一種用于多晶硅還原爐的清洗裝置的制造方法
【專利摘要】本實(shí)用新型公開了一種用于多晶硅還原爐的清洗裝置，包括底座、驅(qū)動電機(jī)、液壓伸縮桿、轉(zhuǎn)盤、中心柱、清洗刷和彈簧，驅(qū)動電機(jī)設(shè)于所述底座上，所述液壓伸縮桿豎直連接于所述驅(qū)動電機(jī)上方，所述驅(qū)動電機(jī)可驅(qū)動所述液壓伸縮桿旋轉(zhuǎn)，所述轉(zhuǎn)盤水平套設(shè)于所述中心柱上并與所述中心柱固定連接，所述中心柱固定于所述液壓伸縮桿的頂端，所述轉(zhuǎn)盤的上表面和下表面均設(shè)有滑槽，所述滑槽內(nèi)均可滑動的設(shè)置有所述清洗刷，所述清洗刷通過所述彈簧與所述中心柱連接。本實(shí)用新型所述的清洗裝置可提高清洗效果和清洗效率。
【專利說明】
一種用于多晶硅還原爐的清洗裝置
技術(shù)領(lǐng)域
[0001]本實(shí)用新型涉及多晶硅還原爐清洗設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及一種用于多晶硅還原爐的清洗裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]多晶硅，是單質(zhì)硅的一種形態(tài)，是極為重要的優(yōu)良半導(dǎo)體材料。多晶硅是電子工業(yè)中廣泛用于制造半導(dǎo)體收音機(jī)、錄音機(jī)、電冰箱、彩電、錄像機(jī)、電子計算機(jī)等的基礎(chǔ)材料，多晶硅生產(chǎn)主要是采用改良西門子法，改良西門子法生產(chǎn)多晶硅的反應(yīng)器主要采用多晶硅還原爐，該方法是將多晶硅還原爐內(nèi)安裝沉積載體通電發(fā)熱，在多晶硅還原爐內(nèi)將高純度氯硅烷與氫氣的混合氣體加熱到1000 °c以上發(fā)生反應(yīng)生成硅，硅沉積在上述沉積載體上的過程，伴隨著多晶硅生產(chǎn)，多晶硅還原爐內(nèi)表面會被高溫混合氣燒黑，同時也會在多晶硅還原爐內(nèi)表面上沉積一定厚度的多晶硅和副產(chǎn)物，多晶硅生產(chǎn)過程中，多晶硅還原爐內(nèi)表面要求潔凈、光滑，最好呈鏡面。而多晶硅還原爐內(nèi)表面發(fā)黑并沉積多晶硅、無定型硅、高硅氯聚物，多晶硅還原爐內(nèi)表面粗糙不平等因素會造成多晶硅還原爐內(nèi)熱場分布不均勻、無反射，從而引起多晶硅生產(chǎn)成本的上升，生產(chǎn)效率的下降，因此，對還原爐內(nèi)的清洗十分重要。
[0003]目前，一般使用的爐筒清洗方法是通過噴淋裝置，使用熱堿液及脫鹽水對爐筒內(nèi)壁進(jìn)行噴淋清洗，之后再用白布蘸取無水乙醇將爐筒內(nèi)壁及底部接觸面擦洗干凈，最后在爐筒內(nèi)架梯或平臺，作業(yè)人員人工手持氮?dú)廛浌?，進(jìn)入爐筒內(nèi)再將爐筒徹底吹干，但這樣的清洗方式，效率較低，且難以保證清洗效果。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0004]有鑒于此，本實(shí)用新型提供一種用于多晶硅還原爐的清洗裝置，可提高清洗效果和清洗效率。
[0005]本實(shí)用新型通過以下技術(shù)手段解決上述問題:
[0006]本實(shí)用新型提供的用于多晶硅還原爐的清洗裝置，包括底座、驅(qū)動電機(jī)、液壓伸縮桿、轉(zhuǎn)盤、中心柱、清洗刷和彈簧，驅(qū)動電機(jī)設(shè)于所述底座上，所述液壓伸縮桿豎直連接于所述驅(qū)動電機(jī)上方，所述驅(qū)動電機(jī)可驅(qū)動所述液壓伸縮桿旋轉(zhuǎn)，所述轉(zhuǎn)盤水平套設(shè)于所述中心柱上并與所述中心柱固定連接，所述中心柱固定于所述液壓伸縮桿的頂端，所述轉(zhuǎn)盤的上表面和下表面均設(shè)有滑槽，所述滑槽內(nèi)均可滑動的設(shè)置有所述清洗刷，所述清洗刷通過所述彈簧與所述中心柱連接。
[0007]進(jìn)一步，所述清洗刷包括刷柄和刷頭，所述刷頭卡合于所述刷柄的端部，所述刷柄滑動連接于所述滑槽內(nèi)，且所述刷柄通過所述彈簧與所述中心柱連接，所述刷頭用于擦洗容器內(nèi)壁。
[0008]進(jìn)一步，所述轉(zhuǎn)盤的上表面和下表面均設(shè)有多個滑槽，各個所述滑槽內(nèi)均可滑動的設(shè)置有所述清洗刷，各個所述清洗刷的刷柄均通過所述彈簧與所述中心柱連接。
