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      一種天然石墨礦剝離提純方法

      文檔序號:9244537閱讀:1868來源:國知局
      一種天然石墨礦剝離提純方法
      【技術領域】
      [0001]本發(fā)明屬于礦產加工技術領域,涉及一種天然石墨礦剝離提純方法。
      【背景技術】
      [0002]石墨品種主要有人工石墨與天然石墨,人工合成石墨純度高,但其生產過程需要消耗極高的能源,使其成本大幅上升,天然石墨含雜質較多,提純繁瑣,開發(fā)應用受到限制。石墨資源是我國的優(yōu)勢資源礦種,我國石墨資源豐富,儲量和產銷量都居世界之首。石墨礦石主要分為晶質(鱗片狀)石墨礦石和隱晶質(土狀)石墨礦石兩種類型,鱗片石墨礦通過采用粗精礦再磨再選的浮選流程,達到提純鱗片石墨的目的。浮選工藝流程一般為多段磨礦、多段選別、中礦順序(或集中)返回的閉路流程,以便盡早選出大鱗片石墨。即先進行粗磨、粗選,得到以連生體為主的低品位精礦(品位為40%?50% ),然后將低品位精礦再磨、再選得最終精礦。因此多段流程有三種形式,即精礦再磨、中礦再磨和尾礦再磨。再磨次數(shù)為3?7次,一般3?4次。因為需經(jīng)過多次磨礦流程,大鱗片石墨極易受到破壞而變小。正常情況下選礦作業(yè)回收率一般在85%?89%之間。若要獲得含碳量99%左右的高碳石墨,須采用化學法或高溫法提純石墨。
      [0003]天然隱晶質石墨是我國的優(yōu)勢礦產資源之一,主要用于鑄造、石墨電極、電池碳棒、耐火材料、鉛筆和增碳劑等方面。隱晶質石墨晶體極小,石墨顆粒嵌于粘土中,很難分離。由于隱晶質石墨原礦品位高(一般含碳60%-80% ),部分可達95%,平均粒徑0.01-0.1 μπι,用肉眼很難辨別,故稱隱晶質石墨,俗稱土狀石墨。與鱗片石墨相比,土狀石墨碳含量高,灰分多,晶粒小,提純技術難度大,使其應用范圍受到極大限制。在我國,通常都是將開采出來的石墨礦石經(jīng)過簡單手選后,直接粉碎成產品出售。因此天然隱晶質石墨資源得不到充分的利用,甚至盲目出口,造成資源的浪費。鑒于天然隱晶質石墨的技術含量和附加值極低,而我國市場需要的高純超細石墨則多數(shù)依賴進口,開展天然隱晶質石墨的提純新方法尤為緊迫。
      [0004]目前,隱晶質石墨的提純很多還是借鑒天然鱗片石墨的技術,國內外提純隱晶質石墨的方法可分為物理方法和化學方法兩大類。物理方法主要有浮選法和高溫法,化學方法包括堿酸法、氫氟酸法、氯化焙燒法及氫氟酸-鹽(硫)酸法等。其中氫氟酸法和氫氟酸-鹽(硫)酸法中所使用的氫氟酸有劇毒,一般在工業(yè)上禁止使用,氯化焙燒法會產生大量氯化氫廢氣,尾氣難處理、污染嚴重,對設備腐蝕嚴重、氯氣成本高等缺點限制了該方法的推廣應用。浮選法能耗和試劑消耗最少、成本最低,但浮選法只適用于晶質鱗片石墨,不適用于隱晶質石墨,使用此法提純石墨時石墨品位只能達到一定的范圍,通常為85% -90%。而進一步提高品位非常困難,并且石墨的回收率很低,因而其應用范圍受到限制。若要獲得含碳量99%左右的高碳石墨,必須采用化學法提純石墨。堿酸法是目前最常用的方法,具有產品化學純度高的優(yōu)勢,但酸堿耗量大,成本高,且對環(huán)境污染嚴重。高溫法對原料純度要求高,須專門設計建造高溫爐(2300-3000°C ),設備昂貴、投資巨大,電加熱技術要求嚴格。隱晶質石墨的提純目前主要有兩大發(fā)展趨勢:(I)采用連續(xù)高溫純化處理,以降低能耗和生產成本,但要研制長期使用溫度達3000°C的超高溫連續(xù)處理設備,需要解決的問題很多,目前的技術水平尚難以達到。(2)通過優(yōu)選化學純化體系,盡可能減少對環(huán)境的影響,同時在生產過程中采取嚴格和科學合理的污染防治措施實現(xiàn)零排放和少排放。
      [0005]天然石墨通過精細加工,不僅可以提高其附加值,還可以為新發(fā)展的高科技產業(yè)提供性能優(yōu)異的新材料,因此,天然石墨的純化處理是提高其附加值的必由之路,已成為當前人們的共識?,F(xiàn)有的純化技術又存在生產成本高、環(huán)境污染嚴重及能耗高等缺點,難以推廣應用,需要解決的問題很多。

