国产精品1024永久观看,大尺度欧美暖暖视频在线观看,亚洲宅男精品一区在线观看,欧美日韩一区二区三区视频,2021中文字幕在线观看

  • <option id="fbvk0"></option>
    1. <rt id="fbvk0"><tr id="fbvk0"></tr></rt>
      <center id="fbvk0"><optgroup id="fbvk0"></optgroup></center>
      <center id="fbvk0"></center>

      <li id="fbvk0"><abbr id="fbvk0"><dl id="fbvk0"></dl></abbr></li>

      一種TFT?LCD玻璃基板雙面鍍膜的方法與流程

      文檔序號:11244356閱讀:1199來源:國知局

      本發(fā)明涉及tft-lcd技術領域,具體涉及一種tft-lcd玻璃基板雙面鍍膜的方法。



      背景技術:

      目前大部分液晶顯示用玻璃鍍膜產(chǎn)品所鍍的膜層為sio2+ito膜層,這樣鍍膜出來的產(chǎn)品,在550nm處透過率約為90%,鍍膜前后透過率的比值為97%左右,視覺效果較差,大部分液晶顯示用玻璃廠家都可以做到這種質(zhì)量的觸摸屏產(chǎn)品,由于技術指標較低,在日益激烈的觸摸屏行業(yè)競爭處于越來越不利的地位,隨著人們對視覺品質(zhì)的不斷追求,生產(chǎn)更高透過率的觸摸屏產(chǎn)品將擁有更大得市場。



      技術實現(xiàn)要素:

      本發(fā)明旨在提供了一種tft-lcd玻璃基板雙面鍍膜的方法。

      本發(fā)明提供如下技術方案:

      一種tft-lcd玻璃基板雙面鍍膜的方法,包括以下步驟:

      (1)用磁控濺射鍍膜的方法,在tft-lcd玻璃基板的一面上依次形成第一五氧化二鈮膜層、第一二氧化硅膜層、第二五氧化二鈮膜層及第二二氧化硅膜層,以形成第一增透膜層;

      (2)采用磁控濺射鍍膜的方法,在tft-lcd玻璃基板的另一面上依次形成第三五氧化二鈮膜層、第三二氧化硅膜層、第四五氧化二鈮膜層及第四二氧化硅膜層,以形成第二增透膜層;

      (3)采用磁控濺射鍍膜的方法,在第二增透膜層上形成ito膜層,即得雙面鍍膜玻璃。

      所述第一五氧化二鈮膜層及所述第三五氧化二鈮膜層的厚度為15-18nm;所述第二五氧化二鈮膜層及所述第四五氧化二鈮膜層的厚度為90-96nm;所述第一二氧化硅膜層及所述第三二氧化硅膜層的厚度為28-32nm;所述第二二氧化硅膜層的厚度為80-90nm;所述第四二氧化硅膜層的厚度為60-68nm;所述ito膜層的厚度為16-24nm。

      所述第一增透膜層及所述第二增透膜層的磁控濺射鍍膜工藝包括:將磁控濺射鍍膜的鍍膜箱抽真空,后向所述鍍膜箱內(nèi)充入氬氣及氧氣至真空度為1.4pa-1.8pa,在25-30℃下進行鍍膜。

      所述步驟(3)中ito膜層的磁控濺射鍍膜工藝包括:將磁控濺射鍍膜的鍍膜箱抽真空,后向所述鍍膜箱內(nèi)充入氬氣及氧氣至真空度為0.4pa-0.6pa,在溫度60℃-80℃下進行鍍膜。

      與現(xiàn)有技術相比,本發(fā)明的有益效果是:本發(fā)明利用光的波動性及干涉原理,設計出提高雙面鍍膜玻璃透過率的膜系;在tft-lcd玻璃基板鍍有五氧化二鈮及二氧化硅材料,該雙面鍍膜玻璃不容易老化泛黃,光反射小,透過率高,畫面圖像清晰;同時,上述雙面鍍膜tft-lcd玻璃基板在420nm-660nm波段的透過率達到96.5%以上,鍍膜前后透過率的比值達到108%以上,對紫外線和紅外線部分有一定的防護作用,該雙面鍍膜tft-lcd玻璃基板的透過率較高,能夠更好地應用到市場。

