制得最終產品。例如，在 具有上述表面層的玻璃成型體上，以單層或層積的形式適當?shù)貙l 203、Zr02-Ti02、MgF2等材 料進行成膜，從而可以形成所期望的防反射膜。防反射膜的成膜方法可以利用蒸鍍法、離子 輔助蒸鍍法、離子電鍍法、濺射法等公知的方法來進行。例如，利用蒸鍍法的情況下，使用蒸 鍍裝置，在l(T 4T〇rr左右的真空氣氛中，利用電子束、直接通電或電弧對蒸鍍材料進行加熱， 將從材料蒸發(fā)和升華產生的材料的蒸汽輸送至基材之上，進行凝縮/析出，從而能夠形成防 反射膜。基材加熱溫度可以設為室溫~400 °C左右。但是，基材的玻璃轉變溫度(Tg)為450 °C 以下的情況下，基材加熱的上限溫度優(yōu)選為Tg_50°C。
[0115] 本發(fā)明的一個方式的光學元件可以為直徑小、壁薄的小質量透鏡，例如為便攜式 攝像機等搭載的小型攝像系用透鏡、通信用透鏡、光拾取用的物鏡、準直透鏡等。對于透鏡 形狀沒有特別限定，可以為凸彎月形透鏡、凹彎月形透鏡、雙凸透鏡、雙凹透鏡等各種形狀。 [0 116]實施例
[0117] 以下基于實施例進一步對本發(fā)明進行說明。但本發(fā)明并不限于實施例所示的方 式。
[0118] 以下所述的玻璃轉變溫度和弛垂溫度是利用理學電機株式會社的熱機械分析裝 置將升溫速度設定為4°C/分鐘而測定得到的值。
[0119] 對于折射率(nd)和阿貝值(vd)而言，對將緩冷降溫速度設定為_30°C/小時而得到 的光學玻璃進行測定。
[0120] [實施例1]
[0121] (1)模壓成型用玻璃坯料的制作
[0122] 對于作為模壓成型用玻璃坯料PF的芯部玻璃1的光學玻璃，使用表1所述的屬于玻 璃I的光學玻璃1-1、屬于玻璃II的光學玻璃11-1，利用以下的工序在其表面進行鋯氧化物 膜的成膜。
[0123] 首先，將作為芯部玻璃1的光學玻璃以熔融狀態(tài)滴加至收容模具，進行冷卻，預成 型為單側為凸面、相反側為凹面的形狀的玻璃塊。針對該預成型的玻璃塊，將金屬鋯(Zr)用 于靶材，在Ar 100 %的氣氛中以300°C的成膜溫度利用濺射法進行被覆膜(膜厚：約5nm)的 成膜。膜厚通過濺射條件來調整。如此得到的模壓成型用玻璃坯料的外形尺寸為l〇mm~ 11mm,中心部壁厚為7mm~11mm。
[0124] [表 1]
[0125] (單位:質量％)
[0126]
?〇?27]~(2)基于精密模壓成型的 1模壓成型體的制作 ' '
[0128] 接著，在氮氣氣氛下，利用模具壓制成型裝置對上述(1)制作的模壓成型用玻璃坯 料PF進行模壓成型。即，使用在成型面形成了基于濺射法的含碳脫模膜的由SiC制的上下 模、和體模構成的成型模具，以非氧化性的犯氣體將成型裝置的腔室內氣氛充滿，然后加熱 至芯玻璃的粘度為10 7'2dPa · s的溫度，供給至以芯玻璃的粘度計加熱至相當于108'5dPa · s 的溫度的成型模具。并且，在供給后不久在上下模具間進行玻璃坯料的模壓(模壓溫度675 °C)，在維持玻璃與上下模具的密合的情況下冷卻至芯玻璃的緩冷溫度以下的溫度，從成型 模具內取出成形體(光學透鏡）。成型體的外徑尺寸為20.0mm、中心壁厚為0.70mm。接著，對 于模壓成型體的外周部，利用磨削加工進行定心，得到Φ 18mm的凹彎月形的非球面玻璃透 鏡。
[0129] [實施例2]
[0130] 在模壓成型用玻璃坯料的制作（1)中，使用金屬鈦(Ti)來代替金屬鋯，在芯部玻璃 1-1、11-1分別形成膜厚約5nm的被覆膜，除此之外，與實施例1同樣地得到凹彎月形的非球 面玻璃透鏡。
[0131] [實施例3]
[0132] 在模壓成型用玻璃坯料的制作（1)中，使用金屬鉭(Ta)來代替金屬鋯，在芯部玻璃 I- 1、11-1分別形成膜厚約5nm的被覆膜，除此之外，與實施例1同樣地得到凹彎月形的非球 面玻璃透鏡。
[0133] [實施例4]
[0134] 在模壓成型用玻璃坯料的制作（1)中，使用金屬鎢(W)來代替金屬鋯，在芯部玻璃 II- 1形成膜厚約5nm的被覆膜，除此之外，與實施例1同樣地得到凹彎月形的非球面玻璃透 鏡。
[0135] [實施例5]
[0136] 在模壓成型用玻璃坯料的制作（1)中，使用金屬鈮(Nb)來代替金屬鋯，在芯部玻璃 II-1形成膜厚約5nm的被覆膜，除此之外，與實施例1同樣地得到凹彎月形的非球面玻璃透 鏡。
[0137] [比較例1]
[0138] 在模壓成型用玻璃坯料的制作（1)中，使用金屬釔(Y)來代替金屬鋯，在芯部玻璃 1-1形成膜厚約5nm的被覆膜，除此之外，與實施例1同樣地得到凹彎月形的非球面玻璃透 鏡。
[0139] [比較例2]
