專利名稱：：感射線性樹脂組合物、層間絕緣膜和微透鏡以及它們的形成方法
技術(shù)領(lǐng)域：
：本發(fā)明涉及感射線性樹脂組合物、層間絕緣膜和孩i透鏡以及它們的形成方法。
背景技術(shù)：
：薄膜晶體管(以下稱為"TFT")型液晶顯示元件及有機(jī)EL顯示元件、磁頭元件、集成電路元件、固態(tài)圖像傳感器等電子部件，通常在層狀布置的布線之間為了絕緣而設(shè)置層間絕緣膜。由于作為形成層間絕緣膜的材料，優(yōu)選為獲得必要圖案形狀所需的工序少、且具有足夠好的平坦性的材料，因而感射線性樹脂組合物被廣泛地使用(參見專利文獻(xiàn)1和專利文獻(xiàn)2)。上述電子部件中，例如TFT型液晶顯示元件，由于要經(jīng)過在上述層間絕緣膜上形成透明電極膜，再在其上形成液晶取向膜的工序制成，因而層間絕緣膜在透明電極膜形成工序要經(jīng)受高溫條件，并且要經(jīng)受電極圖案形成時所使用的保護(hù)層的剝離液，因此，必須對其具有非常好的耐受性。又，近年來，TFT型液晶顯示元件正處于大屏幕化、高亮度化、高精細(xì)化、快速響應(yīng)化、薄型化等的趨勢下，作為其中所用的層間絕緣膜形成用組合物，要求具有高敏感度，所形成的層間絕緣膜在低介電常數(shù)、高透光率等方面與以往的相比也要求有提高的高性能。作為這種低介電常數(shù)、高透光率的層間絕緣膜，已知丙烯酸樹脂與醌二疊氮的組合(專利文獻(xiàn)3)和酚樹脂與醌二疊氮的組合(專利文獻(xiàn)4)。但是，這些材料在形成膜后的加熱工序中會發(fā)生脫氣，出現(xiàn)透明性降低的問題等。此外，由以前已知的感射線樹脂組合物形成層間絕緣膜時的顯影工序中，如果顯影時間哪怕是稍微超過最佳時間，也會出現(xiàn)發(fā)生圖案脫落的情況。從提高液晶顯示元件的生產(chǎn)成品率、提高可靠性的角度出發(fā)，要求改善被稱為"燒屏"的液晶顯示元件的顯示不良。"燒屏"，是從液晶顯示元件的內(nèi)部固化膜等向液晶溶出雜質(zhì)、未固化物等，在施加電壓時發(fā)生液晶響應(yīng)缺陷，使液晶顯示元件中產(chǎn)生殘像的問題。這種問題是使液晶顯示元件生產(chǎn)力下降、可靠性受損的大問題。這樣，在由感射線性樹脂組合物形成層間絕緣膜時，作為組合物，要求有高的敏感度，并且顯示有良好的密合性以使其在形成工序的顯影工序中，即使當(dāng)顯影時間超出規(guī)定時間時，也不會發(fā)生圖案的脫落，并且要求由其形成的層間絕緣膜具有高耐熱性、高耐溶劑性、低介電常數(shù)、高透光率、高電壓保持率等，而滿足這些要求的感射線性樹脂組合物迄今還是未知的。一方面，作為傳真機(jī)、電子復(fù)印機(jī)、固態(tài)圖像傳感器等芯片內(nèi)濾色器成像光學(xué)系統(tǒng)或者光纖連接器的光學(xué)系統(tǒng)材料，使用具有3~100pm左右透鏡直徑的微透鏡，或者將這些微透鏡按規(guī)律排列而成的微透鏡陣列。微透鏡或者微透鏡陣列的形成，已知有在形成相當(dāng)于透鏡的透鏡圖案后，通過加熱處理使其進(jìn)行熔體流動后直接作為透鏡使用的方法，或者將由熔體流動形成的透鏡圖案作為掩模，通過干法蝕刻向底層轉(zhuǎn)印透鏡形狀的方法等。在上述透鏡圖案的形成中，廣泛地使用感射線性樹脂組合物(參見專利文獻(xiàn)5和專利文獻(xiàn)6)。然而，由如上所述的微透鏡或微透鏡陣列形成的元件，在之后為了作為除去布線形成部分的焊盤上的各種絕緣膜，要涂敷平坦化膜和蝕刻用保護(hù)膜，再用所需掩模進(jìn)行曝光、顯影，除去焊盤部分的蝕刻保護(hù)膜，然后，通過蝕刻除去平坦化膜和各種絕緣膜，將焊盤部分供給曝光工序。因此，微透鏡或者微透鏡陣列在平坦化膜和蝕刻保護(hù)膜的涂敷形成工序中以及蝕刻工序中必須具有耐溶劑性和耐熱性。形成這種微透鏡用的感射線性樹脂組合物要求具有高敏感度，并且，要求由其形成的微透鏡具有所需的曲率半徑，并具有高耐熱性、高透光率等。此外，由以前已知的感射線性樹脂組合物形成的孩i透鏡，在其形成時的顯影工序中，如果顯影時間哪怕是稍微超出最佳時間，在圖案與基板之間很容易發(fā)生顯影液滲透而導(dǎo)致脫落，因而必須嚴(yán)格控制顯影時間，制品的成品率方面很成問題。這樣，在由感射線性樹脂組合物形成微透鏡時，作為組合物，要求有高的敏感度，并且顯示有良好的密合性以使其在形成工序的顯影工序中，即使當(dāng)顯影時間超出規(guī)定時間時，也不會發(fā)生圖案的脫落；并且作為微透鏡，要求具有良好的熔融形狀即所需曲率半徑的熔融形狀、高耐熱性、高耐溶劑性、高透光率，而滿足這些要求的感射線性樹脂組合物迄今還是未知的。另外，作為高耐熱性、高透明性、低介電常數(shù)的材料，已知硅氧烷聚合物，將其用于層間絕緣膜也是已知的(參見專利文獻(xiàn)7)，但是為了使硅氧烷充分交聯(lián)，必須經(jīng)過250~300'C以上的高溫烘焙，因而存在不能應(yīng)用于生產(chǎn)顯示元件中的問題。另外，雖然進(jìn)行了將硅氧烷聚合物應(yīng)用于微透鏡的嘗試，但是迄今仍未知工業(yè)上成功的例子。專利文獻(xiàn)1專利文獻(xiàn)2專利文獻(xiàn)3專利文獻(xiàn)4專利文獻(xiàn)5專利文獻(xiàn)6專利文獻(xiàn)7
發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明是基于以上情況而作出的。因此，本發(fā)明的目的是提供一種感射線性樹脂組合物，當(dāng)其在不到250°C的烘焙條件下用于形成層間絕緣膜時，能夠形成高耐熱性、高耐溶劑性、高透光率、低介電常數(shù)、高電壓保持率的層間絕緣膜，并且當(dāng)用于形成微透鏡時，能夠形成具有高透光率和良好的熔融形狀的微透鏡。本發(fā)明的另一目的是提供一種感射線性樹脂組合物，其具有高的射線敏感度，并且具有在顯影工序中即使超出最佳顯影時間也能形成良好圖案形狀的顯影余量，能夠容易地形成密合性優(yōu)良的圖案狀薄膜。本發(fā)明的又一目的是提供一種用上述感射線性樹脂組合物形成層間絕緣膜和微透鏡的方法。本發(fā)明的再一目的是提供由本發(fā)明的方法形成的層間絕緣膜和微透鏡。本發(fā)明的其它目的和優(yōu)點(diǎn)可以由以下的說明獲悉。