      具體實施方式

      下面將結(jié)合本發(fā)明實施例,對本發(fā)明實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述,顯然,所描述的實施例僅僅是本發(fā)明一部分實施例,而不是全部的實施例?;诒景l(fā)明中的實施例,本領域普通技術人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例,都屬于本發(fā)明保護的范圍。

      實施例一種tft-lcd玻璃基板雙面鍍膜的方法,包括以下步驟:

      (1)用磁控濺射鍍膜的方法,在tft-lcd玻璃基板的一面上依次形成第一五氧化二鈮膜層、第一二氧化硅膜層、第二五氧化二鈮膜層及第二二氧化硅膜層,以形成第一增透膜層;

      (2)采用磁控濺射鍍膜的方法,在tft-lcd玻璃基板的另一面上依次形成第三五氧化二鈮膜層、第三二氧化硅膜層、第四五氧化二鈮膜層及第四二氧化硅膜層,以形成第二增透膜層;

      (3)采用磁控濺射鍍膜的方法,在第二增透膜層上形成ito膜層,即得雙面鍍膜玻璃。

      所述第一五氧化二鈮膜層及所述第三五氧化二鈮膜層的厚度為15-18nm;所述第二五氧化二鈮膜層及所述第四五氧化二鈮膜層的厚度為90-96nm;所述第一二氧化硅膜層及所述第三二氧化硅膜層的厚度為28-32nm;所述第二二氧化硅膜層的厚度為80-90nm;所述第四二氧化硅膜層的厚度為60-68nm;所述ito膜層的厚度為16-24nm。

      所述第一增透膜層及所述第二增透膜層的磁控濺射鍍膜工藝包括:將磁控濺射鍍膜的鍍膜箱抽真空,后向所述鍍膜箱內(nèi)充入氬氣及氧氣至真空度為1.4pa-1.8pa,在25-30℃下進行鍍膜。

      所述步驟(3)中ito膜層的磁控濺射鍍膜工藝包括:將磁控濺射鍍膜的鍍膜箱抽真空,后向所述鍍膜箱內(nèi)充入氬氣及氧氣至真空度為0.4pa-0.6pa,在溫度60℃-80℃下進行鍍膜。

      對于本領域技術人員而言,顯然本發(fā)明不限于所述示范性實施例的細節(jié),而且在不背離本發(fā)明的精神或基本特征的情況下,能夠以其他的具體形式實現(xiàn)本發(fā)明。因此,無論從哪一點來看,均應將實施例看作是示范性的,而且是非限制性的,本發(fā)明的范圍由所附權(quán)利要求而不是所述說明限定,因此旨在將落在權(quán)利要求的等同要件的含義和范圍內(nèi)的所有變化囊括在本發(fā)明內(nèi)。此外,應當理解,雖然本說明書按照實施方式加以描述,但并非每個實施方式僅包含一個獨立的技術方案,說明書的這種敘述方式僅僅是為清楚起見,本領域技術人員應當將說明書作為一個整體,各實施例中的技術方案也可以經(jīng)適當組合,形成本領域技術人員可以理解的其他實施方式。



      技術特征:

      技術總結(jié)
      本發(fā)明公開了一種TFT?LCD玻璃基板雙面鍍膜的方法,包括以下步驟:(1)用磁控濺射鍍膜的方法,在TFT?LCD玻璃基板的一面上依次形成第一五氧化二鈮膜層、第一二氧化硅膜層、第二五氧化二鈮膜層及第二二氧化硅膜層,以形成第一增透膜層;(2)采用磁控濺射鍍膜的方法,在TFT?LCD玻璃基板的另一面上依次形成第三五氧化二鈮膜層、第三二氧化硅膜層、第四五氧化二鈮膜層及第四二氧化硅膜層,以形成第二增透膜層;(3)采用磁控濺射鍍膜的方法,在第二增透膜層上形成ITO膜層,即得雙面鍍膜玻璃。

      技術研發(fā)人員:白航空
      受保護的技術使用者:合肥市惠科精密模具有限公司
      技術研發(fā)日:2017.06.19
      技術公布日:2017.09.15
      網(wǎng)友詢問留言 已有0條留言
      • 還沒有人留言評論。精彩留言會獲得點贊!
      1