本發(fā)明涉及無機(jī)非金屬材料領(lǐng)域，尤其涉及一種衛(wèi)生陶瓷修補(bǔ)料及修補(bǔ)方法。
背景技術(shù)：
在衛(wèi)生陶瓷的生產(chǎn)中，由于其外形復(fù)雜、體積大，且制作工藝復(fù)雜、工序繁多，所制得的瓷件不同程度地存在各種缺陷。如衛(wèi)生陶瓷泥料的粒徑、泥漿的陳腐時間、注漿壓力、半成品干燥條件及運(yùn)輸過程的磕碰等原因均可能引起坯體裂紋、坯泡等坯體缺陷，坯釉原料中的雜質(zhì)、坯釉膨脹系數(shù)不當(dāng)、噴釉厚度、濃度及粘度、燒窯過程中的窯臟、風(fēng)臟等問題會引起釉裂、缺釉、釉臟等釉面缺陷。這些坯釉面缺陷影響了陶瓷制品的合格率，如果對一些冷修補(bǔ)不能有效修復(fù)且不影響使用的超國家標(biāo)準(zhǔn)的產(chǎn)品缺陷進(jìn)行復(fù)燒修補(bǔ)，既可以提高制品合格率，又可以縮短生產(chǎn)周期，降低生產(chǎn)成本。
國內(nèi)衛(wèi)生陶瓷廠家很多以生產(chǎn)中、低檔產(chǎn)品為主，綜合考慮生產(chǎn)成本、產(chǎn)品技術(shù)含量、銷售價格等因素，很少采用對缺陷產(chǎn)品進(jìn)行修補(bǔ)復(fù)燒的方法來提高制品的合格率，隨著人們生活水平的提高，對中、高檔高附加值的衛(wèi)生陶瓷需求不斷提高，而產(chǎn)品的坯釉缺陷，影響了產(chǎn)品質(zhì)量的檔次及企業(yè)收益，嚴(yán)重影響制品的使用壽命，目前所用原料及修補(bǔ)方法易造成衛(wèi)生陶瓷有明顯色差、修補(bǔ)痕跡。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：
本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題是提供一種衛(wèi)生陶瓷修補(bǔ)料及修補(bǔ)方法，修補(bǔ)后的衛(wèi)生陶瓷制備的吸水率合格，抗龜裂試驗(yàn)無裂紋，無明顯色差與痕跡，其修補(bǔ)方法簡單，易操作。
本發(fā)明解決上述技術(shù)問題的技術(shù)方案如下：
一種衛(wèi)生陶瓷修補(bǔ)料，包括修補(bǔ)坯料、修補(bǔ)面釉料與修補(bǔ)底釉料，
所述修補(bǔ)坯料包括如下重量份原料：紅柱石粉50～60份，殘瓷粉20～25份，白釉粉15～20份，硅酸鋯5～10份；
所述修補(bǔ)面釉料與所述修補(bǔ)底釉料均是在一次燒成釉料的基礎(chǔ)上制備；
所述一次燒成釉料包括如下重量份原料：鉀長石24～27份，石英32～35份，方解石14～16份，白云石5～6份，鋯英粉9～11份，熔塊4～6份，氧化鋁2～3份，氧化鋅2～3份，蘇州土4～5份，鋯鐵紅0.01～0.03份，譜黃0.005～0.015份，纖維素0.1～0.2份。
進(jìn)一步，所述修補(bǔ)坯料通過按配比稱取修補(bǔ)坯料原料加入球磨機(jī)內(nèi)進(jìn)行濕法球磨，研磨后過200目篩后，用甘油調(diào)成膏體狀，得到修補(bǔ)坯料；
其中所述修補(bǔ)坯料與甘油重量比為8:(1～1.2)。
進(jìn)一步，所述修補(bǔ)面釉料組成和重量百分比含量為：一次燒成釉料85～90％，熔塊10～15％；
