本發(fā)明主要涉及玻璃，具體涉及一種新型ag抗眩玻璃制備方法。

背景技術(shù)：

1、抗眩光（ag）玻璃是一種廣泛應(yīng)用于各種顯示設(shè)備的特殊玻璃材料，其主要功能是通過表面處理減少反射光，提高屏幕的可讀性和視覺舒適度。在現(xiàn)代社會(huì)中，隨著電子設(shè)備的普及和人們對(duì)顯示效果要求的不斷提高，ag玻璃的需求量和技術(shù)要求也在不斷提升。傳統(tǒng)的抗眩光玻璃主要通過蒙砂刻蝕工藝進(jìn)行表面處理，該工藝成本較低，操作簡(jiǎn)單，但在均勻性、精度和性能方面存在諸多局限，傳統(tǒng)蒙砂刻蝕工藝通常使用含有氫氟酸的蒙砂液對(duì)玻璃表面進(jìn)行化學(xué)處理，通過腐蝕作用在玻璃表面形成微小的凹坑結(jié)構(gòu)，這些凹坑結(jié)構(gòu)能夠散射反射光，降低眩光，然而由于化學(xué)刻蝕過程受酸液濃度、溫度、反應(yīng)時(shí)間等多種因素的影響，導(dǎo)致最終形成的凹坑結(jié)構(gòu)往往不規(guī)則且不均勻，這種不均勻性不僅影響玻璃的抗眩光性能，還可能導(dǎo)致顯示效果不佳，甚至影響玻璃的機(jī)械強(qiáng)度和耐用性，在此基礎(chǔ)上，提出了一種新型ag抗眩玻璃制備方法。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、1.發(fā)明要解決的技術(shù)問題：

2、本發(fā)明的提供了一種新型ag抗眩玻璃制備方法，用以解決上述背景技術(shù)中存在的技術(shù)問題。

3、2.技術(shù)方案：

4、為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明的技術(shù)方案如下：

5、一種新型ag抗眩玻璃制備方法，包括以下步驟：

6、步驟1、對(duì)玻璃基板進(jìn)行表面處理，以提高表面的附著力和均勻性；

7、步驟2、在玻璃基板表面均勻涂布一層功能性涂層；

8、步驟3、在功能性涂層表面均勻涂布光刻膠，涂布后進(jìn)行軟烘處理；

9、步驟4、采用高精度的mask進(jìn)行圖形設(shè)計(jì)與曝光，將設(shè)計(jì)好的微結(jié)構(gòu)圖案精確地轉(zhuǎn)移到光刻膠層上，使得圖形尺寸在1μm以上；

10、步驟5、曝光后進(jìn)行顯影處理，去除未曝光的光刻膠部分，從而在玻璃基板上形成預(yù)定的圖形；

11、步驟6、顯影后的光刻膠圖形進(jìn)行固化，確保其在后續(xù)蝕刻過程中具有足夠的耐蝕性和穩(wěn)定性；

12、步驟7、進(jìn)行蝕刻處理，去除未保護(hù)的功能性涂層和玻璃基板，形成精確的微結(jié)構(gòu)圖案；

13、步驟8、使用光刻膠去除技術(shù)，去除殘留的光刻膠，得到最終的微結(jié)構(gòu)圖案；

14、步驟9、通過氟化處理，對(duì)微結(jié)構(gòu)圖案表面進(jìn)行功能化處理，使其具有抗眩光和防污性能。

15、進(jìn)一步的改進(jìn)在于：步驟1的具體步驟為對(duì)玻璃基板進(jìn)行毛刷水洗、等離子體處理或溶膠-凝膠涂層，處理的溫度范圍為20～100℃，處理時(shí)間為1～10min。

16、進(jìn)一步的改進(jìn)在于：步驟2中功能性涂層采用硅酸鹽，功能性涂層的厚度范圍為0.01～30μm。

17、進(jìn)一步的改進(jìn)在于：步驟3中光刻膠的厚度范圍為0.01～30μm，?軟烘處理溫度范圍為50～250℃，軟烘處理時(shí)間為1～10min。

18、進(jìn)一步的改進(jìn)在于：步驟4中mask圖形設(shè)計(jì)是通利用多個(gè)小尺寸的圖紙拼接而成，通過這種拼接設(shè)計(jì)實(shí)現(xiàn)高精度的圖形轉(zhuǎn)移。

