1.一種鎂質(zhì)瓷釉料配方，其特征在于，主要由以下質(zhì)量百分比例的原料制備而成，總和100wt％：40wt％-60wt％熔塊，10wt％-20wt％長(zhǎng)石，4wt％-10wt％方解石，5wt％-10wt％高嶺土，15wt％-25wt％石英。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的鎂質(zhì)瓷釉料配方，其特征在于，所述鎂質(zhì)瓷釉料配方中熔塊包含如下成分及質(zhì)量百分比：50wt％-70wt％SiO2，4wt％-8wt％Al2O3，0.01wt％-0.1wt％Fe2O3，10wt％-16wt％CaO，1wt％-5wt％MgO，3wt％-6wt％K2O，0.1wt％-1.0wt％Na2O，5wt％-10wt％Zn，0wt％-1wt％ZrO2或HfO2， 0wt％-1.0wt％SrO，0.1wt％-1.0wt％Li2O。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的鎂質(zhì)瓷釉料配方，其特征在于，所述鎂質(zhì)瓷釉料配方中的化學(xué)組成為：60wt％-70wt％SiO2，6wt％-12wt％Al2O3，0.1wt％-0.2wt％Fe2O3，6wt％-12wt％CaO，0.1wt％-2wt％MgO，3wt％-6wt％K2O，0.1wt％-1wt％Na2O，2wt％-6wt％ZnO，0wt％-1wt％ZrO2或HfO2，0wt％-1.0wt％SrO，0.1wt％-1.0wt％Li2O。
4.一種鎂質(zhì)瓷釉料制備方法，其特征在于，包括以下步驟：
S1：鎂質(zhì)瓷釉料用熔塊的制備：稱取如下質(zhì)量百分比的成分：25 wt %~35 wt %的石英粉、30 wt %~40 wt %的鉀長(zhǎng)石粉、5 wt ~10 wt %的氧化鋅ZnO、20 wt ~30 wt %的碳酸鈣CaCO3，3 wt %~8 wt %煅燒滑石粉，0wt％-1wt％氧化鋯ZrO2或者氧化鉿HfO2，0wt％-1.0wt％碳酸鍶SrCO3，0.1wt％-1.0wt％鋰輝石，混合均勻后，在1300~1400℃熔化，放入冷水中水淬制成大熔塊；將大熔塊裝入球磨機(jī)中磨細(xì)后，脫水、烘干、粉碎、過(guò)篩，制得熔塊；
S2：按如下質(zhì)量百分比配制鎂質(zhì)瓷釉料100wt％：40wt％-60wt％熔塊，10wt％-20wt％長(zhǎng)石，4wt％-10wt％方解石，5wt％-10wt％高嶺土，15wt％-25wt％石英；
S3：將S2步驟所得的混合料一起在球磨機(jī)中濕法球磨至規(guī)定的細(xì)度后，釉料放漿、除鐵、過(guò)篩、調(diào)整比重、流速備用；
S4：所得釉料采用手工、噴釉或機(jī)器淋釉方法將釉料均勻的覆蓋在已低溫素?zé)^(guò)的坯體表面；
S5燒結(jié)噴繪：將步驟S4得到的坯料高溫釉燒、裝飾彩繪，得到所述鎂質(zhì)瓷。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的鎂質(zhì)瓷釉料制備方法，其特征在于，所述步驟S3包括以下步驟：
釉料球磨時(shí)間為28－34小時(shí)，顆粒分布控制為：累積重量≤2um:8-15%；≤30um:100%。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的鎂質(zhì)瓷釉料制備方法，其特征在于，所述步驟S4包括以下步驟：
用噴霧干燥的合格料，采用等靜壓的成型方式成型，并用等靜壓成型設(shè)備自動(dòng)磨邊修坯制得鎂質(zhì)瓷精坯。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的鎂質(zhì)瓷釉料制備方法，其特征在于，所述步驟S4中的低溫素?zé)ㄒ韵虏襟E：
將合格等靜壓成型精坯裝入輥道窯，進(jìn)行900－1000℃、周期8-11h的低溫素?zé)破方?jīng)檢選備用。
8.根據(jù)權(quán)利要求4所述的鎂質(zhì)瓷釉料制備方法，其特征在于，所述步驟S4中的上釉包括以下步驟：
將已磨制好的鎂質(zhì)瓷釉料采用手工上釉、噴釉或全自動(dòng)機(jī)器淋釉方法將釉料均勻的覆蓋在已素好的坯體表面。
9.根據(jù)權(quán)利要求4所述的鎂質(zhì)瓷釉料制備方法，其特征在于，所述步驟S5中的高溫釉燒包括以下步驟：
將手工上釉、噴釉或機(jī)器淋釉的鎂質(zhì)瓷坯在1280±10℃，燒成周期8－11小時(shí)，高溫保溫1－2小時(shí)條件下釉燒，即制得鎂質(zhì)瓷產(chǎn)品。