根據(jù)本發(fā)明，本發(fā)明的上述目的和優(yōu)點(diǎn)，第一，由一種感射曰本4爭開2001—354822號^>沖艮曰本凈爭開2001—343743號/>才艮曰本4爭開2005—320542號/^才艮曰本特開2003-255546號公報曰本特開平6-18702號公才艮曰本特開平6-136239號公報曰本4+開2006—178436號乂^才艮線性樹脂組合物達(dá)成，其特征在于包括(al)下述式(l)表示的硅烷化合物與(&2)下述式(2)表示的硅烷化合物的水解縮合物聚硅氧烷，l,2-醌二疊氮化合物，(式(1)中，X'表示乙烯基、烯丙基、(曱基)丙烯酰氧基、苯乙烯基或乙烯基千氧基，Y'表示單鍵、亞曱基或碳原子數(shù)為2~6的亞烷基，R1表示碳原子數(shù)為1~6的烷氧基或碳原子數(shù)為2~6的酰氧基，R表示碳原子數(shù)為1~6的烷基或取代或未取代的碳原子數(shù)為612的芳基，a和b各自表示1~3的整數(shù)，c表示02的整數(shù)，并且a+b+c-4)，SiR5gR6h(2)(式(2)中，RS表示取代或未取代的碳原子數(shù)為1~6的烷氧基、取代或未取代的碳原子數(shù)為6~18的芳氧基或碳原子數(shù)為2~6的酰氧基，116表示取代或未取代的碳原子數(shù)為16的烷基或取代或未取代的碳原子數(shù)為6~18的芳基，g表示1~4的整數(shù)，h表示0~3的整數(shù)，并且g+h=4)。本發(fā)明的上述目的和優(yōu)點(diǎn)，第二，由一種層間絕緣膜或微透鏡的形成方法達(dá)成，其按照下述順序包括以下工序，(1)在基板上形成上述感射線性樹脂組合物的覆膜的工序，(2)對該覆膜的至少一部分照射射線的工序，(3)將照射射線后的覆膜進(jìn)行顯影的工序，和(4)將顯影后的覆膜進(jìn)行加熱的工序。此外，本發(fā)明的上述目的和優(yōu)點(diǎn)，第三，由采用上述方法形成的層間絕緣膜或者微透鏡達(dá)成。根據(jù)本發(fā)明的感射線性樹脂組合物，即使在不到250°C的烘焙條件下，也能夠形成具有足夠的硬度，耐溶劑性和耐熱性優(yōu)良，并且具有高透光率、低介電常數(shù)、高電壓保持率的層間絕緣膜。并且，本發(fā)明的感射線性樹脂組合物，具有高的射線敏感度，并且具有在顯影工序中即使超出最佳顯影時間也能形成良好圖案形狀的顯影余量，能夠容易地形成密合性優(yōu)良的圖案狀薄膜。并且，由上述組合物形成的本發(fā)明的微透鏡，對基板的密合性良好，耐溶劑性和耐熱性優(yōu)良，且具有高透光率和良好的熔融形狀，可適合作為固態(tài)圖像傳感器的微透鏡使用。圖l(a)和l(b)為微透鏡的斷面形狀示意圖。具體實(shí)施例方式以下，對本發(fā)明的感射線性樹脂組合物進(jìn)行詳細(xì)說明。『Al成分本發(fā)明中所用的[A]成分，是具有聚合性不飽和鍵的聚硅氧烷，可以列舉例如具有聚合性不飽和鍵和水解性基團(tuán)的硅烷化合物(以下也稱為"化合物(al)")的水解縮合物(以下也稱為"聚硅氧烷[A]")?；衔?al)優(yōu)選為下述式(l)表示的硅烷化合物，、/a(1)(式(1)中，X'表示乙烯基、烯丙基、(曱基)丙烯酰氧基、苯乙烯基或乙烯基芐氧基，yj表示單鍵、亞甲基或碳原子數(shù)為2~6的亞烷基，R'表示碳原子數(shù)為1~6的烷氧基或碳原子數(shù)為2~6的酰氧基，112表示碳原子數(shù)為1~6的烷基或者取代或未取代的碳原子數(shù)為612的芳基，a和b各自表示l3的整凄史，c表示02的整數(shù)，并且a+b+c-4)。作為上述式(l)中的Y1,優(yōu)選亞甲基或者碳原子數(shù)為2或3的亞烷基。作為碳原子數(shù)為2或3的亞烷基，可以列舉例如亞乙基、1,3-亞丙基等。另外，作為上述式(l)中的R1,優(yōu)選碳原子數(shù)為1~3的烷氧基或者碳原子數(shù)為2~4的酰氧基，可以列舉例如甲氧基、乙氧基、正丙氧基、異丙氧基、乙酰氧基等。此外，作為上述式(l)中的R2,優(yōu)選碳原子數(shù)為1~4的烷基或者碳原子數(shù)為6~8的芳基，可以列舉例如曱基、乙基、苯基等。作為R2的取代芳基的取代基可以列舉例如卣素原子、氰基、硝基或碳原子數(shù)為16的烷基等。作為這種化合物(al)的具體例子，可以列舉例如乙烯基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙氧基硅烷、乙烯基三正丙氧基硅烷、乙烯基三異丙氧基硅烷、乙烯基三乙酰氧基硅烷、乙烯基曱基二曱氧基硅烷、乙烯基曱基二乙氧基硅烷、乙烯基曱基二正丙氧基硅烷、乙烯基甲基二異丙氧基硅烷、乙烯基甲基二乙酰氧基硅烷、乙烯基乙基二曱氧基硅烷、乙烯基乙基二乙氧基硅烷、乙烯基乙基二正丙氧基硅烷、乙烯基乙基二異丙氧基硅烷、乙烯基乙基二乙酰氧基硅烷、乙烯基苯基二曱氧基硅烷、乙烯基苯基二乙氧基硅烷、乙烯基苯基二正丙氧基硅烷、乙烯基苯基二異丙氧基硅烷、乙烯基苯基二乙酰氧基硅烷、烯丙基三甲氧基硅烷、烯丙基三乙氧基硅烷、烯丙基三正丙氧基硅烷、烯丙基三異丙氧基硅烷、烯丙基三乙酰氧基硅烷、烯丙基甲基二甲氧基硅烷、烯丙基曱基二乙氧基硅烷、蜂丙基曱基二正丙氧基硅烷、烯丙基曱基二異丙氧基硅烷、烯丙基曱基二乙酰氧基硅烷、烯丙基乙基二甲氧基硅烷、烯丙基乙基二乙氧基硅烷、烯丙基乙基二正丙氧基硅烷、烯丙基乙基二異丙氧基硅烷、烯丙基乙基二乙酰氧基硅烷、烯丙基苯基二甲氧基硅烷、烯丙基苯基二乙氧基硅烷、烯丙基苯基二正丙氧基硅烷、烯丙基苯基二異丙氧基硅烷、烯丙基苯基二乙酰氧基硅烷、(甲基)丙烯酰氧基曱基三曱氧基硅烷、(曱基)丙烯酰氧基甲基三乙氧基硅烷、(甲基)丙烯酰氧基曱基三正丙氧基硅烷、(甲基)丙烯酰氧基曱基三乙酰氧基硅烷、(曱基)丙烯酰氧基曱基甲基二曱氧基硅烷、(曱基)丙烯酰氧基甲基曱基二乙氧基硅烷、(曱基)丙烯酰氧基曱基甲基二正丙氧基硅烷、(曱基)丙烯酰氧基甲基甲基二乙酰氧基硅烷、(曱基)丙烯酰氧基甲基乙基二甲氧基硅烷、(曱基)丙烯酰氧基曱基乙基二乙氧基硅烷、(曱基)丙烯酰氧基甲基乙基二正丙氧基硅烷、(曱基)丙烯酰氧基曱基乙基二乙酰氧基硅烷、(曱基)丙烯酰氧基曱基苯基二甲氧基硅烷、(曱基)丙烯酰氧基甲基苯基二乙氧基硅烷、(曱基)丙烯酰氧基甲基苯基二正丙氧基硅烷