      【發(fā)明內容】

      [0006]本發(fā)明的目的是提供一種天然石墨礦剝離提純方法,解決了現(xiàn)有技術中天然石墨礦,特別是隱晶質石墨提純技術難度大、成本高、污染大、資源浪費嚴重的問題,適用于不同品味、不同礦質的天然石墨的提純,且成本低,環(huán)境污染小,低能耗,簡單易行,具有廣泛的應用前景。
      [0007]本發(fā)明所采用的技術方案是,一種天然石墨礦剝離提純方法,按照以下步驟進行:
      [0008]步驟I,按照質量百分比,將30?50 %的石墨礦粉、I %?5 %的氧化劑、0.2?5 %的有機插層劑、其余為水在反應池中混合均勻調成礦漿液,靜止浸漬2-10h ;
      [0009]步驟2,將步驟I中礦漿液在不斷攪拌下光照l_2h ;
      [0010]步驟3,將已光照礦漿液泵入壓濾機中壓濾、洗滌、干燥,得到的石墨礦濾餅;
      [0011]步驟4,按照質量百分比,將10-50%的石墨礦濾餅、0.5-40%的無機插層劑、其余為水送入反應釜,混合均勻調成礦漿液,靜止浸漬5?48h ;
      [0012]步驟5,將裝有礦漿液的反應釜在50_200°C條件下加熱2?8h,冷卻至室溫,重復加熱、冷卻3?5次;
      [0013]步驟6,將反應釜中礦漿液送入壓濾機中壓濾、洗滌、干燥,得到的石墨礦濾餅送入下一工序,濾液中插層劑回收或循環(huán)使用;
      [0014]步驟7,將步驟6的石墨礦濾餅搗碎送入超聲裝置中,加入水,水量為步驟4中水量的3-5倍,超聲剝離0.5?12h ;
      [0015]步驟8,將已超聲剝離的礦漿液加入水,水量為步驟7水量的2倍,攪拌0.5h,靜止2?10h,上層懸浮液經(jīng)離心分離得到石墨稀和石墨稀納米片,下層沉淀經(jīng)浮選,得到高碳石墨;
      [0016]步驟9,將浮選得到的高碳石墨代替步驟I中的石墨礦粉后重復上述步驟1-8,得到尚純石墨。
      [0017]優(yōu)選的,石墨礦粉為隱晶質石墨礦、鱗片石墨或細鱗片-隱晶質混合型石墨礦中的一種或兩種以上混合物。
      [0018]優(yōu)選的,氧化劑為H202、(NH4) 2S208、HNO3的一種或兩種以上混合物。
      [0019]優(yōu)選的,有機插層劑為甲酸銨、甲酰胺、乙酸銨、乙酰胺、苯甲酸銨、苯甲酰胺、苯二甲酸銨、苯二甲酰胺、鄰苯二甲酰亞胺、CO(NH2)2、雙縮脲、硫脲的一種或兩種以上混合物。
      [0020]優(yōu)選的,苯二甲酸銨為鄰苯二甲酸銨、間苯二甲酸銨、對苯二甲酸銨的一種或兩種以上混合物。
      [0021]優(yōu)選的,苯二甲酰胺是鄰苯二甲酸胺、間苯二甲酸酰胺、對苯二甲酸酰胺的一種或兩種以上混合物。
      [0022]優(yōu)選的,步驟2中光照的光源采用UV光、可見光或太陽光。
      [0023]優(yōu)選的,無機插層劑為NH4Cl、NH4N03、(NH4) 2S04、(NH4) 3P04、(NH4) 2HP04 (NH4) 2C03、NH4HCO3的一種或兩種以上混合物。
      [0024]優(yōu)選的,步驟5中,反應釜加熱時,反應釜在密閉或沖入惰性氣體體系中加熱。
      [0025]本發(fā)明的有益效果是:
      [0026]1.本發(fā)明技術所采用的插層劑原料價格低,可循環(huán)使用或回收利用。
      [0027]2.本發(fā)明技術對石墨結構無明顯破壞,也不會產生明顯缺陷,對大尺寸鱗片石墨具有保護作用。
      [0028]3.本發(fā)明技術所生產的產品多元化(高碳石墨、高純石墨、石墨烯和石墨烯納米片),可根據(jù)市場需求調整產品結構。
      [0029]4.本發(fā)明技術可在現(xiàn)有石墨浮選生產線上增添一定工藝設備進行實施,工藝簡單,設備要求低,條件溫和,成本低。
      [0030]5.本發(fā)明技術不使用酸和堿,污染物產生少,對環(huán)境友好。
      [0031]6.本發(fā)明技術適用于不同的固定碳含量的天然石墨礦,也可用于與輝鉬礦的剝離提純。
      【附圖說明】
      [0032]圖1是用本發(fā)明方法由鱗片石
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