí)用新型進(jìn)行詳細(xì)描述。
[0018]圖1所示為本實(shí)用新型實(shí)施例中一種真空鍍膜高速恒卷繞張力設(shè)備的結(jié)構(gòu)示意圖，該設(shè)備包括:開卷裝置1、入口裝置2、蒸鍍鼓裝置3、蒸發(fā)器裝置4、厚度檢測裝置5、張力輥裝置6及出口裝置7。
[0019]其中開卷裝置1包括開卷機(jī)11、導(dǎo)輥12及展平輥13，開卷機(jī)11用于開卷薄膜基材，導(dǎo)輥12與開卷機(jī)11連接，用于筆直引導(dǎo)穿膜并使穿膜轉(zhuǎn)向，在該引導(dǎo)過程中，從動(dòng)輥(圖中未示出)起導(dǎo)軌作用，與經(jīng)過的薄膜基材接觸并在薄膜基材的帶動(dòng)下進(jìn)行轉(zhuǎn)動(dòng)。展平輥13與導(dǎo)輥12連接，用于將薄膜基材展開平鋪，便于蒸發(fā)器進(jìn)行蒸鍍鍍層。
[0020]進(jìn)一步的，入口裝置2與開卷裝置1連接，用于接收來自開卷裝置1的薄膜基材，并保障薄膜基材在平整過程中張力穩(wěn)定。
[0021]進(jìn)一步的，蒸鍍鼓裝置3包括蒸鍍鼓311，用于驅(qū)動(dòng)來自入口裝置2的薄膜基材通過蒸發(fā)器裝置4的上部。本實(shí)施例中，蒸發(fā)器裝置4包括送絲裝置41、蒸發(fā)舟42及蒸鍍窗口 43，送絲裝置41采用單軸驅(qū)動(dòng)，用于將金屬鋁絲/鋅絲等原料均勻輸送至蒸發(fā)舟42內(nèi)，蒸發(fā)舟42用于將送絲裝置41傳送過來的金屬原料進(jìn)行加熱蒸發(fā)成金屬霧狀蒸發(fā)材料，蒸鍍窗口 43安裝在蒸鍍鼓311正下方，用于限制蒸發(fā)材料在薄膜基材上沉積的區(qū)域，蒸鍍窗口 43的形狀與大小與薄膜基材的寬度和蒸鍍厚度相匹配。
[0022]進(jìn)一步的，本實(shí)施例中的厚度檢測裝置5包括入口測量輥51、方阻檢測器52及出口測量輥53，其中方阻檢測器52位于入口測量輥51和出口測量輥53之間，入口測量輥51將經(jīng)過蒸鍍的薄膜傳送至方阻檢測器51的檢測工位，進(jìn)行鍍層厚度檢測；出口測量輥53將完成檢測的薄膜基材傳送出厚度檢測裝置。
[0023]進(jìn)一步的，出口裝置7包括舞動(dòng)輥71和收卷機(jī)72，在舞動(dòng)輥71上容納一組緊湊型卷繞輥，舞動(dòng)輥71可移動(dòng)并在鍍膜收卷過程中進(jìn)行實(shí)時(shí)調(diào)整以增加卷材的直徑；收卷機(jī)72用于將鍍膜卷材進(jìn)行收卷，并保障所述鍍膜在卷繞過程中張力恒定，收卷張力影響收卷裝置上卷材卷繞的張力。
[0024]作為本實(shí)施例最大的改進(jìn)，在厚度監(jiān)測裝置5與出口裝置之間設(shè)置了用于調(diào)節(jié)薄膜張力的張力輥裝置6，并在該結(jié)構(gòu)基礎(chǔ)上還設(shè)置了監(jiān)測裝置和控制裝置。其中監(jiān)測裝置包括用于實(shí)時(shí)監(jiān)測開卷機(jī)11、蒸鍍鼓311、張力輥裝置6及收卷機(jī)72運(yùn)行速度的速度編碼器。該監(jiān)測裝置將實(shí)時(shí)監(jiān)測參數(shù)傳輸至控制裝置，由控制裝置實(shí)時(shí)控制開卷機(jī)11、蒸鍍鼓311、張力輥裝置6及收卷機(jī)72協(xié)同工作，使鍍膜過程中薄膜的張力保持恒定。
[0025]綜上所述，本實(shí)用新型實(shí)例所提供的一種真空鍍膜高速恒卷繞張力設(shè)備，通過在傳統(tǒng)鍍膜機(jī)上增加監(jiān)測裝置和控制裝置，實(shí)現(xiàn)薄膜基材從開卷、蒸鍍、收卷完成的全自動(dòng)過程控制，用于解決現(xiàn)有技術(shù)中薄膜基材的張力和速度控制由人工設(shè)定并憑經(jīng)驗(yàn)在鍍膜過程中實(shí)時(shí)調(diào)整，造成勞動(dòng)強(qiáng)度大、鍍膜效率和產(chǎn)品質(zhì)量低的問題，實(shí)現(xiàn)了系統(tǒng)張力和速度實(shí)時(shí)控制，提高了生產(chǎn)效率和鍍膜鍍層質(zhì)量，降低了勞動(dòng)強(qiáng)度，提高了系統(tǒng)自動(dòng)化水平。