所述修補(bǔ)面釉料組成按配比稱取加入球磨機(jī)中，濕法球磨10～15h，釉漿比重控制在1.60～1.70g/cm3，釉漿細(xì)度為325目篩余量為2～4％，得到修補(bǔ)面釉料。
進(jìn)一步，所述修補(bǔ)底釉料組成和重量百分比含量為：一次燒成釉料50～60％，修補(bǔ)面釉料40～50％；
所述修補(bǔ)底釉料通過按配比稱取修補(bǔ)底釉料原料，將其混合均勻并烘干，烘干后過200目篩，用甘油調(diào)成膏體狀，得到修補(bǔ)底釉料；
其中所述修補(bǔ)底釉料與甘油重量比為7:(1～1.2)。
一種衛(wèi)生陶瓷的修補(bǔ)方法，包括以下步驟：
A、打磨、清理
將陶瓷缺陷處打磨平整，并清理掉表面粉塵及顆粒物；
B、補(bǔ)坯
用修補(bǔ)坯料在需補(bǔ)的缺陷處壓實(shí)，且修補(bǔ)面與周圍的坯體保持平齊；
C、補(bǔ)釉、燒成
先用修補(bǔ)底釉料對缺陷處進(jìn)行修補(bǔ)，其修補(bǔ)高度高于周圍釉面0.1～0.2mm，然后對修補(bǔ)處進(jìn)行噴修補(bǔ)面釉料，最后燒成。
進(jìn)一步，所述步驟C中燒成采用梭式窯或隧道窯，且在氧化氣氛下燒成周期為12～16h，燒成溫度控制在1200～1250℃，保溫時間控制在30～60min。
本發(fā)明的有益效果是：在于本發(fā)明所提供的衛(wèi)生陶瓷修補(bǔ)料及修補(bǔ)方法，可以對超出標(biāo)準(zhǔn)的斑點(diǎn)、棕眼、窯臟等釉面缺陷進(jìn)行修補(bǔ)，也可對大的坯體裂紋等缺陷進(jìn)行修補(bǔ)，修補(bǔ)后制品的吸水率小，抗龜裂試驗(yàn)無裂紋，無明顯修補(bǔ)痕跡，產(chǎn)品在使用過程中不會出現(xiàn)修補(bǔ)部位變色、脫落現(xiàn)象。本發(fā)明的衛(wèi)生陶瓷修補(bǔ)料及修補(bǔ)方法，具有成本低、操作簡單、節(jié)能環(huán)保等特點(diǎn)，其大幅應(yīng)用和推廣可提高生產(chǎn)效率，增加企業(yè)效益。
具體實(shí)施方式
以下對本發(fā)明的原理和特征進(jìn)行描述，所舉實(shí)例只用于解釋本發(fā)明，并非用于限定本發(fā)明的范圍。
實(shí)施例1
A、打磨、清理
用氣動振搗筆將裂紋(長10mm，度寬0.8mm，深＜2mm)上面的釉層振開(非釉面坯體裂紋除外)上面的釉層振開，并用振搗筆將細(xì)小處的開裂擴(kuò)大，方便填充修補(bǔ)料。然后，用砂輪粗打磨裂紋表面及周圍盡量小的釉面，將周圍的釉料打磨干凈，盡量不露出坯體，用手磨石細(xì)打磨，將待修補(bǔ)表面光滑，用高壓空氣吹凈表面的粉塵及顆粒物，并用抹布沾酒精抹干凈待修補(bǔ)；
B、補(bǔ)坯
按配比稱取修補(bǔ)坯料原料紅柱石粉50份，殘瓷粉20份，白釉粉20份，硅酸鋯10份，加入球磨機(jī)內(nèi)濕法混合球磨，過200目篩后，用甘油調(diào)成泥團(tuán)狀，修補(bǔ)坯料與甘油重量比為8:1，得到修補(bǔ)坯料，將修補(bǔ)坯料在需補(bǔ)的裂縫和孔眼缺陷處壓實(shí)，且修補(bǔ)面與周圍的坯體保持平齊，待燒成；
C、補(bǔ)釉、燒成
一次燒成釉料重量百分比為：鉀長石24份，石英32份，方解石14份，白云石5份，鋯英粉9份，熔塊4份，氧化鋁2份，氧化鋅2份，蘇州土4份，鋯鐵紅0.01份，譜黃0.005份，纖維素0.1份；