、(曱基)丙烯酰氧基甲基苯基二乙酰氧基硅烷、2-(曱基)丙烯酰氧基乙基三曱氧基硅烷、2-(曱基)丙烯酰氧基乙基三乙氧基硅烷、2-(曱基)丙烯酰氧基乙基三正丙氧基硅烷、2-(曱基)丙烯酰氧基乙基三乙酰氧基硅烷、2-(曱基)丙烯酰氧基乙基曱基二甲氧基硅烷、2-(曱基)丙烯酰氧基乙基曱基二乙氧基硅烷、2-(甲基)丙烯酰氧基乙基曱基二正丙氧基硅烷、2-(甲基)丙烯酰氧基乙基甲基二乙酰氧基硅烷、2-(曱基)丙烯酰氧基乙基乙基二曱氧基硅烷、2-(曱基)丙烯酰氧基乙基乙基二乙氧基硅烷、2-(曱基)丙烯酰氧基乙基乙基二正丙氧基硅烷、2-(曱基)丙烯酰氧基乙基乙基二乙酰氧基硅烷、2-(曱基)丙烯酰氧基乙基苯基二甲氧基硅烷、2-(甲基)丙烯酰氧基乙基苯基二乙氧基硅烷、2-(曱基)丙烯酰氧基乙基苯基二正丙氧基硅烷、2-(甲基)丙烯酰氧基乙基苯基二乙酰氧基硅烷、3-(甲基)丙烯酰氧基丙基三曱氧基硅烷、3-(甲基)丙烯酰氧基丙基三乙氧基硅烷、3-(曱基)丙烯酰氧基丙基三正丙氧基硅烷、3-(曱基)丙烯酰氧基丙基三乙酰氧基硅烷、3-(曱基)丙烯酰氧基丙基曱基二曱氧基硅烷、3-(甲基)丙烯酰氧基丙基甲基二乙氧基硅烷、3-(曱基)丙烯酰氧基丙基曱基二正丙氧基硅烷、3-(甲基)丙烯酰氧基丙基甲基二乙酰氧基硅烷、3-(甲基)丙烯酰氧基丙基乙基二曱氧基硅烷、3-(曱基)丙烯酰氧基丙基乙基二乙氧基硅烷、3-(甲基)丙烯酰氧基丙基乙基二正丙氧基硅烷、3-(甲基)丙烯酰氧基丙基乙基二乙酰氧基硅烷、3-(曱基)丙烯酰氧基丙基苯基二曱氧基硅烷、3-(曱基)丙烯酰氧基丙基苯基二乙氧基硅烷、3-(甲基)丙烯酰氧基丙基苯基二正丙氧基硅烷、3-(曱基)丙烯酰氧基丙基苯基二乙酰氧基硅烷、對苯乙烯基三曱氧基硅烷、對苯乙烯基三乙氧基硅烷、對苯乙烯基三正丙氧基硅烷、對苯乙烯基三乙酰氧基硅烷、對苯乙烯基甲基二曱氧基硅烷、對苯乙烯基甲基二乙氧基硅烷、對苯乙烯基甲基二正丙氧基硅烷、對苯乙烯基甲基二乙酰氧基硅烷、對苯乙烯基乙基二曱氧基硅烷、對苯乙烯基乙基二乙氧基硅烷、對苯乙烯基乙基二正丙氧基硅烷、對苯乙烯基乙基二乙酰氧基硅烷、對苯乙烯基苯基二曱氧基硅烷、對苯乙烯基苯基二乙氧基硅烷、對苯乙烯基苯基二正丙氧基硅烷、對苯乙烯基苯基二乙酰氧基硅烷、間苯乙烯基三甲氧基硅烷、間苯乙烯基三乙氧基硅烷、間苯乙烯基三正丙氧基硅烷、間苯乙烯基三乙酰氧基硅烷、間苯乙烯基曱基二曱氧基硅烷、間苯乙烯基曱基二乙氧基硅烷、間苯乙烯基曱基二正丙氧基硅烷、間苯乙烯基曱基二乙酰氧基硅烷、間苯乙烯基乙基二曱氧基硅烷、間苯乙烯基乙基二乙氧基硅烷、間苯乙烯基乙基二正丙氧基硅烷、間苯乙烯基乙基二乙酰氧基硅烷、間苯乙烯基苯基二曱氧基硅烷、間苯乙烯基苯基二乙氧基硅烷、間苯乙烯基苯基二正丙氧基硅烷、間苯乙烯基苯基二乙酰氧基硅烷等；對乙烯基千氧基三甲氧基硅烷、對乙烯基卡氧基三乙氧基硅烷、對乙烯基千氧基三正丙氧基硅烷、對乙烯基千氧基三乙酰氧基硅烷、對乙烯基千氧基曱基二甲氧基硅烷、對乙烯基芐氧基曱基二乙氧基硅烷、對乙烯基芐氧基曱基二正丙氧基硅烷、對乙烯基千氧基曱基二乙酰氧基硅烷、對乙烯基千氧基乙基二甲氧基硅烷、對乙烯基千氧基乙基二乙氧基硅烷、對乙烯基千氧基乙基二正丙氧基硅烷、對乙烯基芐氧基乙基二乙酰氧基硅烷、對乙烯基芐氧基苯基二曱氧基硅烷、對乙烯基芐氧基苯基二乙氧基硅烷、對乙烯基節(jié)氧基苯基二正丙氧基硅烷、對乙烯基千氧基苯基二乙酰氧基硅烷、間乙烯基芐氧基三甲氧基硅烷、間乙烯基芐氧基三乙氧基硅烷、間乙烯基千氧基三正丙氧基硅烷、間乙烯基芐氧基三乙酰氧基硅烷、間乙烯基節(jié)氧基甲基二曱氧基硅烷、間乙烯基芐氧基曱基二乙氧基硅烷、間乙烯基芐氧基曱基二正丙氧基硅烷、間乙烯基節(jié)氧基曱基二乙酰氧基硅烷、間乙烯基芐氧基乙基二曱氧基硅烷、間乙烯基千氧基乙基二乙氧基硅烷、間乙烯基芐氧基乙基二正丙氧基硅烷、間乙烯基千氧基乙基二乙酰氧基硅烷、間乙烯基節(jié)氧基苯基二曱氧基硅烷、間乙烯基芐氧基苯基二乙氧基硅烷、間乙烯基卡氧基苯基二正丙氧基硅烷、間乙烯基芐氧基苯基二乙酰氧基硅烷等；其中，從提高感射線性樹脂組合物的敏感度、增大顯影余量、提高耐熱性的角度考慮，優(yōu)選使用乙烯基三曱氧基硅烷、乙烯基三乙氧基硅烷、烯丙基三曱氧基硅烷、烯丙基三乙氧基硅烷、3-甲基丙烯酰氧基丙基三曱氧基硅烷、3-曱基丙烯酰氧基丙基三乙氧基硅烷、對苯乙烯基三曱氧基硅烷、對苯乙烯基三乙氧基硅烷。這些化合物(al)可以單獨(dú)或兩種以上組合4吏用。本發(fā)明中的聚硅氧烷[A],優(yōu)選為上述化合物(al)與下述式(2)表示的化合物(以下也稱為"化合物(a2)")的水解縮合物。SiR5gR6h(式(2)中，RS表示取代或未取代的碳原子數(shù)為1~6的烷氧基、取代或未取代的碳原子數(shù)為6~18的芳氧基或碳原子數(shù)為2~6的酰氧基，116表示取代或未取代的碳原子數(shù)為1~6的烷基或取代或未取代的碳原子數(shù)為618的芳基，g表示14的整數(shù)，h表示03的整數(shù)，并且g+h=4)。作為上述式(2)中的R5，優(yōu)選碳原子數(shù)為1~4的烷氧基、碳原子數(shù)為6~12的芳氧基或者碳原子數(shù)為2~4的酰氧基，可以列舉例如甲氧基、乙氧基、正丙氧基、異丙氧基、苯氧基、萘氧基、乙酰氧基等。作為RS中碳原子數(shù)為1-6的烷氧基的取代基，可以列舉例如甲氧基、乙氧基等。作為R5中碳原子數(shù)為8~18的芳氧基的取代基，可以列舉例如卣素原子、氰基、硝基或碳原子數(shù)為1~6的烷基等?？梢粤信e4-氯苯氧基、4-氰基苯氧基、4-硝基苯氧基、4-曱苯曱酰氧基等。此外，作為上述式(2)中的R6，優(yōu)選碳原子數(shù)為1-5的烷基或碳原子數(shù)為6~8的芳基，可以列舉例如曱基、乙基、正丙基、異丙基、戊基、苯基等。作為取代的碳原子數(shù)為1-6的烷基的取代基，可以列舉例如環(huán)氧乙基、縮水甘油基、縮水甘油醚基、3,4-環(huán)氧環(huán)己基、3-氧雜環(huán)丁烷基、輕基、羥基苯基酰氧基、巰基、下述式(2-l)表示的基團(tuán)等，HO-Y2-S-(2-1)(式(2_l)中，Y"表示亞甲基、碳原子數(shù)為2-6的亞烷基或碳原子數(shù)為6~12的亞芳基)。上述3-氧雜環(huán)丁烷基的3位碳原子上任選可被曱基、乙基、正丙基等碳原子數(shù)為16的烷基取代。