一種雙面觸摸屏消影導電玻璃的加工方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及導電玻璃技術(shù)領(lǐng)域，尤其是一種雙面觸摸屏消影導電玻璃的加工方法。
【背景技術(shù)】
[0002]目前，電容屏產(chǎn)品使用非常廣泛，而電容屏中的雙面鍍導電玻璃是其主要器件，雙面鍍導電玻璃的導電薄膜在性能方面要求比較嚴，比如均勻性、耐熱性能、耐酸堿性能、耐高溫高濕性能等；在制作透明電路的時候，由于工藝難度增加，在制作電路時常采用酸刻電路。在制作過程中，容易蝕刻掉不應該刻蝕的部位，并且存在電路蝕刻的蝕痕影跡，影響其電磁屏蔽、靜電保護功能，存在的蝕痕影跡會對觀看圖案產(chǎn)生影響。
[0003]鑒于上述原因，現(xiàn)研發(fā)出一種雙面觸摸屏消影導電玻璃的加工方法。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]本發(fā)明的目的是為了克服現(xiàn)有技術(shù)中的不足，提供一種雙面觸摸屏消影導電玻璃的加工方法，具有良好的電磁屏蔽、靜電防護和消影作用，并且能夠完全代替現(xiàn)有的傳統(tǒng)導電玻璃，為下游客戶提供低耗能、高均勻性、低成本的制作電容屏用導電玻璃。
[0005]本發(fā)明為了實現(xiàn)上述目的，采用如下技術(shù)方案:一種雙面觸摸屏消影導電玻璃的加工方法，所述雙面觸摸屏消影導電玻璃是由上玻璃基板、錫面、空氣面、上干涉層一、上透明鈍化層、上干涉層二、下玻璃基板、下干涉層一、下透明鈍化層、下干涉層二構(gòu)成；上玻璃基板和下玻璃基板的兩個表面均為錫面和空氣面，上玻璃基板和下玻璃基板的空氣面對應貼合，上玻璃基板的錫面上設置上干涉層一，上干涉層一與上干涉層二之間設置上透明鈍化層，下玻璃基板的錫面下方設置下干涉層一，下干涉層一與下干涉層二之間設置下透明鈍化層；
[0006]所述上透明鈍化層和下透明鈍化層均采用透明的二氧化硅或透明的氮氧化硅；
[0007]所述上干涉層一、上干涉層二、下干涉層一和下干涉層二均采用五氧化二鈮。
[0008]第一步，對上玻璃基板和下玻璃基板進行處理，
[0009]A、對上玻璃基板和下玻璃基板進行切割，先X切割，再Y切割，然后再掰片處理；
[0010]B、對切割后的上玻璃基板和下玻璃基板進行磨邊和倒角，先X磨邊再倒角，旋轉(zhuǎn)90°再對Y磨邊及倒角；
[0011]C、刷洗吹干；
[0012]D、對磨邊和倒角后的上玻璃基板和下玻璃基板進行拋光；
[0013]E、再刷洗吹干；
[0014]第二步，對上玻璃基板和下玻璃基板濺射上干涉層一、上透明鈍化層、下干涉層一、下透明鈍化層；
[0015]A、對拋光刷洗吹干后上玻璃基板和下玻璃基板沿空氣面粘合在一起進行加熱；采用的加熱溫度為150-280攝氏度；
[0016]B、利用磁控濺射真空鍍膜設備對加熱后的上玻璃基板和下玻璃基板的錫面上同時濺射上干涉層一和下干涉層一，上干涉層一和下干涉層一均采用五氧化二鈮，上干涉層一上方和下干涉層一的下方同時濺射上透明鈍化層和下透明鈍化層，上透明鈍化層和下透明鈍化層均采用透明的二氧化硅或透明的氮氧化硅；
[0017]第三步，在上玻璃基板和下玻璃基板濺射的上透明鈍化層和下透明鈍化層上，進行上干涉層二和下干涉層二濺射；
[0018]A、對濺射上干涉層一、上透明鈍化層、下干涉層一、下透明鈍化層后的上玻璃基板和下玻璃基板進行加熱；加熱溫度采用280-380攝氏度；
[0019]B、利用磁控濺射真空鍍膜設備，對加熱后的上玻璃基板和下玻璃基板，在上玻璃基板和下玻璃基板的上透明鈍化層和下透明鈍化層上，同時進行上干涉層二和下干涉層二濺射，上干涉層二和下干涉層二均采用五氧化二鈮；