[0009]進(jìn)一步，所述中心柱沿周向設(shè)有環(huán)形槽，所述轉(zhuǎn)盤卡合于所述環(huán)形槽內(nèi)。
[0010]進(jìn)一步，所述底座底面設(shè)有防滑墊。
[0011]本實(shí)用新型所述的清洗裝置，在使用時，可將待清洗的還原爐吊至所述清洗裝置的上方，通過所述液壓伸縮桿可實(shí)現(xiàn)所述轉(zhuǎn)盤的升降，同時將所述清洗刷向所述中心柱按壓，使所述彈簧處于壓縮狀態(tài)，此時，可將所述清洗刷伸入所述還原爐，再釋放所述清洗刷，所述彈簧回彈，通過所述彈簧使所述清洗刷頂緊所述還原爐的內(nèi)壁，利用所述驅(qū)動電機(jī)可帶動所述轉(zhuǎn)盤轉(zhuǎn)動，從而使所述清洗刷相對所述還原爐內(nèi)壁轉(zhuǎn)動，從而可自動進(jìn)行擦洗，即使在所述還原爐的內(nèi)壁不光滑時，也可通過所述彈簧保證所述清洗刷始終緊貼所述還原爐的內(nèi)壁，保證清洗效果，同時，由于所述轉(zhuǎn)盤的上表面和下表面均設(shè)有所述清洗刷，從而可擴(kuò)大清洗面，有利于提高清洗效率。由此，可提高清洗效果和清洗效率。
【附圖說明】
[0012]下面結(jié)合附圖和實(shí)施例對本實(shí)用新型作進(jìn)一步描述。
[0013]圖1為本實(shí)用新型的用于多晶硅還原爐的清洗裝置的示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0014]在本實(shí)用新型的描述中，需要理解的是，術(shù)語“中心”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“豎直”、“水平”、“頂”、“底”、“內(nèi)”、“外”等指示的方位或位置關(guān)系為基于附圖所示的方位或位置關(guān)系，僅是為了便于描述本實(shí)用新型和簡化描述，而不是指示或暗示所指的裝置或元件必須具有特定的方位、以特定的方位構(gòu)造和操作，因此不能理解為對本實(shí)用新型的限制。在本實(shí)用新型的描述中，除非另有說明，“多個”的含義是兩個或兩個以上。
[0015]以下將結(jié)合附圖對本實(shí)用新型進(jìn)行詳細(xì)說明，如圖1所示:本實(shí)施例所述的用于多晶硅還原爐的清洗裝置，包括底座1、驅(qū)動電機(jī)2、液壓伸縮桿3、轉(zhuǎn)盤4、中心柱5、清洗刷6和彈簧7，驅(qū)動電機(jī)2設(shè)于所述底座I上，所述液壓伸縮桿3豎直連接于所述驅(qū)動電機(jī)2上方，所述驅(qū)動電機(jī)2可驅(qū)動所述液壓伸縮桿3旋轉(zhuǎn)，所述轉(zhuǎn)盤4水平套設(shè)于所述中心柱5上并與所述中心柱5固定連接，所述中心柱5固定于所述液壓伸縮桿3的頂端，所述轉(zhuǎn)盤4的上表面和下表面均設(shè)有滑槽，所述滑槽內(nèi)均可滑動的設(shè)置有所述清洗刷6，所述清洗刷6通過所述彈簧7與所述中心柱5連接。
[0016]本實(shí)施例所述的清洗裝置，在使用時，可將待清洗的還原爐吊至所述清洗裝置的上方，通過所述液壓伸縮桿3可實(shí)現(xiàn)所述轉(zhuǎn)盤4的升降，同時將所述清洗刷6向所述中心柱5按壓，使所述彈簧7處于壓縮狀態(tài)，此時，可將所述清洗刷6伸入所述還原爐，再釋放所述清洗刷6，所述彈簧7回彈，通過所述彈簧7使所述清洗刷6頂緊所述還原爐的內(nèi)壁，利用所述驅(qū)動電機(jī)2可帶動所述轉(zhuǎn)盤4轉(zhuǎn)動，從而使所述清洗刷6相對所述還原爐內(nèi)壁轉(zhuǎn)動，從而可自動進(jìn)行擦洗，即使在所述還原爐的內(nèi)壁不光滑時，也可通過所述彈簧7保證所述清洗刷6始終緊貼所述還原爐的內(nèi)壁，保證清洗效果，同時，由于所述轉(zhuǎn)盤4的上表面和下表面均設(shè)有所述清洗刷6，從而可擴(kuò)大清洗面，有利于提尚清洗效率。由此，可提尚清洗效果和清洗效率。
[0017]作為上述技術(shù)方案的進(jìn)一步改進(jìn)，所述清洗刷6包括刷柄61和刷頭62，所述刷頭62卡合于所述刷柄61的端部，所述刷柄61滑動連接于所述滑槽內(nèi)，且所述刷柄61通過所述彈簧7與所述中心柱5連接，所述刷頭62用于擦洗容器內(nèi)壁，方便更換刷頭62。