作為取代的碳原子數(shù)為6-18的芳基的取代基，可以列舉例如卣素原子、羥基、氰基、硝基、巰基或碳原子數(shù)為16的烷基等。作為化合物(a2)的具體例子，可以列舉例如四曱氧基硅烷、四乙氧基硅烷、四正丙氧基硅烷、四異丙氧基硅烷、四正丁氧基硅烷之類的四烷氧基硅烷；甲基三曱氧基硅烷、曱基三乙氧基硅烷、曱基三正丙氧基硅烷、乙基三甲氧基硅烷、乙基三乙氧基硅烷、正丙基三曱氧基硅烷、正丙基三乙氧基硅烷、環(huán)己基三乙氧基硅烷之類的單烷基三烷氧基硅烷；苯基三甲氧基硅烷、苯基三乙氧基硅烷、笨基三丙氧基硅烷、萘基三乙氧基硅烷、4-氯苯基三乙氧基硅烷、4-氰基笨基三乙氧基硅烷、4-硝基苯基三乙氧基硅烷、4-曱基苯基三乙氧基硅烷之類的單芳基三烷氧基硅烷；苯氧基三乙氧基硅烷、萘氧基三乙氧基硅烷、4-氯苯氧基三乙氧基硅烷、4-氰基苯氧基三乙氧基硅烷、4-硝基苯氧基三乙氧基硅烷、4-曱基苯氧基三乙氧基硅烷之類的單芳氧基三烷氧基硅烷；二甲基二甲氧基硅烷、二乙基二乙氧基硅烷、二曱基二正丙氧基硅烷、甲基(乙基)二乙氧基硅烷、甲基(環(huán)己基)二乙氧基硅烷之類的二烷基二烷氧基硅烷；曱基(苯基)二乙氧基硅烷之類的單烷基單芳基二烷氧基硅烷；二苯基二乙氧基硅烷之類的二芳基二烷氧基硅烷；二苯氧基二乙氧基硅烷之類的二芳氧基二烷氧基硅烷；曱基(苯氧基)二乙氧基硅烷之類的單烷基單芳氧基二烷氧基硅烷；笨基(苯氧基)二乙氧基硅烷之類的單芳基單芳氧基二烷氧基硅烷；三曱基甲氧基硅烷、三曱基乙氧基硅烷、三甲基正丙氧基硅烷、二曱基(乙基)乙氧基硅烷、二曱基(環(huán)己基)乙氧基硅烷之類的三烷基單烷氧基硅烷；二曱基(苯基)乙氧基硅烷之類的二烷基單芳基單烷氧基硅烷；曱基(二苯基)乙氧基硅烷之類的單烷基二芳基單烷氧基硅烷；三苯氧基乙氧基硅烷之類的三芳氧基單烷氧基硅烷；曱基(二苯氧基)乙氧基硅烷之類的單烷基二芳氧基單烷氧基硅炕；苯基(二苯氧基)乙氧基硅烷之類的單芳基二芳氧基單烷氧基硅烷；二曱基(苯氧基)乙氧基硅烷之類的二烷基單芳氧基單烷氧基硅烷；二苯基(苯氧基)乙氧基之類的二芳基單芳氧基單烷氧基硅烷；甲基(苯基)(苯氧基)乙氧基硅烷之類的單烷基單芳基單芳氧基單烷氧基硅烷；環(huán)氧丙氧基曱基三曱氧基硅烷、環(huán)氧丙氧基曱基三乙氧基硅烷、環(huán)氧丙氧基曱基三正丙氧基硅烷、環(huán)氧丙氧基曱基三異丙氧基硅烷、環(huán)氧丙氧基甲基三乙酰氧基硅烷、環(huán)氧丙氧基曱基甲基二甲氧基硅烷、環(huán)氧丙氧基甲基甲基二乙氧基硅烷、環(huán)氧丙氧基曱基甲基二正丙氧基硅烷、環(huán)氧丙氧基甲基曱基二異丙氧基硅烷、環(huán)氧丙氧基甲基曱基二乙酰氧基硅烷、環(huán)氧丙氧基曱基乙基二曱氧基硅烷、環(huán)氧丙氧基曱基乙基二乙氧基硅烷、環(huán)氧丙氧基曱基乙基二正丙氧基硅烷、環(huán)氧丙氧基曱基乙基二異丙氧基硅烷、環(huán)氧丙氧基曱基乙基二乙酰氧基硅烷、環(huán)氧丙氧基曱基苯基二曱氧基硅烷、環(huán)氧丙氧基曱基苯基二乙氧基硅烷、環(huán)氧丙氧基甲基苯基二正丙氧基硅烷、環(huán)氧丙氧基曱基苯基二異丙氧基硅烷、環(huán)氧丙氧基甲基苯基二乙酰氧基硅烷、2-環(huán)氧丙氧基乙基三曱氧基硅烷、2-環(huán)氧丙氧基乙基三乙氧基硅烷、2-環(huán)氧丙氧基乙基三正丙氧基硅烷、2-環(huán)氧丙氧基乙基三異丙氧基硅烷、2-環(huán)氧丙氧基乙基三乙酰氧基硅烷、2-環(huán)氧丙氧基乙基曱基二甲氧基硅烷、2-環(huán)氧丙氧基乙基曱基二乙氧基硅烷、2-環(huán)氧丙氧基乙基曱基二正丙氧基硅烷、2-環(huán)氧丙氧基乙基曱基二異丙氧基硅烷、2-環(huán)氧丙氧基乙基曱基二乙酰氧基硅烷、2-環(huán)氧丙氧基乙基乙基二曱氧基硅烷、2-環(huán)氧丙氧基乙基乙基二乙氧基硅烷、2-環(huán)氧丙氧基乙基乙基二正丙氧基硅烷、2-環(huán)氧丙氧基乙基乙基二異丙氧基硅烷、2-環(huán)氧丙氧基乙基乙基二乙酰氧基硅烷、2-環(huán)氧丙氧基乙基苯基二甲氧基硅烷、2-環(huán)氧丙氧基乙基苯基二乙氧基硅烷、2-環(huán)氧丙氧基乙基苯基二正丙氧基硅烷、2-環(huán)氧丙氧基乙基苯基二異丙氧基硅烷、2-環(huán)氧丙氧基乙基苯基二乙酰氧基硅烷、3-環(huán)氧丙氧基丙基三曱氧基硅烷、3-環(huán)氧丙氧基丙基三乙氧基硅烷、3-環(huán)氧丙氧基丙基三正丙氧基硅烷、3-環(huán)氧丙氧基丙基三異丙氧基硅烷、3-環(huán)氧丙氧基丙基三乙酰氧基硅烷、3-環(huán)氧丙氧基丙基曱基二曱氧基硅烷、3-環(huán)氧丙氧基丙基甲基二乙氧基硅烷、3-環(huán)氧丙氧基丙基曱基二正丙氧基硅烷、3-環(huán)氧丙氧基丙基曱基二異丙氧基硅烷、3-環(huán)氧丙氧基丙基甲基二乙酰氧基硅烷、3-環(huán)氧丙氧基丙基乙基二曱氧基硅烷、3-環(huán)氧丙氧基丙基乙基二乙氧基硅烷、3-環(huán)氧丙氧基丙基乙基二正丙氧基硅烷、3-環(huán)氧丙氧基丙基乙基二異丙氧基硅烷、3-環(huán)氧丙氧基丙基乙基二乙酰氧基硅烷、3-環(huán)氧丙氧基丙基苯基二曱氧基硅烷、3-環(huán)氧丙氧基丙基苯基二乙氧基硅烷、3-環(huán)氧丙氧基丙基苯基二正丙氧基硅烷、3-環(huán)氧丙氧基丙基苯基二異丙氧基硅烷、3-環(huán)氧丙氧基丙基苯基二乙酰氧基硅烷等；(3,4-環(huán)氧基環(huán)己基)甲基三曱氧基硅烷、(3,4-環(huán)氧基環(huán)己基)甲基三乙氧基硅烷、(3，4-環(huán)氧基環(huán)己基)甲基三正丙氧基硅烷、(3,4-環(huán)氧基環(huán)己基)甲基三乙酰氧基硅烷、(3,4-環(huán)氧基環(huán)己基)甲基甲基二甲氧基硅烷、(3,4-環(huán)氧基環(huán)己基)甲基曱基二乙氧基硅烷、(3,4-環(huán)氧基環(huán)己基)甲基曱基二正丙氧基硅烷、(3,4-環(huán)氧基環(huán)己基)曱基曱基二乙酰氧基硅烷、(3,4-環(huán)氧基環(huán)己基)曱基乙基二曱氧基硅烷、(3，4-環(huán)氧基環(huán)己基)甲基乙基二乙氧基硅烷、(3,4-環(huán)氧基環(huán)己基)曱