修補(bǔ)面釉料重量百分比為：一次燒成釉料85％，熔塊15％；
修補(bǔ)底釉料重量百分比為：一次燒成釉料50％，修補(bǔ)面釉料50％；
按配比稱取修補(bǔ)底釉料原料，將其混合均勻并烘干，并過200目篩，用甘油調(diào)成膏體狀，其中修補(bǔ)底釉料與甘油重量比為7:1，得到修補(bǔ)底釉料，按配比稱取修補(bǔ)面釉料原料加入球磨機(jī)中，濕法研磨10h，釉漿比重控制在1.60g/cm3，釉漿細(xì)度為325目篩余量為2％，得到修補(bǔ)面釉料，修補(bǔ)操作先將用修補(bǔ)底釉料對缺陷處進(jìn)行修補(bǔ)，其修補(bǔ)高度高于周圍釉面0.1mm，然后對修補(bǔ)處進(jìn)行噴修補(bǔ)面釉料，最后燒成，燒成采用梭式窯或隧道窯，且在氧化氣氛下燒成周期為12h,燒成溫度控制在1200℃，保溫時間控制在30min。
實(shí)施例2
A、打磨、清理
用氣動振搗筆將裂紋(長10mm，度寬0.8mm，深＜2mm)上面的釉層振開(非釉面坯體裂紋除外)上面的釉層振開，并用振搗筆將細(xì)小處的開裂擴(kuò)大，方便填充修補(bǔ)料。然后，用砂輪粗打磨裂紋表面及周圍盡量小的釉面，將周圍的釉料打磨干凈，盡量不露出坯體，用手磨石細(xì)打磨，將待修補(bǔ)表面光滑，用高壓空氣吹凈表面的粉塵及顆粒物，并用抹布沾酒精抹干凈待修補(bǔ)；
B、補(bǔ)坯
按配比稱取修補(bǔ)坯料原料紅柱石粉55份，殘瓷粉25份，白釉粉15份，硅酸鋯5份，加入球磨機(jī)內(nèi)濕法混合球磨，過200目篩后，用甘油調(diào)成泥團(tuán)狀，修補(bǔ)坯料與甘油重量比為8:1.1，得到修補(bǔ)坯料，將修補(bǔ)坯料在需補(bǔ)的裂縫和孔眼缺陷處壓實(shí)，且修補(bǔ)面與周圍的坯體保持平齊，待燒成；
C、補(bǔ)釉、燒成
一次燒成釉料重量百分比為：鉀長石26份，石英33份，方解石15份，白云石5.5份，鋯英粉10份，熔塊5份，氧化鋁2.5份，氧化鋅2.5份，蘇州土4.5份，鋯鐵紅0.02份，譜黃0.01份，纖維素0.15份；
修補(bǔ)面釉料重量百分比為：一次燒成釉料87％，熔塊13％；
修補(bǔ)底釉料重量百分比為：一次燒成釉料55％，修補(bǔ)面釉料45％；
按配比稱取修補(bǔ)底釉料原料，將其混合均勻并烘干，并過200目篩，用甘油調(diào)成膏體狀，其中修補(bǔ)底釉料與甘油重量比為7:1.1，得到修補(bǔ)底釉料，按配比稱取修補(bǔ)面釉料原料加入球磨機(jī)中，濕法研磨12h，釉漿比重控制在1.65g/cm3，釉漿細(xì)度為325目篩余量為3％，得到修補(bǔ)面釉料，修補(bǔ)操作先將用修補(bǔ)底釉料對缺陷處進(jìn)行修補(bǔ)，其修補(bǔ)高度高于周圍釉面0.15mm，然后對修補(bǔ)處進(jìn)行噴修補(bǔ)面釉料，最后燒成，燒成采用梭式窯或隧道窯，且在氧化氣氛下燒成周期為13h,燒成溫度控制在1230℃，保溫時間控制在50min。
實(shí)施例3
A、打磨、清理
用氣動振搗筆將裂紋(長10mm，度寬0.8mm，深＜2mm)上面的釉層振開(非釉面坯體裂紋除外)上面的釉層振開，并用振搗筆將細(xì)小處的開裂擴(kuò)大，方便填充修補(bǔ)料。然后，用砂輪粗打磨裂紋表面及周圍盡量小的釉面，將周圍的釉料打磨干凈，盡量不露出坯體，用手磨石細(xì)打磨，將待修補(bǔ)表面光滑，用高壓空氣吹凈表面的粉塵及顆粒物，并用抹布沾酒精抹干凈待修補(bǔ)；