[0018]作為上述技術(shù)方案的進(jìn)一步改進(jìn)，所述轉(zhuǎn)盤4的上表面和下表面均設(shè)有多個滑槽(圖中未示出)，各個所述滑槽內(nèi)均可滑動的設(shè)置有所述清洗刷6，各個所述清洗刷6的刷柄61均通過所述彈簧7與所述中心柱5連接，從而保證所述清洗刷6不會偏斜和脫落。
[0019]作為上述技術(shù)方案的進(jìn)一步改進(jìn)，所述中心柱5沿周向設(shè)有環(huán)形槽，所述轉(zhuǎn)盤4卡合于所述環(huán)形槽內(nèi)，方便安裝和拆卸。
[0020]作為上述技術(shù)方案的進(jìn)一步改進(jìn)，所述底座I底面設(shè)有防滑墊8，防止所述底座I轉(zhuǎn)動，也可起到緩沖的作用。
[0021 ]具體的，所述防滑墊8的可采用橡膠材質(zhì)。
[0022]作為上述技術(shù)方案的進(jìn)一步改進(jìn)，可在所述底座I上設(shè)有配重塊(圖中未示出)，從而使底座I更加穩(wěn)固，不易晃動，也可防止因所述清洗刷6與容器內(nèi)壁的摩擦力過大而使底座I轉(zhuǎn)動。
[0023]最后說明的是，以上實(shí)施例僅用以說明本實(shí)用新型的技術(shù)方案而非限制，盡管參照較佳實(shí)施例對本實(shí)用新型進(jìn)行了詳細(xì)說明，本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)理解，可以對本實(shí)用新型的技術(shù)方案進(jìn)行修改或者等同替換，而不脫離本實(shí)用新型技術(shù)方案的宗旨和范圍，其均應(yīng)涵蓋在本實(shí)用新型的權(quán)利要求范圍當(dāng)中。
【主權(quán)項】
1.一種用于多晶硅還原爐的清洗裝置，其特征在于:包括底座(I)、驅(qū)動電機(jī)(2)、液壓伸縮桿(3)、轉(zhuǎn)盤(4)、中心柱(5)、清洗刷(6)和彈簧(7)，驅(qū)動電機(jī)(2)設(shè)于所述底座(I)上，所述液壓伸縮桿(3)豎直連接于所述驅(qū)動電機(jī)(2)上方，所述驅(qū)動電機(jī)(2)可驅(qū)動所述液壓伸縮桿(3)旋轉(zhuǎn)，所述轉(zhuǎn)盤(4)水平套設(shè)于所述中心柱(5)上并與所述中心柱(5)固定連接，所述中心柱(5)固定于所述液壓伸縮桿(3)的頂端，所述轉(zhuǎn)盤(4)的上表面和下表面均設(shè)有滑槽，所述滑槽內(nèi)均可滑動的設(shè)置有所述清洗刷(6)，所述清洗刷(6)通過所述彈簧(7)與所述中心柱(5)連接。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的清洗裝置，其特征在于:所述清洗刷(6)包括刷柄(61)和刷頭(62)，所述刷頭(62)卡合于所述刷柄(61)的端部，所述刷柄(61)滑動連接于所述滑槽內(nèi)，且所述刷柄(61)通過所述彈簧(7)與所述中心柱(5)連接，所述刷頭(62)用于擦洗容器內(nèi)壁。3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的清洗裝置，其特征在于:所述轉(zhuǎn)盤(4)的上表面和下表面均設(shè)有多個滑槽，各個所述滑槽內(nèi)均可滑動的設(shè)置有所述清洗刷(6)，各個所述清洗刷(6)的刷柄(61)均通過所述彈簧(7)與所述中心柱(5)連接。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的清洗裝置，其特征在于:所述中心柱(5)沿周向設(shè)有環(huán)形槽，所述轉(zhuǎn)盤(4)卡合于所述環(huán)形槽內(nèi)。5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的清洗裝置，其特征在于:所述底座(I)底面設(shè)有防滑墊(8)。
【文檔編號】B08B9/36GK205628841SQ201620365235
【公開日】2016年10月12日
【申請日】2016年4月27日
【發(fā)明人】王倩, 何勁松, 時鵬飛, 杜爭虎, 梁濤, 楊春艷, 童穎娟
【申請人】西安航新石化設(shè)備有限責(zé)任公司