基乙基二正丙氧基硅烷、(3,4-環(huán)氧基環(huán)己基)甲基乙基二乙酰氧基硅烷、(3,4-環(huán)氧基環(huán)己基)曱基苯基二曱氧基硅烷、(3,4-環(huán)氧基環(huán)己基)曱基苯基二乙氧基硅烷、(3,4-環(huán)氧基環(huán)己基)曱基苯基二正丙氧基硅烷、(3,4-環(huán)氧基環(huán)己基)曱基笨基二乙酰氧基硅烷、2-(3，，4，-環(huán)氧基環(huán)己基)乙基三曱氧基硅烷、2-(3，，4，-環(huán)氧基環(huán)己基)乙基三乙氧基硅烷、2-(3，,4，-環(huán)氧基環(huán)己基)乙基三正丙氧基硅烷、2-(3，，4，-環(huán)氧基環(huán)己基)乙基三乙酰氧基硅烷、2-(3，，4，-環(huán)氧基環(huán)己基)乙基甲基二曱氧基硅烷、2-(3，,4，-環(huán)氧基環(huán)己基)乙基曱基二乙氧基硅烷、2-(3，,4，-環(huán)氧基環(huán)己基)乙基曱基二正丙氧基硅烷、2-(3，，4，-環(huán)氧基環(huán)己基)乙基曱基二乙酰氧基硅烷、2-(3，，4，-環(huán)氧基環(huán)己基)乙基乙基二曱氧基硅烷、2-(3，，4，-環(huán)氧基環(huán)己基)乙基乙基二乙氧基硅烷、2-(3，,4，-環(huán)氧基環(huán)己基)乙基乙基二正丙氧基硅烷、2-(3，,4，-環(huán)氧基環(huán)己基)乙基乙基二乙酰氧基硅烷、2-(3，,4，-環(huán)氧基環(huán)己基)乙基苯基二曱氧基硅烷、2-(3，，4，-環(huán)氧基環(huán)己基)乙基苯基二乙氧基硅烷、2-(3，,4，-環(huán)氧基環(huán)己基)乙基苯基二正丙氧基硅烷、2-(3，，4，-環(huán)氧基環(huán)己基)乙基苯基二乙酰氧基硅烷、3-(3，，4，-環(huán)氧基環(huán)己基)丙基三曱氧基硅烷、3-(3，,4，-環(huán)氧基環(huán)己基)丙基三乙氧基硅烷、3-(3，,4，-環(huán)氧基環(huán)己基)丙基三正丙氧基硅烷、3-(3，,4，-環(huán)氧基環(huán)己基)丙基三乙酰氧基硅烷、3-(3，4-環(huán)氧基環(huán)己基)丙基甲基二曱氧基硅烷、3-(3，,4，-環(huán)氧基環(huán)己基)丙基甲基二乙氧基硅烷、3-(3，，4，-環(huán)氧基環(huán)己基)丙基曱基二正丙氧基硅烷、3-(3，,4，-環(huán)氧基環(huán)己基)丙基甲基二乙酰氧基硅烷、3-(3，，4，-環(huán)氧基環(huán)己基)丙基乙基二曱氧基硅烷、3-(3，,4，-環(huán)氧基環(huán)己基)丙基乙基二乙氧基硅烷、3-(3，，4，-環(huán)氧基環(huán)己基)丙基乙基二正丙氧基硅烷、3-(3，，4，-環(huán)氧基環(huán)己基)丙基乙基二乙酰氧基硅烷、3-(3，，4，-環(huán)氧基環(huán)己基)丙基苯基二甲氧基硅烷、3-(3，，4，-環(huán)氧基環(huán)己基)丙基苯基二乙氧基硅烷、3-(3，,4，-環(huán)氧基環(huán)己基)丙基苯基二正丙氧基硅烷、3-(3，，4，-環(huán)氧基環(huán)己基)丙基苯基二乙酰氧基硅烷等；(氧雜環(huán)丁烷-3-基)曱基三甲氧基硅烷、(氧雜環(huán)丁烷-3-基)曱基三乙氧基硅烷、(氧雜環(huán)丁烷-3-基)曱基三正丙氧基硅烷、(氧雜環(huán)丁烷-3-基)曱基三異丙氧基硅烷、(氧雜環(huán)丁烷-3-基)曱基三乙酰氧基硅烷、(氧雜環(huán)丁烷-3-基)曱基甲基二曱氧基硅烷、(氧雜環(huán)丁烷-3-基)曱基曱基二乙氧基硅烷、(氧雜環(huán)丁烷-3-基)曱基曱基二正丙氧基硅烷、(氧雜環(huán)丁烷-3-基)曱基曱基二異丙氧基硅烷、(氧雜環(huán)丁烷-3-基)曱基甲基二乙酰氧基硅烷、(氧雜環(huán)丁烷-3-基)曱基乙基二甲氧基硅烷、(氧雜環(huán)丁烷-3-基)曱基乙基二乙氧基硅烷、(氧雜環(huán)丁烷-3-基)甲基乙基二正丙氧基硅烷、(氧雜環(huán)丁烷-3-基)甲基乙基二異丙氧基硅烷、(氧雜環(huán)丁烷-3-基)甲基乙基二乙酰氧基硅烷、(氧雜環(huán)丁烷-3-基)曱基苯基二甲氧基硅烷、(氧雜環(huán)丁烷-3-基)甲基苯基二乙氧基硅烷、(氧雜環(huán)丁烷-3-基)曱基苯基二正丙氧基硅烷、(氧雜環(huán)丁烷-3-基)曱基苯基二異丙氧基硅烷、(氧雜環(huán)丁烷-3-基)曱基苯基二乙酰氧基硅烷、2-(氧雜環(huán)丁烷-3，-基)乙基三曱氧基硅烷、2-(氧雜環(huán)丁烷-3，-基)乙基三乙氧基硅烷、(氧雜環(huán)丁烷-3-基)乙基三正丙氧基硅烷、2-(氧雜環(huán)丁烷-3，-基)乙基三異丙氧基硅烷、2-(氧雜環(huán)丁烷-3，-基)乙基三乙酰氧基硅烷、2-(氧雜環(huán)丁烷-3，-基)19乙基曱基二曱氧基硅烷、2-(氧雜環(huán)丁烷-3，-基)乙基曱基二乙氧基硅烷、2-(氧雜環(huán)丁烷-3，-基)乙基曱基二正丙氧基硅烷、2-(氧雜環(huán)丁烷-3，-基)乙基曱基二異丙氧基硅烷、2-(氧雜環(huán)丁烷-3，-基)乙基曱基二乙酰氧基硅烷、2-(氧雜環(huán)丁烷-3，-基)乙基乙基二甲氧基硅烷、2-(氧雜環(huán)丁烷-3，-基)乙基乙基二乙氧基硅烷、2-(氧雜環(huán)丁烷-3，-基)乙基乙基二正丙氧基硅烷、2-(氧雜環(huán)丁烷-3，-基)乙基乙基二異丙氧基硅烷、2-(氧雜環(huán)丁烷-3，-基)乙基乙基二乙酰氧基硅烷、2-(氧雜環(huán)丁烷-3，-基)乙基苯基二曱氧基硅烷、2-(氧雜環(huán)丁烷-3，-基)乙基苯基二乙氧基硅烷、2-(氧雜環(huán)丁烷-3，-基)乙基苯基二正丙氧基硅烷、2-(氧雜環(huán)丁烷-3，-基)乙基苯基二異丙氧基硅烷、2-(氧雜環(huán)丁烷-3，-基)乙基苯基二乙酰氧基硅烷、3-(氧雜環(huán)丁烷-3'-基)丙基三甲氧基硅烷、3-(氧雜環(huán)丁烷-3，-基)丙基三乙氧基硅烷、3-(氧雜環(huán)丁烷-3，-基)丙基三正丙氧基硅烷、3-(氧雜環(huán)丁烷-3，-基)丙基三異丙氧基硅烷、3-(氧雜環(huán)丁烷-3，-基)丙基三乙酰氧基硅烷、3-(氧雜環(huán)丁烷-3，-基)丙基曱基二甲氧基硅烷、3-(氧雜環(huán)丁烷-3，-基)丙基曱基二乙氧基硅烷、3-(氧雜環(huán)丁烷-3，-基)丙基曱基二正丙氧基硅烷、3-(氧雜環(huán)丁烷-3，-基)丙基曱基二異丙氧基硅烷、3-(氧雜環(huán)丁烷-3，-基)丙基甲基二乙酰氧基硅烷、3-(氧雜環(huán)丁烷-3，-基)丙基乙基二曱氧基硅烷、3-(氧雜環(huán)丁烷-3，-基)丙基乙基二乙氧基硅烷、3-(氧雜環(huán)丁烷-3，-基)丙基乙基二正丙氧基硅烷、3-(氧雜環(huán)丁烷-3，-基)丙基乙基二異丙氧基硅烷、3-(氧雜環(huán)丁烷-3，-基)丙基乙基二乙酰氧基硅烷、3-(氧雜環(huán)丁烷-3，-基)丙基苯基二曱氧基硅烷、3-(氧雜環(huán)丁烷-3，-基)丙基苯基二乙氧基硅烷、3-(氧雜環(huán)丁烷-3，-基)丙基苯基二正丙氧基硅烷、3-(氧雜環(huán)丁烷-3，-基)丙基苯基二異丙氧基硅烷、3-(氧雜環(huán)丁烷-3，-基)丙基苯基二乙酰氧基硅烷、(3-曱基氧雜環(huán)丁烷-3-基)曱基三曱氧基硅烷、(3-曱基氧雜環(huán)丁烷-3-基)曱基三乙氧基硅烷、(3-曱基氧雜環(huán)丁烷-3-基)曱基三正丙氧基硅烷、(3-甲基氧雜環(huán)丁烷-3-基)曱基三異丙氧基硅烷、(3-曱基氧雜環(huán)丁烷-3-基)曱基三乙酰氧基硅烷、(3-甲基氧雜環(huán)丁烷-3-基)甲基曱基二曱氧基硅烷、(3-甲基氧雜環(huán)丁烷-3-基)曱基甲基二乙氧基硅烷、(3-甲基氧雜環(huán)丁烷-3-基)曱基曱基二正丙氧基硅烷、(3-曱基氧雜環(huán)丁烷-3-基)曱基甲基二異丙氧基硅烷、(3-甲基氧雜環(huán)丁烷-3-基)曱基曱基二乙酰氧基硅烷、(3-曱基氧雜環(huán)丁烷-3-基)曱基乙基二甲氧基硅烷、(3-曱基氧雜環(huán)丁烷-3-基)甲基乙基二乙氧基硅烷、(3-曱基氧雜環(huán)丁烷-3-基)曱基乙基二正丙氧基硅烷、(3-曱基氧雜環(huán)丁烷-3-基)曱基乙基二異丙氧基硅烷、(3-曱基氧雜環(huán)丁烷-3-基)曱基乙基二乙酰氧基硅烷、(3-甲基氧雜環(huán)丁烷-3-基)曱基苯基二曱氧基硅烷、(3-甲基氧雜環(huán)丁烷-3-基)甲基苯基二乙氧基硅烷、(3-曱基氧雜環(huán)丁烷-3-基)甲基苯基二正丙氧基硅烷、(3-曱基氧雜環(huán)丁烷-3-基)甲基苯基二異丙氧基硅烷、(3-甲基氧雜環(huán)丁烷-3-基)曱基苯基二乙酰氧基硅烷、2-(3，-曱基氧雜環(huán)丁烷-3，-基)乙基三曱氧基硅烷、2-(3，-曱基氧雜環(huán)丁烷-3，-基)乙基三乙氧基硅烷、2-(3，-曱基氧雜環(huán)丁烷-3，-基)乙基三正丙氧基硅烷、2-(3，-甲基氧雜環(huán)丁烷-3，-基)乙基三異丙氧基硅烷、2-(3，-曱基氧雜環(huán)丁烷-3，-基)乙基三乙酰氧基硅烷、2-(3，-曱基氧雜環(huán)丁烷-3，-基)乙基甲基二甲氧基硅烷、2-(3，-甲基氧雜環(huán)丁烷-3，-基)乙基甲基二乙氧基硅烷、2-(3，-甲基氧雜環(huán)丁烷-3，-基)乙基甲基二正丙氧基硅烷、2-(3，-曱基氧雜環(huán)丁烷-3，-基)乙基曱基二異丙氧基硅烷、2-(3，-甲基氧雜環(huán)丁烷-3，-基)乙基曱基二乙酰氧基硅烷、2-(3，-曱基氧雜環(huán)丁烷-3，-基)乙基乙基二曱氧基硅烷、2-(3，-曱基氧雜環(huán)丁烷-3，-基)乙基乙基二乙氧基硅烷、2-(3，-曱基氧雜環(huán)丁烷-3，-基)乙基乙基二正丙氧基硅烷、2-(3，-甲基氧雜環(huán)丁烷-3，-基)乙基乙基二異丙氧基硅烷、2-(3，-曱基氧雜環(huán)丁烷-3，-基)乙基乙基二乙酰氧基硅烷、2-(3，-曱基氧雜環(huán)丁烷-3，-基)乙基苯基二曱氧基硅烷、2-(3，-曱基氧雜環(huán)丁烷-3，-基)乙基苯基二乙氧基硅烷、2-(3，-曱基氧雜環(huán)丁烷-3，-基)乙基笨基二正丙氧基硅烷、2-(3，-甲基氧雜環(huán)丁烷-3，-基)乙基苯基二異丙氧基硅烷、2-(3，-曱基氧雜環(huán)丁烷-3'-基)乙基苯基二乙酰氧基硅烷、3-(3，-甲基氧雜環(huán)丁烷-3，-基)丙基三曱氧基硅烷、3-(3，-曱基氧雜環(huán)丁烷-3，-基)丙基三乙氧基硅烷、3-(3，-曱基氧雜環(huán)丁烷-3，-基)丙基三正丙氧基硅烷、3-(3，-甲基氧雜環(huán)丁烷-3，-基)丙基三異丙氧基硅烷、3-(3，-曱基氧雜環(huán)丁烷-3，-基)丙基三乙酰氧基硅烷、3-(3，-曱基氧雜環(huán)丁烷-3，-基)丙基甲基二甲氧基硅烷、3-(3'-曱基氧雜環(huán)丁烷-3'-基)丙基曱基二乙氧基硅烷、3-(3，-甲基氧雜環(huán)丁烷-3，-基)丙基甲基二正丙氧基硅烷、3-(3，-曱基氧雜環(huán)丁烷-3，-基)丙基曱基二異丙氧基硅烷、3-(3，-甲基氧雜環(huán)丁烷-3，-基)丙基曱基二乙酰氧基硅烷、3-(3，-曱基氧雜環(huán)丁烷-3，-基)丙基乙基二曱氧基硅烷、3-(3，-曱基氧雜環(huán)丁烷-3，-基)丙基乙基二乙氧基硅烷、3-(3，-曱基氧雜環(huán)丁烷-3，-基)丙基乙基二正丙氧基硅烷、3-(3，-曱基氧雜環(huán)丁烷-3，-基)丙基乙基二異丙氧基硅烷、3-(3，-曱基氧雜環(huán)丁烷-3，-基)丙基乙基二乙酰氧基硅烷、3-(3，-甲基氧雜環(huán)丁烷-3，-基)丙基苯基二甲氧基硅烷、3-(3，-甲基氧雜環(huán)丁烷-3，-基)丙基苯基二乙氧基硅烷、3-(3，-曱基氧雜環(huán)丁烷-3，-基)丙基苯基二正丙氧基硅烷、3-(3，-甲基氧雜環(huán)丁烷-3，-基)丙基苯基二異丙氧基硅烷、3-(3，-甲基氧雜環(huán)丁烷-3，-基)丙基苯基二乙酰氧基硅烷、(3，-乙基氧雜環(huán)丁烷-3，-基)甲基三曱氧基硅烷、(3-乙基氧雜環(huán)丁烷-3-基)曱基三乙氧基硅烷、(3-乙基氧雜環(huán)丁烷-3-基)甲基三正丙氧基硅烷、(3-乙基氧雜環(huán