[0140] 在芯部玻璃1-1的表面依次形成日本特開2011-1259號公報的實施例1~6中的作 為表面層的Zr0 2膜和Si02膜，除此之外，與實施例1同樣地得到凹彎月形的非球面玻璃透鏡。 Zr02膜和Si02膜的膜厚分別為約5nm〇
[0141] 〈氣泡發(fā)生的有無的評價〉
[0142] 利用光學顯微鏡以50倍的倍率對實施例、比較例中制作的各透鏡進行觀察，確認 透鏡內有無氣泡，結果為，在由實施例1~4制作的透鏡中，完全沒有觀察到氣泡。作為代表 例，圖2中示出了由實施例1制作的透鏡(芯部玻璃:表1中的1-1)的光學顯微鏡照片?？梢源_ 認到:得到了沒有氣泡且具有高透明性的均質的透鏡。
[0143]與此相對，在由比較例1、2制作的透鏡中，確認到大量的直徑50μπι以上的氣泡。圖3 中示出了將由比較例2制作的透鏡(芯部玻璃:表1中的1-1)的一部分擴大并拍照而得到的 光學顯微鏡照片?？梢源_認到:產生了大量氣泡。
[0144] 在比較例2中，被覆芯部玻璃的被覆膜為Zr02膜等化學計量組成的膜。這種金屬氧 化物膜在模壓成型時會使從氧化物玻璃游離出來的氧透過，無法進入膜中。透過膜的氧被 封閉在模壓成型模具內而無法向外部放出。其結果為，再次透過膜而回到玻璃，在玻璃中引 起發(fā)泡。
[0145] 〈氣泡中的氣體組成的確認〉
[0146] 利用質量分析法(Mass Spectrometry)對由比較例2制作的透鏡（芯部玻璃:玻璃 1-1)中的氣泡中的氣體組成進行分析，結果為N2:89%、02:11%，即使在氮氣氣氛下進行模 壓成型，也檢測出了超過10%的氧。該結果可以證明，如上所述，來源于氧化物玻璃的氧為 氣泡發(fā)生的原因。
[0147] 〈模壓成型前后的被覆膜的狀態(tài)確認(實施例1、比較例2)>
[0148] 對于使用玻璃1-1作為芯部玻璃由實施例1、比較例2制作的透鏡、以及與在該成型 中使用的模壓成型用玻璃坯料相同的條件下制作的模壓成型用玻璃，利用以下方法通過 TOF-SIMS(Time-〇f-flight secondary ion mass spectrometer:飛行時間二次離子質譜 分析法)進行從表面起深度方向的組成分析。
[0149] 基于T0F-SIMS的深度方向分析
[0150] 使用I0N-T0F社制造的T0F-SMS300,實施深度方向測定。T0F-SIMS為照射脈沖化 的一次離子并對發(fā)生的二次離子進行檢測的手法。在T0F-SMS的深度方向分析中，反復進 行以下（i)~照射一次離子、（ii)對所發(fā)生的二次離子進行測算、（iii)照射濺射 離子，從而取得數(shù)據(jù)。
[0151] 一次離子源使用Bi3++、施加于Bi3 ++-次離子源的柱（column)的電壓為25kV。將一 次離子源的電流設定為〇.2pA來進行測定。一次離子源的照射面積（=對二次離子進行檢測 的測定區(qū)域)為100μπι見方，二次離子檢測為負離子。
[0152] 濺射源使用Cs。濺射源的加速在lkV、電流值為75.4nA的條件下進行調整。濺射源 的面積為400μπι見方的條件下進行濺射。
[0153]圖4示出了關于實施例1的模壓后(透鏡）的基于T0F-SMS的二次離子強度的深度 方向分析結果。圖5示出了關于實施例1的模壓前(未模壓品）的基于T0F-SMS的二次離子強 度的深度方向分析結果。圖中，二次離子強度的單位為任意單位。在后述的附圖中也是同樣 的。
[0154] 在實施例1中，在芯部玻璃作為被覆膜形成的鋯氧化物的膜厚為約5nm。圖中，作為 各試料中的來源于鋯氧化物的二次離子，記載為ZrO和Zr0 2。另外，雖然從圖中省略，但各試 料中都檢測出了Zr單質。未檢測到Zr2,因此單質的Zr并非來源于金屬Zr，而是來源于鋯氧 化物。由此，模壓前后的被覆膜均為鋯氧化物。需要說明的是，圖5所示的模壓前的Zr0、Zr0 2 的分析結果中，在表面附近分別確認到2個峰。本發(fā)明人推測，表面附近的第一個峰為自然 氧化膜，第二個峰為在成膜時因與玻璃的反應而產生的。通過基于T0F-S頂S的二次離子強 度的深度方向分析檢測出的Si0 2來源于玻璃所含有的Si02。在各試料中，作為Si02強度在表 面附近上升的理由，是因為表面存在少許混入物(例如硅氧烷等）。
[0155] 圖6是對圖4、5中的Zr02/Zr0的二次離子強度比（以下記載為"Zr02/Zr0強度比"）進 行比較的結果。Zr0 2/Zr0強度比為表示鋯氧化物膜中的氧化的程度的指標。然而，對于自鋯 氧化物的表面起2nm左右的范圍內，因自然氧化物膜的影響而無法作為評述的對象。在圖6 所示的結果中，對于從深度2nm左右至5nm左右的區(qū)域為止的Zr0 2/Zr0強度比而言，與模壓 前相比，模壓后有所增加。由該結果可確認到:鋯氧化物的氧化因模壓而得到促進。
[0156] 需要說明的是，模壓成型前的上述被覆膜為鋯氧化物膜的情況下，可以得到