一種窯變晶花引晶定色陶瓷磚的制備方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明屬于建筑陶瓷裝飾技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種窯變晶花引晶定色定位陶瓷磚的制備方法。
【背景技術(shù)】
[0002]隨著建筑陶瓷市場(chǎng)產(chǎn)品的不斷更新，為了降低成本，微晶磚應(yīng)運(yùn)而生。微晶玻璃與陶瓷磚二次燒結(jié)復(fù)合在陶瓷?；u表面而成的新型環(huán)保型高檔建筑瓷磚。其不僅避免了天然石材存在的瑕疵，而且集玻璃、石材、陶瓷于一身，產(chǎn)品結(jié)構(gòu)致密、具有玉質(zhì)般的感覺(jué)。目前，微晶陶瓷復(fù)合磚或微晶通體板是將微晶熔塊顆粒復(fù)合于陶瓷磚表面或全熔塊在模具上堆燒經(jīng)過(guò)高溫晶化燒結(jié)而成。但是，按照目前的生產(chǎn)工藝，陶瓷制品的花色要通過(guò)復(fù)雜的噴墨打印或各種各樣印花或不同布料設(shè)備來(lái)完成。生產(chǎn)出來(lái)的產(chǎn)品不足之處比較落后平面化，缺乏立體層次感，紋理不夠清晰，并且每塊板花色一樣，大面積鋪用比較呆板和不自然。
[0003]窯變釉指釉料在高溫?zé)傻倪^(guò)程中，多色組分相互流淌或擴(kuò)散，出窯后呈現(xiàn)出色差反差、圖案花紋變化莫測(cè)、獨(dú)一無(wú)二的釉色效果。窯變釉是一種藝術(shù)釉，其變化多端，色彩豐富，高貴典雅，目前廣泛應(yīng)用于工藝品瓷器中。由于普通常規(guī)窯變產(chǎn)品中發(fā)色是難以控制，無(wú)法做到隨心所欲的生產(chǎn)出所需要色系的產(chǎn)品，故難以大面積應(yīng)用于建筑陶瓷裝飾領(lǐng)域。
[0004]中國(guó)專(zhuān)利CN102936156 A公開(kāi)一種高溫快燒結(jié)晶釉仿古磚的釉料及制備工藝，其在磚坯上依次施結(jié)晶基釉、結(jié)晶劑，在結(jié)晶基釉或結(jié)晶劑中還可添加著色劑，燒成后得到具有晶花藝術(shù)效果的結(jié)晶釉仿古磚。中國(guó)專(zhuān)利CN 104829268 A公開(kāi)一種快燒結(jié)晶釉陶瓷磚的制備方法，在陶瓷磚坯上依次布施底釉、結(jié)晶釉、透明面釉。中國(guó)專(zhuān)利CN 104311155 A公開(kāi)一種結(jié)晶釉瓷磚及其生產(chǎn)方法，其在結(jié)晶熔塊中隨機(jī)點(diǎn)上晶種，以實(shí)現(xiàn)定位析晶，晶種是在結(jié)晶熔塊基礎(chǔ)上加大量氧化鋅熔制而成的高鋅熔塊、氧化鋅或結(jié)晶高鋅釉漿。另外，其還公開(kāi)了在結(jié)晶熔塊中摻入著色金屬氧化物，實(shí)現(xiàn)晶花炫彩裝飾。但是，CN 104311155 A中只為隨機(jī)點(diǎn)上晶種，無(wú)法實(shí)現(xiàn)晶花定色定位。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]針對(duì)上述問(wèn)題，本發(fā)明的目的在于提供一種窯變晶花引晶定色定位陶瓷磚的制備方法，以控制窯變產(chǎn)品的顏色深淺，獲得所需花式圖案的瓷磚產(chǎn)品。
[0006]本發(fā)明提供一種窯變晶花引晶定色定位陶瓷磚的制備方法，包括以下步驟:
(1)在磚坯上依次施底釉、施窯變釉、定位施引晶釉；
(2)將步驟(I)所得的磚坯進(jìn)行燒成。