[0020]C、對濺射上干涉層二和下干涉層二后的上玻璃基板和下玻璃基板，經(jīng)緩沖室做退火處理:先降溫至200攝氏度，再加溫至300攝氏度穩(wěn)定，完成對上玻璃基板和下玻璃基板的鍍膜。
[0021]本發(fā)明的有益效果是:本發(fā)明能夠保護氧化銦錫導電膜刻蝕線路，不受制作過程工藝中的酸溶液的蝕刻，避免在制作過程中蝕刻掉不應該刻蝕的部位，在制作過程中使氧化銦錫導電膜刻蝕線路達到設計要求，具有良好的電磁屏蔽、靜電防護和消影作用，并且能夠完全代替現(xiàn)有的傳統(tǒng)導電玻璃，為下游客戶提供低耗能、高均勻性、低成本的制作電容屏用導電玻璃。
【附圖說明】
[0022]下面結(jié)合附圖對本發(fā)明作進一步說明:
[0023]圖1是，總裝結(jié)構(gòu)示意圖；
[0024]圖1中:上玻璃基板1、錫面2、空氣面3、上干涉層一 4、上透明鈍化層5、上干涉層二6、下玻璃基板7、下干涉層一 8、下透明鈍化層9、下干涉層二 10。
【具體實施方式】
[0025]下面結(jié)合實施例與【具體實施方式】對本發(fā)明作進一步詳細說明:
[0026]實施例1
[0027]上玻璃基板1和下玻璃基板7的兩個表面均為錫面2和空氣面3，上玻璃基板1和下玻璃基板7的空氣面3對應貼合，上玻璃基板1的錫面2上設置上干涉層一 4，上干涉層一 4與上干涉層二 6之間設置上透明鈍化層5，下玻璃基板7的錫面2下方設置下干涉層一8，下干涉層一 8與下干涉層二 10之間設置下透明鈍化層9 ;
[0028]所述上透明鈍化層5和下透明鈍化層9均采用透明的二氧化硅或透明的氮氧化娃;
[0029]所述上干涉層一 4、上干涉層二 6、下干涉層一 8和下干涉層二 10均采用五氧化二鈮。
[0030]實施例2
[0031]第一步，對上玻璃基板1和下玻璃基板7進行處理，
[0032]A、對上玻璃基板1和下玻璃基板7進行切割，先X切割，再Y切割，然后再掰片處理；
[0033]Β、對切割后的上玻璃基板1和下玻璃基板7進行磨邊和倒角，先X磨邊，再倒角，旋轉(zhuǎn)90°再對Υ磨邊及倒角；
[0034]C、刷洗吹干；
[0035]D、對磨邊和倒角后的上玻璃基板1和下玻璃基板7進行拋光；
[0036]Ε、再刷洗吹干；
[0037]第二步，對上玻璃基板1和下玻璃基板7濺射上干涉層一 4、上透明鈍化層5、下干涉層一 8、下透明鈍化層9 ；
[0038]Α、對拋光刷洗吹干后上玻璃基板1和下玻璃基板7沿空氣面3粘合在一起進行加熱；采用的加熱溫度為150-280攝氏度；
[0039]Β、利用磁控濺射真空鍍膜設備對加熱后的上玻璃基板1和下玻璃基板7的錫面2上同時濺射上干涉層一 4和下干涉層一 8，上干涉層一 4和下干涉層一 8均采用五氧化二鈮，上干涉層一 4上方和下干涉層一 8的下方同時濺射上透明鈍化層5和下透明鈍化層9，上透明鈍化層5和下透明鈍化層9均采用透明的二氧化硅或透明的氮氧化硅；
[0040]第三步，在上玻璃基板1和下玻璃基板7濺射的上透明鈍化層5和下透明鈍化層9上，進行上干涉層二 6和下干涉層二 10濺射；
[0041]Α、對濺射上干涉層一 4、上透明鈍化層5、下干涉層一 8、下透明鈍化層9后的上玻璃基板1和下玻璃基板7進行加熱；加熱溫度采用280-380攝氏度；
[0042]Β、利用磁控濺射真空鍍膜設備，對加熱后的上玻璃基板1和下玻璃基板7，在上玻璃基板1和下玻璃基板7的上透明鈍化層5和下透明鈍化層9上，同時進行上干涉層二 6和下干涉層二 10濺射，上干涉層二 6和下干涉層二 10均采用五氧化二鈮；
[0043]C、對濺射上干涉層二 6和下干涉層二 10后的上玻璃基板1和下玻璃基板7，經(jīng)緩沖室做退火處理:先降溫至200攝氏度，再加溫至300攝氏度穩(wěn)定，完成對上玻璃基板1和下玻璃基板7的鍍膜。
【主權(quán)項】
