一種在ovd沉積過程中保護(hù)噴燈導(dǎo)軌的裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型屬于光纖預(yù)制棒生產(chǎn)制造技術(shù)領(lǐng)域，尤其是涉及一種在0VD沉積過程中保護(hù)噴燈導(dǎo)軌的裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]由于使用大直徑光纖預(yù)制棒拉絲，能夠大大的提高光纖的生產(chǎn)效率，有效的降低光纖的生產(chǎn)成本，在大直徑光纖預(yù)制棒生產(chǎn)上，0VD技術(shù)作為生產(chǎn)預(yù)制棒包層的工藝具有得天獨(dú)厚的技術(shù)優(yōu)勢，因此，0VD技術(shù)必將受到越來越多的企業(yè)家們的關(guān)注和青睞。
[0003]0VD技術(shù)的工藝原理是火焰水解反應(yīng)，所謂火焰水解反應(yīng)，是指四氯化硅(SiC14)、四氯化鍺(GeC14)蒸汽與氫氧焰發(fā)生水解反應(yīng)，生成玻璃微粒，其化學(xué)反應(yīng)方程式如公式1、公式2所示:
[0004]SiC14+2H2+02—Si02+4HCl1.....................公式 1
[0005]GeC14+2H2+02—Ge02+4HCl1.....................公式 2
[0006]OVD技術(shù)的工藝過程如下:四氯化硅(SiC14)、四氯化鍺(GeC14)蒸汽通過噴燈噴出，與噴燈口的氫氧焰發(fā)生水解反應(yīng)，生成Si02微粒;控制噴燈沿噴燈導(dǎo)軌來回運(yùn)動(dòng)，從而將Si02微粒逐層均勻的沉積在勻速旋轉(zhuǎn)的母棒表面;通過控制光纖預(yù)制棒中每一層二氧化鍺(Ge02)的含量，實(shí)現(xiàn)光纖預(yù)制棒折射率剖面分布的控制。由于0VD技術(shù)生產(chǎn)光纖預(yù)制棒時(shí)，是噴燈沿著噴燈導(dǎo)軌來回運(yùn)動(dòng)，將Si02顆粒沉積在母棒表面的，因此，光纖預(yù)制棒的以下幾個(gè)性能受噴燈導(dǎo)軌精度的影響:
[0007](1)光纖預(yù)制棒的外徑波動(dòng):噴燈導(dǎo)軌精度達(dá)不到要求，噴燈導(dǎo)軌表面不平整，在0VD沉積過程中，噴燈沿噴燈導(dǎo)軌來回運(yùn)動(dòng)時(shí)不穩(wěn)定，導(dǎo)致部分位置沉積時(shí)間長，部分位置沉積時(shí)間短，使生產(chǎn)的光纖預(yù)制棒外徑不均勻；
[0008](2)芯包同心度:噴燈導(dǎo)軌精度達(dá)不到要求，噴燈導(dǎo)軌軸向準(zhǔn)直不合格，在0VD沉積過程中，噴燈沿噴燈導(dǎo)軌來回運(yùn)動(dòng)時(shí)，呈微小的“S”型運(yùn)動(dòng)，導(dǎo)致沉積的光纖預(yù)制棒芯包同心度不合格；
[0009](3)光纖預(yù)制棒的光學(xué)性能:噴燈導(dǎo)軌精度達(dá)不到要求，在0VD沉積過程中，噴燈沿噴燈導(dǎo)軌來回運(yùn)動(dòng)時(shí)不穩(wěn)定，導(dǎo)致光纖預(yù)制棒每一層不均勻，影響光纖預(yù)制棒的折射率剖面分布，這必將影響到光纖預(yù)制棒的光學(xué)性能。