[0007]本發(fā)明中，在施窯變釉后再定位施引晶釉料，從而可使引晶體按照設(shè)計(jì)生產(chǎn)所需，進(jìn)行引晶定色定位分布，在設(shè)計(jì)指定的位置中生成晶花，使晶花在整片陶瓷產(chǎn)品的分布可出現(xiàn)深淺漸變的效果。本發(fā)明通過(guò)定位施引晶釉料(引晶劑)的制備方式，在瓷磚表面定色定位，產(chǎn)生深淺漸變的色彩，從而可燒成所需要的晶花，實(shí)現(xiàn)了顏色和晶花位置的人為可控性。與現(xiàn)有技術(shù)(例如CN 104311155 A)相比，本發(fā)明進(jìn)行定色定位晶種，產(chǎn)生深淺漸變的色彩，使燒成的瓷磚產(chǎn)品大大增強(qiáng)了層次感，讓晶花的色彩更加豐富。
[0008]較佳地，步驟(I)中，所述磚坯的制備包括壓坯成型、干燥、以及于900?1050°C素?zé)?。通過(guò)將磚坯于900?1050 °C素?zé)梢詿ヅ黧w中的水份，便于釋放晶花，穩(wěn)定和增強(qiáng)坯體的強(qiáng)度，也避免了因釉料偏厚使坯體內(nèi)部燒不透造成對(duì)產(chǎn)品質(zhì)量的影響。
[0009]較佳地，所述引晶釉料包括氧化鋅與石英，更優(yōu)選地，按質(zhì)量百分比計(jì)，所述引晶釉料的組成包括:氧化鋅45?60%，石英石45?60%，氧化鈦2?15%，本引晶劑的作用原理是，以氧化鋅、石英與氧化鈦結(jié)合作為引晶劑添加到釉料中，這樣在燒成的過(guò)程中，有效地簡(jiǎn)化了結(jié)晶晶花效果的形成，而且本發(fā)明通過(guò)定色定位施引晶劑的制備方式，在瓷磚表面定色定位生產(chǎn)出所需要的晶花，產(chǎn)生深淺漸變的色彩，實(shí)現(xiàn)顏色和晶花位置的人為可控性。
[0010]較佳地，引晶釉料的印刷方式為絲網(wǎng)印刷、但不限于絲網(wǎng)印刷、還可以甩點(diǎn)、打點(diǎn)、輥筒、噴墨，優(yōu)選為絲網(wǎng)印刷包括一網(wǎng)或多網(wǎng)組合方式。根據(jù)本發(fā)明，采用絲網(wǎng)印刷、甩點(diǎn)、打點(diǎn)、輥筒、噴墨等方式進(jìn)行施引晶釉，同時(shí)，由二臺(tái)或以上的絲網(wǎng)印裝備，一網(wǎng)和二網(wǎng)及多網(wǎng)的釉料可不同，以此方式達(dá)到一塊磚面上可有二種以上的引晶劑，即一塊磚上可以生產(chǎn)出二種或多種顏色的窯變晶花磚。
[0011]較佳地，本發(fā)明利用引晶的方法，將引晶釉料與著色劑相結(jié)合。從而通過(guò)絲網(wǎng)、輥筒、打點(diǎn)、甩點(diǎn)、噴墨等工藝方式，在指定的位置中生成所需的晶花效果。
[0012]較佳地，所述窯變釉組成部分包括:按質(zhì)量百分比計(jì)，低溫熔塊40?50%，鈉長(zhǎng)石6?12%，F(xiàn)e3O4 4?12%，F(xiàn)e2O3 4?12%，氧化鋅8?12%，硼砂 14?18%，高嶺土3?5%。
[0013]較佳地，步驟(I)中，在定位施引晶釉后，再于其上施透明保護(hù)釉。在最外層施加透明保護(hù)釉，目的是為了加強(qiáng)耐磨性，并增強(qiáng)結(jié)晶釉析晶效果，玲瓏通透，更具立體感。同時(shí)透明保護(hù)釉可以加入著色劑，以彌補(bǔ)及增強(qiáng)晶花的色彩變化。
[0014]較佳地，所述透明保護(hù)釉的組成部分包括:按質(zhì)量百分比計(jì)，低溫熔塊35?40%，氧化鋅22?28%，硅灰石8?10%，鈉長(zhǎng)石15?20%，高鉛熔塊5?12%，高嶺土 3?5%。
[0015]較佳地，所述底釉的組成部分包括:按質(zhì)量百分比計(jì)，鉀長(zhǎng)石25?32%，鈉長(zhǎng)石8?12%，石英15?25%，石灰石5?10%，燒骨石1?15%，燒土8?15%，高嶺土2?5%。
[0016]較佳地，步驟(2)中，燒成溫度為1100?1300°C，燒成時(shí)間為70?130分鐘。
[0017]根據(jù)本發(fā)明的方法制備的窯變晶花釉拋陶瓷磚釉面堅(jiān)硬，通透性高，立體感強(qiáng)，可進(jìn)行釉拋處理，可以滿(mǎn)足消費(fèi)者更高藝術(shù)裝飾需求。