B、補(bǔ)坯
按配比稱取修補(bǔ)坯料原料紅柱石粉60份，殘瓷粉25份，白釉粉10份，硅酸鋯5份，加入球磨機(jī)內(nèi)濕法混合球磨，過200目篩后，用甘油調(diào)成泥團(tuán)狀，修補(bǔ)坯料與甘油重量比為8:1.2，得到修補(bǔ)坯料，將修補(bǔ)坯料在需補(bǔ)的裂縫和孔眼缺陷處壓實(shí)，且修補(bǔ)面與周圍的坯體保持平齊，待燒成；
C、補(bǔ)釉、燒成
一次燒成釉料重量百分比為：鉀長石27份，石英35份，方解石16份，白云石6份，鋯英粉11份，熔塊6份，氧化鋁3份，氧化鋅3份，蘇州土5份，鋯鐵紅0.03份，譜黃0.015份，纖維素0.2份；
修補(bǔ)面釉料重量百分比為：一次燒成釉料90％，熔塊10％；
修補(bǔ)底釉料重量百分比為：一次燒成釉料60％，修補(bǔ)面釉料40％；
按配比稱取修補(bǔ)底釉料原料，將其混合均勻并烘干，并過200目篩，用甘油調(diào)成膏體狀，其中修補(bǔ)底釉料與甘油重量比為7:1.2，得到修補(bǔ)底釉料，按配比稱取修補(bǔ)面釉料原料加入球磨機(jī)中，濕法研磨15h，釉漿比重控制在1.70g/cm3，釉漿細(xì)度為325目篩余量為4％，得到修補(bǔ)面釉料，修補(bǔ)操作先將用修補(bǔ)底釉料對缺陷處進(jìn)行修補(bǔ)，其修補(bǔ)高度高于周圍釉面0.2mm，然后對修補(bǔ)處進(jìn)行噴修補(bǔ)面釉料，最后燒成，燒成采用梭式窯或隧道窯，且在氧化氣氛下燒成周期為16h,燒成溫度控制在1250℃，保溫時間控制在60min。
對比例1
A、打磨、清理
用氣動振搗筆將裂紋(長10mm，度寬0.8mm，深＜2mm)上面的釉層振開(非釉面坯體裂紋除外)上面的釉層振開，并用振搗筆將細(xì)小處的開裂擴(kuò)大，方便填充修補(bǔ)料。然后，用砂輪粗打磨裂紋表面及周圍盡量小的釉面，將周圍的釉料打磨干凈，盡量不露出坯體，用手磨石細(xì)打磨，將待修補(bǔ)表面光滑，用高壓空氣吹凈表面的粉塵及顆粒物，并用抹布沾酒精抹干凈待修補(bǔ)；
B、補(bǔ)坯
按配比稱取修補(bǔ)坯料原料紅柱石粉30份，殘瓷粉40份，白釉粉25份，硅酸鋯5份，加入球磨機(jī)內(nèi)濕法混合球磨，過200目篩后，用甘油調(diào)成泥團(tuán)狀，修補(bǔ)坯料與甘油重量比為8:1.1，得到修補(bǔ)坯料，將修補(bǔ)坯料在需補(bǔ)的裂縫和孔眼缺陷處壓實(shí)，且修補(bǔ)面與周圍的坯體保持平齊，待燒成；
C、補(bǔ)釉、燒成
一次燒成釉料重量百分比為：鉀長石26份，石英33份，方解石15份，白云石5.5份，鋯英粉10份，熔塊5份，氧化鋁2.5份，氧化鋅2.5份，蘇州土4.5份，鋯鐵紅0.02份，譜黃0.01份，纖維素0.15份；
修補(bǔ)面釉料重量百分比為：一次燒成釉料70％，熔塊30％；
修補(bǔ)底釉料重量百分比為：一次燒成釉料40％，修補(bǔ)面釉料60％；