1.一種雙面觸摸屏消影導電玻璃的加工方法，所述雙面觸摸屏消影導電玻璃是由上玻璃基板(1)、錫面(2)、空氣面(3)、上干涉層一(4)、上透明鈍化層(5)、上干涉層二 ￠)、下玻璃基板(7)、下干涉層一(8)、下透明鈍化層(9)、下干涉層二(10)構(gòu)成；其特征在于:上玻璃基板(1)和下玻璃基板(7)的兩個表面均為錫面(2)和空氣面(3)，上玻璃基板(1)和下玻璃基板(7)的空氣面(3)對應貼合，上玻璃基板(1)的錫面(2)上設置上干涉層一(4)，上干涉層一(4)與上干涉層二(6)之間設置上透明鈍化層(5)，下玻璃基板(7)的錫面(2)下方設置下干涉層一(8)，下干涉層一(8)與下干涉層二(10)之間設置下透明鈍化層(9)； 所述上透明鈍化層(5)和下透明鈍化層(9)均采用透明的二氧化硅或透明的氮氧化娃； 所述上干涉層一(4)、上干涉層二 ￠)、下干涉層一(8)和下干涉層二(10)均采用五氧化二鈮。2.—種雙面觸摸屏消影導電玻璃的加工方法，其特征在于: 第一步，對上玻璃基板(1)和下玻璃基板(7)進行處理， A、對上玻璃基板⑴和下玻璃基板(7)進行切割，先X切割，再Y切割，然后再掰片處理； B、對切割后的上玻璃基板(1)和下玻璃基板(7)進行磨邊和倒角，先X磨邊，再倒角，旋轉(zhuǎn)90°再對Y磨邊及倒角； C、刷洗吹干； D、對磨邊和倒角后的上玻璃基板(1)和下玻璃基板(7)進行拋光； E、再刷洗吹干； 第二步，對上玻璃基板(1)和下玻璃基板(7)濺射上干涉層一(4)、上透明鈍化層(5)、下干涉層一(8)、下透明鈍化層(9); A、對拋光刷洗吹干后上玻璃基板(1)和下玻璃基板(7)沿空氣面(3)粘合在一起進行加熱；采用的加熱溫度為150-280攝氏度； B、利用磁控濺射真空鍍膜設備對加熱后的上玻璃基板(1)和下玻璃基板(7)的錫面(2)上同時濺射上干涉層一(4)和下干涉層一(8)，上干涉層一(4)和下干涉層一(8)均采用五氧化二鈮，上干涉層一(4)上方和下干涉層一(8)的下方同時濺射上透明鈍化層(5)和下透明鈍化層(9)，上透明鈍化層(5)和下透明鈍化層(9)均采用透明的二氧化硅或透明的氮氧化硅； 第三步，在上玻璃基板(1)和下玻璃基板(7)濺射的上透明鈍化層(5)和下透明鈍化層(9)上，進行上干涉層二(6)和下干涉層二(10)濺射； A、對濺射上干涉層一(4)、上透明鈍化層(5)、下干涉層一(8)、下透明鈍化層(9)后的上玻璃基板(1)和下玻璃基板(7)進行加熱；加熱溫度采用280-380攝氏度； B、利用磁控濺射真空鍍膜設備，對加熱后的上玻璃基板(1)和下玻璃基板(7)，在上玻璃基板⑴和下玻璃基板(7)的上透明鈍化層(5)和下透明鈍化層(9)上，同時進行上干涉層二(6)和下干涉層二(10)濺射，上干涉層二(6)和下干涉層二(10)均采用五氧化二鈮； C、對濺射上干涉層二(6)和下干涉層二(10)后的上玻璃基板(1)和下玻璃基板(7)，經(jīng)緩沖室做退火處理:先降溫至200攝氏度，再加溫至300攝氏度穩(wěn)定，完成對上玻璃基板(1)和下玻璃基板(7)的鍍膜。
【專利摘要】一種雙面觸摸屏消影導電玻璃的加工方法，第一步，對上玻璃基板和下玻璃基板進行處理，第二步，對上玻璃基板和下玻璃基板濺射上干涉層一、上透明鈍化層、下干涉層一、下透明鈍化層；第三步，在上玻璃基板和下玻璃基板濺射的上透明鈍化層和下透明鈍化層上，進行上干涉層二和下干涉層二濺射；具有良好的電磁屏蔽、靜電防護和消影作用，并且能夠完全代替現(xiàn)有的傳統(tǒng)導電玻璃，為下游客戶提供低耗能、高均勻性、低成本的制作電容屏用導電玻璃。
【IPC分類】C03C27/06, C03C17/34
【公開號】CN105236770
【申請?zhí)枴緾N201510695002
【發(fā)明人】譚華, 秦遵紅, 王戀貴, 董安光
【申請人】洛陽康耀電子有限公司
【公開日】2016年1月13日
【申請日】2015年10月19日