[0010]由上可知，為保證光纖預(yù)制棒的質(zhì)量，需要噴燈導(dǎo)軌的精度達(dá)到很高的要求，一般在5μπι/πι以內(nèi)，因此，噴燈導(dǎo)軌的材質(zhì)一般都是不銹鋼。然而，傳統(tǒng)0VD沉積設(shè)備的噴燈導(dǎo)軌是裸露在沉積腔內(nèi)，其結(jié)構(gòu)如圖1所示，只有導(dǎo)軌表面的一層潤滑油用作防護(hù)，但是，由公式
1、公式2可知，0VD沉積腔內(nèi)是強(qiáng)酸性和高溫環(huán)境，因此，在使用一段時(shí)間后，噴燈導(dǎo)軌會被腐蝕，一方面，噴燈導(dǎo)軌被腐蝕后，將破壞噴燈導(dǎo)軌的精度，同時(shí)，噴燈導(dǎo)軌被酸性氣體腐蝕產(chǎn)生的鐵離子，在高溫條件下?lián)]發(fā)，會被氣流攜帶滲進(jìn)光纖預(yù)制棒中，這些都將影響到光纖預(yù)制棒的質(zhì)量，導(dǎo)致光纖預(yù)制棒不合格，使得報(bào)廢率升高，增加光纖預(yù)制棒的生產(chǎn)成本。另一方面，噴燈導(dǎo)軌被腐蝕后，需停止生產(chǎn)，更換噴燈導(dǎo)軌，勢必影響設(shè)備的生產(chǎn)效率，同時(shí)，噴燈導(dǎo)軌價(jià)格昂貴，較高頻次更換噴燈導(dǎo)軌，會大大的增加光纖預(yù)制棒的生產(chǎn)成本。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0011]有鑒于此，本實(shí)用新型旨在提出一種在0VD沉積過程中保護(hù)噴燈導(dǎo)軌的裝置，能夠有效對保護(hù)噴燈導(dǎo)軌不被腐蝕或生長銹斑。
[0012]為達(dá)到上述目的，本實(shí)用新型的技術(shù)方案是這樣實(shí)現(xiàn)的:
[0013]—種在0VD沉積過程中保護(hù)噴燈導(dǎo)軌的裝置，包括L型氣封結(jié)構(gòu)、擋板、以及滑動(dòng)安裝在噴燈導(dǎo)軌上的滑動(dòng)模塊、以及安裝在滑動(dòng)模塊上的噴燈基座;所述擋板設(shè)置在所述噴燈導(dǎo)軌一側(cè);所述L型氣封結(jié)構(gòu)的短立臂設(shè)置在所述噴燈導(dǎo)軌異于設(shè)置有擋板的一側(cè)，其長臥臂朝所述擋板方向橫穿入所述噴燈基座的凹槽內(nèi)；所述長臥臂朝向擋板的一端設(shè)有一排氣封端面小孔，在所述擋板朝向所述L型氣封結(jié)構(gòu)的一側(cè)對應(yīng)氣封端面小孔的位置設(shè)有一排擋板端面小孔;所述擋板與所述長臥臂之間留有氣簾間隙；所述氣封端面小孔均與所述L型氣封結(jié)構(gòu)上設(shè)置的氣封氮?dú)饨涌谶B通;所述擋板端面小孔均與所述擋板上設(shè)置的擋板氮?dú)饨涌谶B通;所述噴燈基座內(nèi)設(shè)有與所述噴燈連通的氣體管路。
[0014]進(jìn)一步，所述噴燈基座上的氣體管路與噴燈的主管路采用軟管連接。
[0015]進(jìn)一步，所述L型氣封結(jié)構(gòu)為具有氣封空腔的中空結(jié)構(gòu)，其上的所述氣封氮?dú)饨涌诩皻夥舛嗣嫘】拙c所述氣封空腔連通。
[0016]進(jìn)一步，所述擋板為具有擋板空腔的中空結(jié)構(gòu)，其上的所述擋板氮?dú)饨涌诩皳醢宥嗣嫘】拙c所述擋板空腔連通。
[0017]進(jìn)一步，所述擋板與所述長臥臂之間的氣簾間隙為2cm?2.5cm。
[0018]相對于現(xiàn)有技術(shù)，本實(shí)用新型具有以下優(yōu)勢:
[0019]將噴燈導(dǎo)軌與0VD沉積腔內(nèi)的強(qiáng)酸性、高溫環(huán)境隔絕，保護(hù)噴燈導(dǎo)軌不被腐蝕或生長銹斑，不僅能大大的延長噴燈導(dǎo)軌的使用壽命，減少設(shè)備的停機(jī)時(shí)間，降低生產(chǎn)成本，而且，也能在較長的時(shí)間內(nèi)，保證噴燈導(dǎo)軌的精度，從而，確保0VD沉積工藝環(huán)境的穩(wěn)定性，減少廣品的不合格率或報(bào)廢率，提尚廣品質(zhì)量。
【附圖說明】
[0020]構(gòu)成本實(shí)用新型的一部分的附圖用來提供對本實(shí)用新型的進(jìn)一步理解，本實(shí)用新型的示意性實(shí)施例及其說明用于解釋本實(shí)用新型，并不構(gòu)成對本實(shí)用新型的不當(dāng)限定。在附圖中:
[0021 ]圖1為噴燈導(dǎo)軌裸露在沉積腔內(nèi)的傳統(tǒng)OVD沉積設(shè)備結(jié)構(gòu)示意圖；
[0022]圖2為本實(shí)用新型的立體結(jié)構(gòu)不意圖；
[0023]圖3為本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)剖視圖。
[0024]附圖標(biāo)記說明:
[0025]1-噴燈導(dǎo)軌，2-滑動(dòng)模塊，3-噴燈基座，4-噴燈，5-L型氣封結(jié)構(gòu)，6_氣封氮?dú)饨涌冢?_擋板，8-擋板氮?dú)饨涌冢?-氣體管路，10-氣封端面小孔，11-保護(hù)腔體，12-擋板端面小孔，13-擋板空腔，14-氣封空腔，15-短立臂，16-長臥臂，17-凹槽，18-氣簾間隙。
【具體實(shí)施方式】
[0026]需要說明的是，在不沖突的情況下，本實(shí)用新型中的實(shí)施例及實(shí)施例中的特征可以相互組合。
[0027]下面將參考附圖并結(jié)合實(shí)施例來詳細(xì)說明本實(shí)用新型。
[0028]一種在0VD沉積過程中保護(hù)噴燈導(dǎo)軌的裝置，如圖2和圖3所示，包括L型氣封結(jié)構(gòu)
5、擋板7、以及滑動(dòng)安裝在噴燈導(dǎo)軌1上的滑動(dòng)模塊2、以及安裝在滑動(dòng)模塊2上的噴燈基座3;所述擋板7設(shè)置在所述噴燈導(dǎo)軌1 一側(cè);所述L型氣封結(jié)構(gòu)5的短立臂15設(shè)置在所述噴燈導(dǎo)軌1異于設(shè)置有擋板7的一側(cè)，其長臥臂16朝所述擋板7方向橫穿入所述噴燈基座3的凹槽17內(nèi)；所述長臥臂16朝向擋板7的一端設(shè)有一排氣封端面小孔10，在所述擋板7朝向所述L型氣封結(jié)構(gòu)5的一側(cè)對應(yīng)氣封端面小孔10的位置設(shè)有一排擋板端面小孔12;所述擋板7與所述長臥臂16之間留有氣簾間隙18;所述氣封端面小孔10均與所述L型氣封結(jié)構(gòu)5上設(shè)置的氣封氮?dú)饨涌?連通;所述擋板端面小孔12均與所述擋板7上設(shè)置的擋板氮?dú)饨涌?連通;所述噴燈基座3內(nèi)設(shè)有與所述噴燈4連通的氣體管路9。需要指出的是，擋板7與噴燈基座3之間、以及L型氣封結(jié)構(gòu)5的長臥臂16與噴燈基座3之間均有一定間隙，會由通入的氮?dú)飧艚^0VD沉積時(shí)的強(qiáng)酸性、高溫環(huán)境。