按配比稱取修補(bǔ)底釉料原料，將其混合均勻并烘干，并過200目篩，用甘油調(diào)成膏體狀，其中修補(bǔ)底釉料與甘油重量比為7:1.1，得到修補(bǔ)底釉料，按配比稱取修補(bǔ)面釉料原料與水加入球磨機(jī)中，濕法研磨12h，釉漿比重控制在1.65g/cm3，釉漿細(xì)度為325目篩余量為3％，得到修補(bǔ)面釉料，先將用修補(bǔ)底釉料對缺陷處進(jìn)行修補(bǔ)，其修補(bǔ)高度高于周圍釉面0.15mm，然后對修補(bǔ)處進(jìn)行噴修補(bǔ)面釉料，最后燒成，燒成采用梭式窯或隧道窯，且在氧化氣氛下燒成周期為13h,燒成溫度控制在1230℃，保溫時間控制在50min。
對比例2
A、打磨、清理
用氣動振搗筆將裂紋(長10mm，度寬0.8mm，深＜2mm)上面的釉層振開(非釉面坯體裂紋除外)上面的釉層振開，并用振搗筆將細(xì)小處的開裂擴(kuò)大，方便填充修補(bǔ)料。然后，用砂輪粗打磨裂紋表面及周圍盡量小的釉面，將周圍的釉料打磨干凈，盡量不露出坯體，用手磨石細(xì)打磨，將待修補(bǔ)表面光滑，用高壓空氣吹凈表面的粉塵及顆粒物，并用抹布沾酒精抹干凈待修補(bǔ)；
B、補(bǔ)坯
按配比稱取修補(bǔ)坯料原料紅柱石粉80份，殘瓷粉10份，白釉粉5份，硅酸鋯15份，加入球磨機(jī)內(nèi)濕法混合球磨，過200目篩后，用甘油調(diào)成泥團(tuán)狀，修補(bǔ)坯料與甘油重量比為8:1.1，得到修補(bǔ)坯泥，將修補(bǔ)坯泥在需補(bǔ)的裂縫和孔眼缺陷處壓實(shí)，且修補(bǔ)面與周圍的坯體保持平齊，待燒成；
C、補(bǔ)釉、燒成
一次燒成釉料重量百分比為：鉀長石26份，石英33份，方解石15份，白云石5.5份，鋯英粉10份，熔塊5份，氧化鋁2.5份，氧化鋅2.5份，蘇州土4.5份，鋯鐵紅0.02份，譜黃0.01份，纖維素0.15份；
修補(bǔ)面釉料重量百分比為：一次燒成釉料95％，熔塊5％；
修補(bǔ)底釉料重量百分比為：一次燒成釉料70％，修補(bǔ)面釉料30％；
按配比稱取修補(bǔ)底釉料原料，將其混合均勻并烘干，并過200目篩，用甘油調(diào)成膏體狀，其中修補(bǔ)底釉料與甘油重量比為7:1.1，得到修補(bǔ)底釉泥；按配比稱取修補(bǔ)面釉料原料加入球磨機(jī)中，濕法球磨12h，釉漿比重控制在1.65g/cm3，釉漿細(xì)度為325目篩余量為3％，得到修補(bǔ)面釉釉漿，修補(bǔ)操作為先用修補(bǔ)底釉料對缺陷處進(jìn)行修補(bǔ)，其修補(bǔ)高度高于周圍釉面0.15mm，然后對修補(bǔ)處進(jìn)行噴修補(bǔ)面釉釉漿，最后燒成，燒成采用梭式窯或隧道窯，且在氧化氣氛下燒成周期為13h，燒成溫度控制在1230℃，保溫時間控制在50mi n。
表1為無釉面覆蓋的坯體缺陷修補(bǔ)后物化性能
無釉面覆蓋的坯體缺陷處直接利用本發(fā)明實(shí)施例與對比例的修補(bǔ)坯料進(jìn)行修補(bǔ)，然后燒成，其物化性能如下表1所示：
表2為有釉面覆蓋的坯釉缺陷修補(bǔ)后物化性能
有釉面覆蓋的坯釉缺陷處利用本發(fā)明實(shí)施例與對比例的修補(bǔ)坯料、修補(bǔ)面釉料與修補(bǔ)底釉料進(jìn)行修補(bǔ)，然后燒成，其物化性能如下表2所示：
以上所述僅為本發(fā)明的較佳實(shí)施例，并不用以限制本發(fā)明，凡在本發(fā)明的精神和原則之內(nèi)，所作的任何修改、等同替換、改進(jìn)等，均應(yīng)包含在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。