)丁烷-3-基)甲基三異丙氧基硅烷、(3-乙基氧雜環(huán)丁烷-3-基)曱基三乙酰氧基硅烷、(3-乙基氧雜環(huán)丁烷-3-基)曱基曱基二曱氧基硅烷、(3-乙基氧雜環(huán)丁烷-3-基)曱基曱基二乙氧基硅烷、(3-乙基氧雜環(huán)丁烷-3-基)曱基甲基二正丙氧基硅烷、(3-乙基氧雜環(huán)丁烷-3-基)曱基曱基二異丙氧基硅烷、(3-乙基氧雜環(huán)丁烷-3-基)甲基甲基二乙酰氧基硅烷、(3-乙基氧雜環(huán)丁烷-3-基)曱基乙基二曱氧基硅烷、(3-乙基氧雜環(huán)丁烷-3-基)曱基乙基二乙氧基硅烷、(3-乙基氧雜環(huán)丁烷-3-基)曱基乙基二正丙氧基硅烷、(3-乙基氧雜環(huán)丁烷-3-基)甲基乙基二異丙氧基硅烷、(3-乙基氧雜環(huán)丁烷-3-基)甲基乙基二乙酰氧基硅烷、(3-乙基氧雜環(huán)丁烷-3-基)曱基苯基二曱氧基硅烷、(3-乙基氧雜環(huán)丁烷-3-基)曱基苯基二乙氧基硅烷、(3-乙基氧雜環(huán)丁烷-3-基)曱基苯基二正丙氧基硅烷、(3-乙基氧雜環(huán)丁烷-3-基)甲基苯基二異丙氧基硅烷、(3-乙基氧雜環(huán)丁烷-3-基)曱基苯基二乙酰氧基硅烷、2-(3，-乙基氧雜環(huán)丁烷-3，-基)乙基三曱氧基硅烷、2-(3，-乙基氧雜環(huán)丁烷-3，-基)乙基三乙氧基硅烷、2-(3，-乙基氧雜環(huán)丁烷-3，-基)乙基三正丙氧基硅烷、2-(3，-乙基氧雜環(huán)丁烷-3，-基)乙基三異丙氧基硅烷、2-(3，-乙基氧雜環(huán)丁烷-3，-基)乙基三乙酰氧基硅烷、2-(3，-乙基氧雜環(huán)丁烷-3，-基)乙基曱基二曱氧基硅烷、2-(3'-乙基氧雜環(huán)丁烷-3'-基)乙基甲基二乙氧基硅烷、2-(3，-乙基氧雜環(huán)丁烷-3'-基)乙基曱基二正丙氧基硅烷、2-(3，-乙基氧雜環(huán)丁烷-3，-基)乙基曱基二異丙氧基硅烷、2-(3，-乙基氧雜環(huán)丁烷-3，-基)乙基甲基二乙酰氧基硅烷、2-(3，-乙基氧雜環(huán)丁烷-3，-基)乙基乙基二甲氧基硅烷、2-(3，-乙基氧雜環(huán)丁烷-3，-基)乙基乙基二乙氧基硅烷、2-(3，-乙基氧雜環(huán)丁烷-3，-基)乙基乙基二正丙氧基硅烷、2-(3，-乙基氧雜環(huán)丁烷-3，-基)乙基乙基二異丙氧基硅烷、2-(3，-乙基氧雜環(huán)丁烷-3，-基)乙基乙基二乙酰氧基硅烷、2-(3，-乙基氧雜環(huán)丁烷-3，-基)乙基苯基二曱氧基硅烷、2-(3，-乙基氧雜環(huán)丁烷-3，-基)乙基苯基二乙氧基硅烷、2-(3，-乙基氧雜環(huán)丁烷-3，-基)乙基苯基二正丙氧基硅烷、2-(3，-乙基氧雜環(huán)丁烷-3'-基)乙基苯基二異丙氧基硅烷、2-(3，-乙基氧雜環(huán)丁烷-3，-基)乙基苯基二乙酰氧基硅烷、3-(3，-乙基氧雜環(huán)丁烷-3，-基)丙基三甲氧基硅烷、3-(3，-乙基氧雜環(huán)丁烷-3，-基)丙基三乙氧基硅烷、3-(3，-乙基氧雜環(huán)丁烷-3，-基)丙基三正丙氧基硅烷、3-(3，-乙基氧雜環(huán)丁烷-3，-基)丙基三異丙氧基硅烷、3-(3，-乙基氧雜環(huán)丁烷-3，-基)丙基三乙酰氧基硅烷、3-(3，-乙基氧雜環(huán)丁烷-3，-基)丙基曱基二曱氧基硅烷、3-(3，-乙基氧雜環(huán)丁烷-3，-基)丙基甲基二乙氧基硅烷、3-(3'-乙基氧雜環(huán)丁烷-3，-基)丙基甲基二正丙氧基硅烷、3-(3，-乙基氧雜環(huán)丁烷-3，-基)丙基曱基二異丙氧基硅烷、3-(3，-乙基氧雜環(huán)丁烷-3，-基)丙基曱基二乙酰氧基硅烷、3-(3，-乙基氧雜環(huán)丁烷-3，-基)丙基乙基二甲氧基硅垸、3-(3，-乙基氧雜環(huán)丁烷-3，-基)丙基乙基二乙氧基硅烷、3-(3，-乙基氧雜環(huán)丁烷-3，-基)丙基乙基二正丙氧基硅烷、3-(3'-乙基氧雜環(huán)丁烷-3，-基)丙基乙基二異丙氧基硅烷、3-(3，-乙基氧雜環(huán)丁烷-3，-基)丙基乙基二乙酰氧基硅烷、3-(3，-乙基氧雜環(huán)丁烷-3，-基)丙基苯基二曱氧基硅烷、3-(3，-乙基氧雜環(huán)丁烷-3，-基)丙基苯基二乙氧基硅烷、3-(3，-乙基氧雜環(huán)丁烷-3，-基)丙基苯基二正丙氧基硅烷、3-(3，-乙基氧雜環(huán)丁烷-3，-基)丙基苯基二異丙氧基硅烷、3-(3，-乙基氧雜環(huán)丁烷-3，-基)丙基苯基二乙酰氧基硅烷等；羥曱基三曱氧基硅烷、羥曱基三乙氧基硅烷、羥曱基三正丙氧基硅烷、羥曱基三異丙氧基硅烷、羥曱基三乙酰氧基硅烷、羥曱基三(曱氧基乙氧基)硅烷、羥甲基曱基二曱氧基硅烷、羥甲基曱基二乙氧基硅烷、羥曱基曱基二正丙氧基硅烷、羥曱基甲基二異丙氧基硅烷、羥曱基甲基二乙酰氧基硅烷、羥曱基乙基二曱氧基硅烷、羥曱基乙基二乙氧基硅烷、羥曱基乙基二正丙氧基硅烷、羥曱基乙基二異丙氧基硅烷、羥曱基乙基二乙酰氧基硅烷、羥曱基乙基二(甲氧基乙氧基)硅烷、輕曱基苯基二曱氧基硅烷、羥曱基苯基二乙氧基硅烷、羥甲基苯基二正丙氧基硅烷、羥曱基苯基二異丙氧基硅烷、羥甲基苯基二乙酰氧基硅烷、羥曱基苯基二(曱氧基乙氧基)硅烷、2-羥基乙基三曱氧基硅烷、2-羥基乙基三乙氧基硅烷、2-羥基乙基三正丙氧基硅烷、2-羥基乙基三異丙氧基硅烷、2-羥基乙基三乙酰氧基硅烷、2-羥基乙基三(曱氧基乙氧基)硅烷、2-羥基乙基甲基二曱氧基硅烷、2-羥基乙基曱基二乙氧基硅烷、2-羥基乙基曱基二正丙氧基硅烷、2-羥基乙基曱基二異丙氧基硅烷、2-羥基乙基曱基二乙酰氧基硅烷、2-幾基乙基乙基二甲氧基硅烷、2-鞋基乙基乙基二乙氧基硅烷、2-羥基乙基乙基二正丙氧基硅烷、2-羥基乙基乙基二異丙氧基硅烷、2-羥基乙基乙基二乙酰氧基硅烷、2-羥基乙基乙基二(曱氧基乙氧基)硅烷、2-羥基乙基苯基二曱氧基硅烷、2-羥基乙基苯基二乙氧基硅烷、2-羥基乙基苯基二正丙氧基硅烷、2-羥基乙基苯基二異丙氧基硅烷、2-羥基乙基苯基二乙酰氧基硅烷、2-羥基乙基苯基二(甲氧基乙氧基)硅烷、3-羥基丙基三曱氧基硅烷、3-羥基丙基三乙氧基硅烷、3-羥基丙基三正丙氧基硅烷、3-羥基丙基三異丙氧基硅烷、3-羥基丙基三乙酰氧基硅烷、3-鞋基丙基三(曱氧基乙氧基