【附圖說(shuō)明】
[0018]圖1是本發(fā)明一個(gè)示例的工藝流程圖；
圖2是本發(fā)明一個(gè)示例的釉料施釉順序示意圖；
圖3是根據(jù)本發(fā)明一個(gè)示例的方法制得的藍(lán)色晶花效果圖；
圖4是根據(jù)本發(fā)明一個(gè)示例的方法制得的粉色晶花效果圖。
【具體實(shí)施方式】
[0019]下結(jié)合附圖和下述實(shí)施方式進(jìn)一步說(shuō)明本發(fā)明，應(yīng)理解，附圖及下述實(shí)施方式僅用于說(shuō)明本發(fā)明，而非限制本發(fā)明。以下各配方中，如無(wú)特別說(shuō)明，各成分的含量均指質(zhì)量百分比。
[0020]針對(duì)目前市場(chǎng)上生產(chǎn)的微晶磚技術(shù)缺陷，硬度不夠，花式呆板，圖案生硬等問(wèn)題，本發(fā)明提供一種新型的窯變晶花釉拋陶瓷磚及其制備方法，該磚的特點(diǎn)是釉面堅(jiān)硬，通透性高，立體感強(qiáng)，可進(jìn)行釉拋處理。
[0021]由于普通常規(guī)窯變產(chǎn)品中發(fā)色是難以控制，無(wú)法做到隨心所欲的生產(chǎn)出所需要色系的產(chǎn)品，故難以大面積應(yīng)用于建筑陶瓷裝飾領(lǐng)域，本發(fā)明利用引晶的方法，在施窯變釉之前，先印刷引晶劑，讓引晶體按照生產(chǎn)所需要，進(jìn)行引晶定位分布，在設(shè)計(jì)指定的位置中生成晶花，使晶花在整片陶瓷磚的分布錯(cuò)落均衡。
[0022]圖1示出本發(fā)明的陶瓷磚的制備方法的工藝流程圖。以下，作為示例，參照?qǐng)D1說(shuō)明本發(fā)明的制備方法。
[0023]首先，制備磚坯。其可按常規(guī)方法制備，例如將陶瓷粉料壓制形成坯體。壓坯后，將磚坯素?zé)?，以燒去坯體中的水份，便于更好的釋放晶花，穩(wěn)定和增強(qiáng)坯體的強(qiáng)度。素?zé)臏囟瓤蔀?00?1050°C。
[0024]接著，如圖2所示，可在素?zé)玫拇u坯I上施底釉2。施釉方式包括但不限于噴釉、淋釉等。通過(guò)在磚還上施底釉，作為磚還與釉料中間結(jié)合層，有遮蓋底還瑕瘋及不良物質(zhì)的作用。在一個(gè)示例中，按質(zhì)量百分比計(jì)算，底釉料組成部分包括:鉀長(zhǎng)石25?32%，鈉長(zhǎng)石8?12%，石英15?25%，石灰石5~ 10%，燒滑石1?15%，燒土8?15%，高嶺土2~5%。底釉的細(xì)度為0.4~
1.0g，325目篩，比重為1.76-1.86g，流速為20?80秒，單位面積所施的底釉重量為200?300g/m2。
[0025]在施底釉2后的磚面上，施窯變釉3，方式包括但不限于噴釉、淋釉等。在一個(gè)示例中，按質(zhì)量百分比計(jì)算，窯變釉料組成部分包括:低溫熔塊40-50%，鈉長(zhǎng)石6?12%，F(xiàn)e3044?12%，F(xiàn)e2034?12%，氧化鋅8?12%，硼砂14?18%，高嶺土3~5%。窯變釉的細(xì)度為0.4?0.8g，325目篩，比重為1.76-1.86g，流速為50?100秒。單位面積所施的窯變釉重量可為450?600g/m2。窯變釉中還可包括著色劑成份。著色劑可為陶瓷色料，例如著色金屬氧化物，包括但不限于氧化銀、氧化鐵、氧化鉆、氧化猛、氧化絡(luò)等。著色劑與S變軸的質(zhì)量比可為2%?35%。
[0026]施窯變釉3后，印刷引晶釉料4，目的是讓引晶體按照生產(chǎn)所需要，進(jìn)行引晶定位分布，在設(shè)計(jì)指定的位置中生成晶花，使晶花在整片陶瓷磚的分布錯(cuò)落均衡(如圖3、4所示)。印刷方式包括但不限于絲網(wǎng)印刷、還可以甩點(diǎn)、打點(diǎn)、輥筒、噴