技術總結
已知的雙層的層系統(tǒng)包括背向觀察者的光學吸收的金屬層和面向觀察者的覆蓋層。用作吸收劑層的覆蓋層相對較厚并且表現出盡可能高的吸收系數。為了盡可能簡單地設計該層系統(tǒng)的制造過程，并且給出在向濺射氣氛中并未添加或很少添加反應氣體的情況下進行的濺射沉積方法，本發(fā)明提出，該覆蓋層成型為光學部分吸收層，該層在550nm的波長下具有小于0.7的吸收系數kappa和在30至55nm范圍內的厚度。

技術研發(fā)人員：馬丁·施洛特;阿爾伯特·卡斯特納;馬庫斯·舒爾特海斯;詹斯·瓦格納
受保護的技術使用者：賀利氏德國有限及兩合公司
文檔號碼：201580044608
技術研發(fā)日：2015.05.18
技術公布日：2017.05.10