[0026]顯然，本領(lǐng)域的技術(shù)人員可以對本實(shí)用新型進(jìn)行各種改動(dòng)和變型而不脫離本實(shí)用新型的精神和范圍。這樣，倘若本實(shí)用新型的這些修改和變型屬于本實(shí)用新型權(quán)利要求及其等同技術(shù)的范圍之內(nèi)，則本實(shí)用新型也意圖包含這些改動(dòng)和變型在內(nèi)。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種真空鍍膜高速恒卷繞張力設(shè)備，包括: 一開卷裝置，所述開卷裝置用于開卷薄膜基材； 一入口裝置，所述入口裝置與所述開卷裝置連接； 一蒸鍍鼓裝置，所述蒸鍍鼓裝置與所述入口裝置連接； 一蒸發(fā)器裝置，所述蒸發(fā)器裝置位于蒸鍍鼓裝置下部，用于將鍍層顆粒蒸鍍在薄膜基材表面； 一出口裝置，所述出口裝置用于收卷經(jīng)過鍍膜的薄膜基材； 其特征在于，還包括: 一厚度檢測裝置，所述厚度檢測裝置設(shè)于蒸鍍鼓裝置與出口裝置之間； 一張力輥裝置，所述張力輥裝置設(shè)于厚度檢測裝置與出口裝置之間； 一監(jiān)測裝置，所述監(jiān)測裝置用于實(shí)時(shí)監(jiān)測所述開卷裝置、蒸鍍鼓裝置、張力輥裝置及出口裝置的運(yùn)行參數(shù)； 一控制裝置，所述控制裝置通過所述監(jiān)測裝置監(jiān)測的運(yùn)行參數(shù)控制所述開卷裝置、蒸鍍鼓裝置、張力輥裝置及出口裝置協(xié)同工作。2.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其特征在于，所述開卷裝置包括: 一開卷機(jī)，所述開卷機(jī)用于開卷所述薄膜基材； 一導(dǎo)輥，所述導(dǎo)輥與所述開卷機(jī)連接； 一展平輥，所述展平輥與所述導(dǎo)輥連接，用于將薄膜基材展開平鋪，便于蒸發(fā)器進(jìn)行蒸鍍。3.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其特征在于，所述蒸發(fā)器裝置包括: 一送絲裝置，用于將鍍膜原料均勻輸送至蒸發(fā)舟內(nèi)； 一蒸發(fā)舟，所述蒸發(fā)舟用于將所述送絲裝置傳送過來的鍍膜原料進(jìn)行加熱蒸發(fā)成霧狀； 一蒸鍍窗口，所述蒸鍍窗口安裝于蒸鍍鼓裝置與蒸發(fā)舟之間，所述蒸鍍窗口薄膜基材的寬度和需鍍膜的厚度相適應(yīng)。4.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其特征在于，所述厚度檢測裝置包括: 一入口測量輥，所述入口測量輥將經(jīng)過鍍膜的薄膜基材傳送至方阻檢測器的檢測位置； 一方阻檢測器，所述方阻檢測器用于檢測薄膜基材上鍍膜的厚度； 一出口測量輥，所述出口測量輥與出口裝置連接。5.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其特征在于，所述出口裝置包括: 一舞動(dòng)輥，所述舞動(dòng)輥容納一組緊湊型卷繞輥，舞動(dòng)輥可移動(dòng)并在鍍膜收卷過程中進(jìn)行實(shí)時(shí)調(diào)整； 一收卷機(jī)，所述收卷機(jī)用于將經(jīng)過鍍膜的薄膜基材進(jìn)行收卷。
【專利摘要】本實(shí)用新型涉及真空鍍膜裝置控制技術(shù)領(lǐng)域，具體公開了一種真空鍍膜高速恒卷繞張力設(shè)備。本實(shí)用新型通過在傳統(tǒng)鍍膜機(jī)上增加監(jiān)測裝置和控制裝置，實(shí)現(xiàn)薄膜基材從開卷、蒸鍍、收卷完成的全自動(dòng)過程控制，用于解決現(xiàn)有技術(shù)中薄膜基材的張力和速度控制由人工設(shè)定并憑經(jīng)驗(yàn)在鍍膜過程中實(shí)時(shí)調(diào)整，造成勞動(dòng)強(qiáng)度大、鍍膜效率和產(chǎn)品質(zhì)量低的問題，實(shí)現(xiàn)了系統(tǒng)張力和速度實(shí)時(shí)控制，提高了生產(chǎn)效率和鍍膜鍍層質(zhì)量，降低了勞動(dòng)強(qiáng)度，提高了系統(tǒng)自動(dòng)化水平。
【IPC分類】C23C14/56
【公開號(hào)】CN205062176
【申請?zhí)枴緾N201520852352
【發(fā)明人】廖雪超, 劉振興, 陳緒軒, 張凱, 胡威, 李峰, 沈丹丹
【申請人】武漢科技大學(xué)
【公開日】2016年3月2日
【申請日】2015年10月30日