一種hdi印制線路板蝕刻系統(tǒng)處理液循環(huán)再生裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及HDI印制線路板制造，具體涉及一種HDI印制線路板蝕刻處理液循環(huán)再生裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]HDI板(High Density Interconnect)即高密度互連板，是PCB行業(yè)在20世紀(jì)末發(fā)展起來的一門較新的技術(shù)。隨著智能手機(jī)、平板電腦等消費(fèi)類電子產(chǎn)品不斷向輕便化、小型化的趨勢(shì)發(fā)展，推動(dòng)PCB不斷向更高、更密集化布局方向發(fā)展。印制電路板蝕刻廢液是印制電路蝕刻過程中產(chǎn)生的一種銅離子含量較高、排放量較大的工業(yè)廢水，其中所含的銅離子經(jīng)分離純化處理，具有較高的經(jīng)濟(jì)價(jià)值。雖然目前蝕刻廢液仍然進(jìn)行儲(chǔ)存、轉(zhuǎn)移和回收利用。但是近年來，隨著金屬銅的價(jià)格的提高和蝕刻工藝的改善，人們對(duì)廢液中銅離子的再利用的想法也越來越迫切。特別是目前社會(huì)正處于倡導(dǎo)清潔生產(chǎn)、從源頭上實(shí)施節(jié)能減排的背景下，因此針對(duì)HDI板蝕刻廢液進(jìn)行現(xiàn)場(chǎng)再生(On Site Regenerat1n)或離線再生(OffLine Regenerat1n)將成為大勢(shì)所趨。
[0003]印刷電路板制造中采用的蝕刻液主要包括FeCl3溶液、H 202_H2S04溶液以及氨性CuCl2溶液等處理液體系；相比之下，H 202-H2S04處理液具有蝕刻速度穩(wěn)定、蝕刻均勻、污染少等優(yōu)點(diǎn)，應(yīng)用十分廣泛。H202-H2S04蝕刻液使用一定時(shí)間后效果退化，對(duì)其進(jìn)行循環(huán)再生是行業(yè)中長期存在的技術(shù)難題，傳統(tǒng)的h2o2-h2so4蝕刻液再生工藝及裝置存在的缺陷主要是:堿消耗量大，處理成本高，操作復(fù)雜，且伴生較高濃度硫酸鈉廢液的問題，構(gòu)成二次污染物。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0004]為了克服傳統(tǒng)的蝕刻處理液循環(huán)再生裝置中存在的上述缺陷，本實(shí)用新型提出一種HDI印制線路板蝕刻處理液循環(huán)再生的新型裝置，該裝置能夠有效解決傳統(tǒng)工藝及裝置中存在的堿消耗量大，處理成本高，操作復(fù)雜，且伴生較高濃度硫酸鈉廢液的缺陷，使廢蝕刻液中硫酸、銅離子的雙脫除和雙利用的目的。
[0005]本實(shí)用新型為解決上述技術(shù)問題所采用的技術(shù)方案是:一種HDI印制線路板蝕刻處理液循環(huán)再生裝置，其包括待處理蝕刻液池、擴(kuò)散滲析器、混合萃取澄清池、栗、管道、閥門；所述待處理蝕刻液池與擴(kuò)散滲析器之間通過栗、管道、閥門相連，所述擴(kuò)散滲析器可以采取2套或3套，所述混合萃取澄清池由混合室和澄清室組成。
[0006]采用上述結(jié)構(gòu)后，本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)在于:
[0007](1)蝕刻處理液中的硫酸、銅離子同時(shí)得到有效脫除和回收利用，有效控制了廢酸、銅離子所帶來的環(huán)境污染，變廢為寶；
[0008](2)蝕刻液處理操作簡便，穩(wěn)定可靠，設(shè)備維護(hù)；
[0009](3)提高了 HDI板蝕刻處理的生產(chǎn)效率，有利于降低終端產(chǎn)品的生產(chǎn)成本。
【附圖說明】
[0010]圖1所示的是本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0011]其中，1、待處理蝕刻液池；2、擴(kuò)散滲析器；3、萃取液貯池；4、混合萃取澄清槽；5、混合室；6、澄清室；7、栗；8、閥；9、流量計(jì)；10、去離子水；11、稀酸液；12、有機(jī)相；13、水相(萃余液)；14、混合相溢流管。
【具體實(shí)施方式】
[0012]如圖1所示一種HDI印制線路板蝕刻處理液循環(huán)再生裝置，其包括待處理蝕刻液池1、擴(kuò)散滲析器2、混合萃取澄清槽4、栗、管道、閥門；待處理蝕刻液池與擴(kuò)散滲析器之間通過栗、管道、閥門相連，擴(kuò)散滲析器處理后的料液通過管道與混合萃取澄清池相連，進(jìn)入銅離子溶劑萃取處理?；旌陷腿〕吻宀塾苫旌鲜液统吻迨医M成。
[0013]本實(shí)用新型的【具體實(shí)施方式】是:待處理蝕刻液中較高濃度的硫酸通過擴(kuò)散滲析器處理，脫除其中所含的硫酸。擴(kuò)散滲析器采取2套聯(lián)用。經(jīng)過脫酸處理后的料液通過管道進(jìn)入混合萃取澄清槽，萃取劑通過管道與混合室相連，通過攪拌機(jī)構(gòu)的充分混合，將處理液中的銅離子有效地轉(zhuǎn)入有機(jī)相，殘余水相中銅離子的濃度降到很低的水平；混合室中處理后的料液通過混合相溢流管進(jìn)入澄清室，進(jìn)行分相，有機(jī)相通過反萃取處理，獲得銅離子濃度較高的溶液，供銅資源回收利用；水相通過管道匯總至處理后總液池。擴(kuò)散滲析器中所得的稀酸液也通過管道匯總至處理后總液池，供配制新蝕刻液循環(huán)使用。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種HDI印制線路板蝕刻處理液循環(huán)再生裝置，其包括待處理蝕刻液池、擴(kuò)散滲析器、混合萃取澄清池、栗、管道、閥門；其特征在于，所述待處理蝕刻液池與擴(kuò)散滲析器之間通過栗、管道、閥門相連，所述混合萃取澄清池有混合室和澄清室組成，并且所述擴(kuò)散滲析器可以采取2套或3套。
【專利摘要】本實(shí)用新型公開了一種HDI印制線路板蝕刻系統(tǒng)處理液循環(huán)再生裝置，其包括待處理蝕刻液池、擴(kuò)散滲析器、混合澄清池、泵、管道、閥門；所述待處理蝕刻液池與擴(kuò)散滲析器之間通過泵、管道、閥門相連，所述擴(kuò)散滲析器可以采取2套或3套；本實(shí)用新型可使蝕刻處理液中的硫酸、銅離子同時(shí)得到有效脫除和回收利用，有效控制了廢酸、銅離子所帶來的環(huán)境污染，變廢為寶；可使蝕刻液處理操作簡便，穩(wěn)定可靠，設(shè)備維護(hù)；并且提高了HDI板蝕刻處理的生產(chǎn)效率，有利于降低終端產(chǎn)品的生產(chǎn)成本。
【IPC分類】C23F1/46
【公開號(hào)】CN205152338
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201420650451
【發(fā)明人】詹有根, 零上銳, 徐軍洪
【申請(qǐng)人】臨安振有電子有限公司
【公開日】2016年4月13日
【申請(qǐng)日】2014年11月3日