19、進(jìn)一步的改進(jìn)在于：步驟5中顯影時(shí)間為1～10min。

20、進(jìn)一步的改進(jìn)在于：步驟6中固化采用熱固化或uv固化的方法，溫度范圍為50～500℃，固化時(shí)間為1～60min。

21、進(jìn)一步的改進(jìn)在于：步驟7中蝕刻液采用含有氟離子的單酸或混酸，蝕刻圖形的深度控制在0.5～50μm之間。

22、進(jìn)一步的改進(jìn)在于：步驟8中去除光刻膠的方法采用濕法去除或干法去除，去除時(shí)間為1～15min。

23、進(jìn)一步的改進(jìn)在于：步驟9中氟化處理的溫度范圍為20～100℃，處理時(shí)間為1～60min。

24、3.有益效果：

25、采用本發(fā)明提供的技術(shù)方案，與現(xiàn)有技術(shù)相比，具有如下有益效果：

26、本發(fā)明通過mask技術(shù)實(shí)現(xiàn)高精度的圖案轉(zhuǎn)移，利用光刻工藝將設(shè)計(jì)好的微結(jié)構(gòu)圖案精確地轉(zhuǎn)移到玻璃表面，形成高度一致的凹槽形貌，凹槽的形狀和大小可以通過mask設(shè)計(jì)進(jìn)行精確控制，從而確保表面結(jié)構(gòu)的相對(duì)均勻性和一致性，與傳統(tǒng)的蒙砂刻蝕工藝相比，mask技術(shù)能夠有效避免凹槽形狀和大小不一致的問題，保證了抗眩光效果的穩(wěn)定性；

27、本發(fā)明通過調(diào)整mask設(shè)計(jì)，可以在特定面積內(nèi)精確設(shè)定凹槽的數(shù)量和密度，優(yōu)化圖案的面積占比，使得本發(fā)明可以靈活調(diào)整玻璃表面結(jié)構(gòu)，從而實(shí)現(xiàn)最佳的抗眩光效果；

28、本發(fā)明采用的mask技術(shù)確保了凹槽在形狀、大小和深度上的相對(duì)一致性，顯著提高了玻璃表面的均勻性，光散射效果更為均勻，顯著改善了顯示效果，解決了傳統(tǒng)工藝中凹槽分布無序的問題；

29、本發(fā)明工藝穩(wěn)定性和可控性增強(qiáng)，確保每批次產(chǎn)品質(zhì)量一致，同時(shí)保持高透光率和機(jī)械強(qiáng)度，提升了顯示效果和玻璃的耐用性。

技術(shù)特征：

1.一種新型ag抗眩玻璃制備方法，其特征在于，包括以下步驟：

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種新型ag抗眩玻璃制備方法，其特征在于：步驟1的具體步驟為對(duì)玻璃基板進(jìn)行毛刷水洗、等離子體處理或溶膠-凝膠涂層，處理的溫度范圍為20～100℃，處理時(shí)間為1～10min。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種新型ag抗眩玻璃制備方法，其特征在于：步驟2中功能性涂層采用硅酸鹽，功能性涂層的厚度范圍為0.01～30μm。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種新型ag抗眩玻璃制備方法，其特征在于：步驟3中光刻膠的厚度范圍為0.01～30μm，?軟烘處理溫度范圍為50～250℃，軟烘處理時(shí)間為1～10min。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種新型ag抗眩玻璃制備方法，其特征在于：步驟4中mask圖形設(shè)計(jì)是通利用多個(gè)小尺寸的圖紙拼接而成，通過這種拼接設(shè)計(jì)實(shí)現(xiàn)高精度的圖形轉(zhuǎn)移。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種新型ag抗眩玻璃制備方法，其特征在于：步驟5中顯影時(shí)間為1～10min。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種新型ag抗眩玻璃制備方法，其特征在于：步驟6中固化采用熱固化或uv固化的方法，溫度范圍為50～500℃，固化時(shí)間為1～60min。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種新型ag抗眩玻璃制備方法，其特征在于：步驟7中蝕刻液采用含有氟離子的單酸或混酸，蝕刻圖形的深度控制在0.5～50μm之間。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種新型ag抗眩玻璃制備方法，其特征在于：步驟8中去除光刻膠的方法采用濕法去除或干法去除，去除時(shí)間為1～15min。

10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種新型ag抗眩玻璃制備方法，其特征在于：步驟9中氟化處理的溫度范圍為20～100℃，處理時(shí)間為1～60min。

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明公開了一種新型AG抗眩玻璃制備方法，包括以下步驟：對(duì)玻璃基板進(jìn)行表面處理；在玻璃基板表面均勻涂布一層功能性涂層；在功能性涂層表面均勻涂布光刻膠，涂布后進(jìn)行軟烘處理；采用高精度的MASK進(jìn)行圖形設(shè)計(jì)與曝光，將設(shè)計(jì)好的微結(jié)構(gòu)圖案精確地轉(zhuǎn)移到光刻膠層上；曝光后進(jìn)行顯影處理，去除未曝光的光刻膠部分，在玻璃基板上形成預(yù)定的圖形；顯影后的光刻膠圖形進(jìn)行固化，確保其在后續(xù)蝕刻過程中具有足夠的耐蝕性和穩(wěn)定性；進(jìn)行蝕刻處理，去除未保護(hù)的功能性涂層和玻璃基板，形成精確的微結(jié)構(gòu)圖案；使用光刻膠去除技術(shù)，去除殘留的光刻膠，得到最終的微結(jié)構(gòu)圖案；通過氟化處理，對(duì)微結(jié)構(gòu)圖案表面進(jìn)行功能化處理，使其具有抗眩光和防污性能。

技術(shù)研發(fā)人員：鄭建軍,李小飛,余志輝,鐘素文,徐松
受保護(hù)的技術(shù)使用者：蕪湖長(zhǎng)信科技股份有限公司
技術(shù)研發(fā)日：
技術(shù)公布日：2024/12/19