濺射鍍膜旋轉靶材綁定的內(nèi)部加熱器的制造方法
【技術領域】
[0001]本實用新型涉及濺射鍍膜設備的靶材輔助加熱裝置結構改進技術，尤其是濺射鍍膜旋轉靶材綁定的內(nèi)部加熱器。
【背景技術】
[0002]由于電子薄膜、光學薄膜、光電薄膜、磁性薄膜和超導薄膜等在高新技術和工業(yè)上的大規(guī)模開發(fā)應用，靶材已經(jīng)逐漸發(fā)展成為一個專業(yè)化產(chǎn)業(yè)，隨著薄膜技術的不斷發(fā)展，靶材市場將進一步擴大。
[0003]濺射是制備薄膜材料的主要技術之一，它利用離子源產(chǎn)生的離子，在真空中經(jīng)過加速聚集，而形成高速度能的離子束流，轟擊固體表面，離子和固體表面原子發(fā)生動能交換，使固體表面的原子離開固體并沉積在基底表面，被轟擊的固體是用濺射法沉積薄膜的原材料，稱為濺射靶材。各種類型的濺射薄膜材料無論在半導體集成電路、記錄介質(zhì)、平面顯示以及工件表面涂層等方面都得到了廣泛的應用，因此，對濺射靶材這一具有高附加值的功能材料需求逐年增加。近年來，隨著我國電子信息產(chǎn)業(yè)飛速發(fā)展，在集成電路、光盤及顯示器等領域，中國已逐漸成為了世界上薄膜靶材的最大需求地區(qū)之一。
[0004]隨著技術的進步，靶材的設計逐漸由平面靶材向旋轉靶材過渡，因為旋轉靶材的材料利用率可以達到80%，而一般平面靶材利用率只能達到30% ;旋轉耙材在使用過程中不斷旋轉，把材表面可以保持光滑，不會產(chǎn)生“結瘤”俗稱“勒材中毒”，可以保障成膜的均勻性，減少缺陷，提高成品率。期望通過使用旋轉靶材達到降低成本、提高膜層質(zhì)量和提高成品率的目的。
[0005]部分旋轉靶材采用貼合的方法制備，把靶材分節(jié)綁定在金屬襯管上，以提高導熱性能和強度。目前旋轉靶材綁定的工藝是，把單節(jié)靶管綁定在金屬襯管上，靶管和金屬襯管之間通過低熔點的金屬焊料粘接。在綁定的過程中，需要對金屬襯管和靶管進行預熱，然后把低熔點的金屬焊料填充到靶管和金屬襯管的縫隙里。綁定的質(zhì)量直接關系到靶材濺射過程中的導熱效果，若導熱不好，金屬焊料將會熔化流出或者靶管會局部熔化或開裂。在綁定工藝過程中，靶管和襯管加熱的均勻性和穩(wěn)定性對貼合質(zhì)量具有重要的影響。
【實用新型內(nèi)容】
[0006]本實用新型的目的是提供濺射鍍膜旋轉靶材綁定的內(nèi)部加熱器，以開發(fā)一種旋轉靶材綁定的內(nèi)部加熱器，達到加熱快速均勻，而且溫度穩(wěn)定的效果。
[0007]本實用新型的目的將通過以下技術措施來實現(xiàn):包括低熔點金屬填料、加熱管、夕卜管和內(nèi)管;外管內(nèi)部安裝內(nèi)管，而且在內(nèi)管之中安裝加熱管，在外管和內(nèi)管之間有低熔點金屬填料。
[0008]尤其是，加熱管外端伸出在外管外側，而且，加熱管外端面上安裝有電源接線柱。
[0009]尤其是，在外管上安裝測溫器，測溫器的內(nèi)段伸入外管和內(nèi)管之間的低熔點金屬填料中。
[0010]尤其是，外管和內(nèi)管為等高的同軸圓管，而且，在外管和內(nèi)管的上下端面分別固定有外徑與外管相同的圓盤。
[0011]尤其是，加熱管高度不小于外管高度的1/2。
[0012]尤其是，測溫器高度不小于外管高度的1/5。
[0013]本實用新型的優(yōu)點和效果:通過加熱元件加熱低熔點金屬，而且，將低熔點金屬作為導熱介質(zhì)，同時具有加熱均勻，溫升穩(wěn)定，而且熱輻射和傳導面積大的特點，并使之進一步的實現(xiàn)對所綁定靶材進行更為優(yōu)良的加熱。加熱快速均勻，而且溫度穩(wěn)定，測溫精確，使用方便。
【附圖說明】
[0014]圖1為本實用新型實施例1內(nèi)部結構示意圖。
[0015]圖2為本實用新型實施例1外形結構示意圖。
[0016]附圖標記包括:低熔點金屬填料1、加熱管2、電源接線柱3、測溫器4、外管5、內(nèi)管6。
【具體實施方式】
