專利名稱：一種基于鍍金處理的多晶硅還原爐的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及還原爐，具體為一種基于鍍金處理的多晶硅還原爐。
背景技術(shù)：
我國多晶硅領(lǐng)域的還原爐是電耗非常高的設(shè)備，目前的節(jié)能方法大多集中在使用新型進(jìn)口設(shè)備上，這會造成多晶硅企業(yè)設(shè)備改造成本大大增加、長效節(jié)能難以穩(wěn)定的隱患。

實用新型內(nèi)容本實用新型所解決的技術(shù)問題在于提供一種基于鍍金處理的多晶硅還原爐，以解決上述背景技術(shù)中的缺點。本實用新型所解決的技術(shù)問題采用以下技術(shù)方案來實現(xiàn)一種基于鍍金處理的多晶硅還原爐，包括爐體，所述爐體上設(shè)置內(nèi)筒，內(nèi)筒采用 316L鋼，其區(qū)別于傳統(tǒng)還原爐的顯著特征在于，在內(nèi)筒內(nèi)壁有鍍金膜。本實用新型中，所述鍍金膜的厚度為l_5Mffl，最佳厚度為5Mm。本實用新型運用鍍金處理技術(shù)，可長期耐高溫及高溫腐蝕，具有耐酸堿的腐蝕、反射率穩(wěn)定、粘結(jié)牢固等特點，大大提高了還原爐爐內(nèi)反射高溫紅外線的能力，從而使硅迅速在爐內(nèi)中心硅棒上沉積。有益效果本實用新型運用了鍍金處理技術(shù)，節(jié)能效果好，性能穩(wěn)定，可以延長還原爐使用壽命和提高熱效率，具有節(jié)能環(huán)保的功效。

圖1為本實用新型一種具體實施例的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實施方式
為了使本實用新型實現(xiàn)的技術(shù)手段、創(chuàng)作特征、達(dá)成目的與功效易于明白了解，下面結(jié)合具體圖示，進(jìn)一步闡述本實用新型。本實施例選用多晶硅還原爐對本實用新型進(jìn)行闡述，參見圖1，一種基于鍍金處理的多晶硅還原爐，包括爐體1，所述爐體1上設(shè)置爐膛2，爐壁3采用316L鋼，其區(qū)別于傳統(tǒng)還原爐的顯著特征在于，在爐膛內(nèi)壁3的表面進(jìn)行鍍金處理。本實用新型中，所述鍍金膜的厚度為l-5Mm，最佳厚度為5Mm。以上顯示和描述了本實用新型的基本原理和主要特征和本實用新型的優(yōu)點。本行業(yè)的技術(shù)人員應(yīng)該了解，本實用新型不受上述實施例的限制，上述實施例和說明書中描述的只是說明本實用新型的原理，在不脫離本實用新型精神和范圍的前提下，本實用新型還會有各種變化和改進(jìn)，這些變化和改進(jìn)都落入要求保護(hù)的本實用新型范圍內(nèi)。本實用新型要求保護(hù)范圍由所附的權(quán)利要求書及其等效物界定。
權(quán)利要求1.一種基于鍍金處理的多晶硅還原爐，包括爐體內(nèi)筒，爐體內(nèi)筒通常采用316L鋼，其特征在于，在爐膛內(nèi)壁有鍍金膜。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種基于鍍金處理的多晶硅還原爐，其特征在于，鍍金膜的厚度為l-5Mm。
專利摘要一種基于鍍金處理的多晶硅還原爐，包括爐體內(nèi)筒，爐體內(nèi)筒通常采用316L鋼，爐膛壁的316L鋼會粘附硅粉及氧化，其特征在于，在爐膛內(nèi)壁進(jìn)行鍍金處理。本實用新型運用的技術(shù)，節(jié)能效果好，性能穩(wěn)定，可以延長還原爐使用壽命和提高熱效率，具有節(jié)能環(huán)保的功效。
文檔編號C01B33/021GK202089778SQ201120157689
公開日2011年12月28日 申請日期2011年5月18日 優(yōu)先權(quán)日2011年5月18日
發(fā)明者唐安東, 姚光明, 易保華, 楊雷, 柏玉春, 熊珍玉, 田新, 辛湘杰 申請人:長沙科星納米工程技術(shù)有限公司