[0017]本實用新型原理在于，通過加熱元件加熱低熔點金屬，而且，將低熔點金屬作為導熱介質(zhì)，同時具有加熱均勻，溫升穩(wěn)定，而且熱輻射和傳導面積大的特點，并使之進一步的實現(xiàn)對所綁定靶材進行更為優(yōu)良的加熱。
[0018]本實用新型包括:低熔點金屬填料1、加熱管2、外管5和內(nèi)管6。
[0019]下面結合附圖和實施例對本實用新型作進一步說明。
[0020]實施例1:如附圖1和2所示，外管5內(nèi)部安裝內(nèi)管6，而且在內(nèi)管6之中安裝加熱管2，在外管5和內(nèi)管6之間有低熔點金屬填料1。
[0021]前述中，加熱管2外端伸出在外管5外側，而且，加熱管2外端面上安裝有電源接線柱3。
[0022]前述中，在外管5上安裝測溫器4，測溫器4的內(nèi)段伸入外管5和內(nèi)管6之間的低熔點金屬填料1中。
[0023]前述中，外管5和內(nèi)管6為等高的同軸圓管，而且，在外管5和內(nèi)管6的上下端面分別固定有外徑與外管5相同的圓盤。
[0024]前述中，外管5外形是圓柱體，使用時可以放在金屬襯管內(nèi)部進行加熱；
[0025]前述中，外管5和內(nèi)管6為同軸鋼管。
[0026]前述中，加熱管2高度不小于外管5高度的1/2。
[0027]前述中，測溫器4高度不小于外管5高度的1/5。
[0028]本實用新型中，把直徑110-120mm的鋼管作為外管5、直徑80-90mm的鋼管作為內(nèi)管
6、以及直徑與外管5相同的圓盤底座和頂蓋焊接在一起，拼成一個密閉的雙層鋼管;然后把熔化的低熔點金屬填充在兩層鋼管的夾縫里作為低熔點金屬填料1，而且把測溫儀4固定在低熔點金屬填料1夾層里;把加熱管2固定在內(nèi)管6的中心孔內(nèi)；連接電源和溫控儀器后即可開始工作;工作原理是，通過加熱管2加熱內(nèi)管6，繼而，先把外管5和內(nèi)管6之間夾層的低熔點金屬填料1熔化，然后獲得溫度均勻的加熱體。然后再均勻而穩(wěn)定的加熱綁定的靶材。
【主權項】
1.濺射鍍膜旋轉靶材綁定的內(nèi)部加熱器，包括低熔點金屬填料(1)、加熱管(2)、外管(5)和內(nèi)管(6);其特征在于，外管(5)內(nèi)部安裝內(nèi)管(6)，而且在內(nèi)管(6)之中安裝加熱管(2)，在外管(5)和內(nèi)管(6)之間有低熔點金屬填料(1)。2.如權利要求1所述的濺射鍍膜旋轉靶材綁定的內(nèi)部加熱器，其特征在于，加熱管(2)外端伸出在外管(5)外側，而且，加熱管(2)外端面上安裝有電源接線柱(3)。3.如權利要求1所述的濺射鍍膜旋轉靶材綁定的內(nèi)部加熱器，其特征在于，在外管(5)上安裝測溫器(4)，測溫器(4)的內(nèi)段伸入外管(5)和內(nèi)管(6)之間的低熔點金屬填料(1)中。4.如權利要求1所述的濺射鍍膜旋轉靶材綁定的內(nèi)部加熱器，其特征在于，外管(5)和內(nèi)管(6)為等高的同軸圓管，而且，在外管(5)和內(nèi)管(6)的上下端面分別固定有外徑與外管(5)相同的圓盤。5.如權利要求1所述的濺射鍍膜旋轉靶材綁定的內(nèi)部加熱器，其特征在于，加熱管(2)高度不小于外管(5)高度的1/2。6.如權利要求1所述的濺射鍍膜旋轉靶材綁定的內(nèi)部加熱器，其特征在于，測溫器(4)高度不小于外管(5)高度的1/5。
【專利摘要】濺射鍍膜旋轉靶材綁定的內(nèi)部加熱器，外管(5)內(nèi)部安裝內(nèi)管(6)，而且在內(nèi)管(6)之中安裝加熱管(2)，在外管(5)和內(nèi)管(6)之間有低熔點金屬填料(1)。通過加熱元件加熱低熔點金屬，而且，將低熔點金屬作為導熱介質(zhì)，同時具有加熱均勻，溫升穩(wěn)定，而且熱輻射和傳導面積大的特點，并使之進一步的實現(xiàn)對所綁定靶材進行更為優(yōu)良的加熱。加熱快速均勻，而且溫度穩(wěn)定，測溫精確，使用方便。
【IPC分類】C23C14/34
【公開號】CN205099745
【申請?zhí)枴緾N201520876503
【發(fā)明人】曹興民, 莊志杰
【申請人】基邁克材料科技（蘇州）有限公司
【公開日】2016年3月23日
【申請日】2015年11月3日