)硅烷、3-羥基丙基甲基二曱氧基硅烷、3-羥基丙基曱基二乙氧基硅烷、3-羥基丙基曱基二正丙氧基硅烷、3-羥基丙基甲基二異丙氧基硅烷、3-羥基丙基曱基二乙酰氧基硅烷、3-羥基丙基乙基二甲氧基硅烷、3-羥基丙基乙基二乙氧基硅烷、3-羥基丙基乙基二正丙氧基硅烷、3-羥基丙基乙基二異丙氧基硅烷、3-羥基丙基乙基二乙酰氧基硅烷、3-羥基丙基乙基二(曱氧基乙氧基)硅烷、3-羥基丙基苯基二曱氧基硅烷、3-羥基丙基苯基二乙氧基硅烷、3-羥基丙基苯基二正丙氧基硅烷、3-羥基丙基苯基二異丙氧基硅烷、3-羥基丙基苯基二乙酰氧基硅烷、3-羥基丙基苯基二(曱氧基乙氧基)硅烷、4-羥基苯基三曱氧基硅烷、4-羥基苯基三乙氧基硅烷、4-羥基苯基三正丙氧基硅烷、4-鞋基苯基三異丙氧基硅烷、4-羥基苯基三乙酰氧基硅烷、4-羥基苯基三(曱氧基乙氧基)硅烷、4-羥基苯基曱基二曱氧基硅烷、4-幾基苯基曱基二乙氧基硅烷、4-羥基苯基曱基二正丙氧基硅烷、4-羥基苯基曱基二異丙氧基硅烷、4-羥基苯基甲基二乙酰氧基硅烷、4-羥基苯基乙基二甲氧基硅烷、4-羥基苯基乙基二乙氧基硅烷、4-羥基苯基乙基二正丙氧基硅烷、4-羥基苯基乙基二異丙氧基硅烷、4-羥基苯基乙基二乙酰氧基硅烷、4-羥基苯基乙基二(甲氧基乙氧基)硅烷、4-羥基苯基苯基二甲氧基硅烷、4-羥基苯基苯基二乙氧基硅烷、4-幾基苯基苯基二正丙氧基硅烷、4-鞋基苯基苯基二異丙氧基硅烷、4-羥基苯基苯基二乙酰氧基硅烷、4-羥基苯基苯基二(曱氧基乙氧基)硅烷、4-羥基-5-(對羥基苯曱酰氧基)戊基三甲氧基硅烷、4-羥基-5-(對羥基苯曱酰氧基)戊基三乙氧基硅烷、4-羥基-5-(對羥基苯曱酰氧基)戊基三正丙氧基硅烷、4-羥基-5-(對羥基苯曱酰氧基)戊基三異丙氧基硅烷、4-羥基-5-(對羥基苯甲酰氧基)戊基三乙酰氧基硅烷、4-羥基-5-(對羥基苯曱酰氧基)戊基三(曱氧基乙氧基)硅烷、4-羥基-5-(對羥基苯曱酰氧基)戊基甲基二曱氧基硅烷、4-羥基-5-(對羥基苯曱酰氧基)戊基曱基二乙氧基硅烷、4-羥基-5-(對羥基苯甲酰氧基)戊基曱基二正丙氧基硅烷、4-羥基-5-(對羥基苯曱酰氧基)戊基曱基二異丙氧基硅烷、4-羥基-5-(對羥基苯甲酰氧基)戊基曱基二乙酰氧基硅烷、4-羥基-5-(對羥基苯曱酰氧基)戊基乙基二甲氧基硅烷、4-羥基-5-(對羥基苯甲酰氧基)戊基乙基二乙氧基硅烷、4-羥基-5-(對羥基苯甲酰氧基)戊基乙基二正丙氧基硅烷、4-羥基-5-(對羥基苯甲酰氧基)戊基乙基二異丙氧基硅烷、4-羥基-5-(對羥基苯甲酰氧基)戊基乙基二乙酰氧基硅烷、4-羥基-5-(對幾基苯甲酰氧基)戊基乙基二(曱氧基乙氧基)硅烷、4-鞋基-5-(對羥基苯曱酰氧基)戊基苯基二曱氧基硅烷、4-羥基-5-(對羥基苯曱酰氧基)戊基苯基二乙氧基硅烷、4-羥基-5-(對羥基苯甲酰氧基)戊基苯基二正丙氧基硅烷、4-羥基-5-(對羥基苯曱酰氧基)戊基苯基二異丙氧基硅烷、4-輕基-5-(對羥基苯曱酰氧基)戊基苯基二乙酰氧基硅烷、4-鞋基-5-(對羥基苯曱酰氧基)戊基苯基二(曱氧基乙氧基)硅烷、下述式(2-2)表示的化合物等，HO-Y2-S-Y3-Si(OR)3(2-2)(式(2-2)中，Y2的含義與上述式(2-l)中的相同，ys表示亞曱基或碳原子數(shù)為2~6的亞烷基，R相互獨(dú)立地表示碳原子數(shù)為1~6的烷基或碳原子數(shù)為2~6的?；?。作為含巰基的硅烷化合物，可以列舉例如巰基曱基三曱氧基硅烷、巰基甲基三乙氧基硅烷、巰基甲基三正丙氧基硅烷、巰基曱基三異丙氧基硅烷、巰基甲基三乙酰氧基硅烷、巰基曱基三(曱氧基乙氧基)硅烷、巰基曱基曱基二曱氧基硅烷、巰基曱基曱基二乙氧基硅烷、巰基甲基曱基二正丙氧基硅烷、巰基曱基甲基二異丙氧基硅烷、琉基曱基甲基二乙酰氧基硅烷、巰基曱基乙基二曱氧基硅烷、巰基曱基乙基二乙氧基硅烷、巰基曱基乙基二正丙氧基硅烷、巰基曱基乙基二異丙氧基硅烷、巰基曱基乙基二乙酰氧基硅烷、巰基曱基乙基二(曱氧基乙氧基)硅烷、巰基曱基苯基二曱氧基硅烷、巰基曱基苯基二乙氧基硅烷、巰基曱基苯基二正丙氧基硅烷、巰基曱基苯基二異丙氧基硅烷、巰基甲基苯基二乙酰氧基硅烷、巰基曱基苯基二(曱氧基乙氧基)硅烷、2-巰基乙基三曱氧基硅烷、2-巰基乙基三乙氧基硅烷、2-巰基乙基三正丙氧基硅烷、2-巰基乙基三異丙氧基硅烷、2-巰基乙基三乙酰氧基硅烷、2-巰基乙基三(曱氧基乙氧基)硅烷、2-巰基乙基曱基二甲氧基硅烷、2-巰基乙基曱基二乙氧基硅烷、2-巰基乙基甲基二正丙氧基硅烷、2-巰基乙基曱基二異丙氧基硅烷、2-巰基乙基甲基二乙酰氧基硅烷、2-巰基乙基乙基二甲氧基硅烷、2-巰基乙基乙基二乙氧基硅烷、2-巰基乙基乙基二正丙氧基硅烷、2-巰基乙基乙基二異丙氧基硅烷、2-巰基乙基乙基二乙酰氧基硅烷、2-巰基乙基乙基二(曱氧基乙氧基)硅烷、2-巰基乙基苯基二甲氧基硅烷、2-巰基乙基苯基二乙氧基硅烷、2-巰基乙基苯基二正丙氧基硅烷、2-巰基乙基苯基二異丙氧基硅烷、2-巰基乙基笨基二乙酰氧基硅烷、2-巰基乙基苯基二(曱氧基乙氧基)硅烷、3-巰基丙基三甲氧基硅烷、3-巰基丙基三乙氧基硅烷、3-巰基丙基三正丙氧基硅烷、3-巰基丙基三異丙氧基硅烷、3-巰基丙基三乙酰氧基硅烷、3-巰基丙基三(曱氧基乙氧基)硅烷、3-巰基丙基甲基二曱氧基硅烷、3-巰基丙基甲基二乙氧基硅烷、3-巰基丙基曱基二正丙氧基硅烷、3-巰基丙基曱基二異丙氧基硅烷、3-巰基丙基曱基二乙酰氧基硅烷、3-巰基丙基乙基二曱氧基硅烷、3-巰基丙基乙基二乙氧基硅烷、3-巰基丙基乙基二正丙氧基硅烷、3-巰基丙基乙基二異丙氧基硅烷、3-巰基丙基乙基二乙酰氧基硅烷、3-巰基丙基乙基二(甲氧基乙氧基)硅烷、3-巰基丙基苯基二曱氧基硅烷、3-巰基丙基苯基二乙氧基硅烷、3-巰基丙基苯基二正丙氧基硅烷、3-巰基丙基苯基二異丙氧基硅烷、3-巰基丙基苯基二乙酰氧基硅烷、3-巰基丙基苯基二(甲氧基乙氧基)硅烷等；這些化合物(a2)中，從反應(yīng)性以及所得層間絕緣膜或微透鏡的耐熱性、透明性、耐剝離液性方面考慮，可以優(yōu)選使用四曱氧基硅烷、四乙氧基硅烷、曱基三曱氧基硅烷、甲基三乙氧基硅烷、苯基三曱氧基硅烷、苯基三乙氧基硅烷、二曱基二曱氧基硅烷、二曱基二乙氧基硅烷、二苯基二甲氧基硅烷、二苯基二乙氧基硅烷、3-巰基丙基三甲氧基硅烷。作為本發(fā)明中優(yōu)選使用的聚硅氧烷[A]的具體例子，可以列舉例如乙烯基三曱氧基硅烷/苯基三甲氧基硅烷共縮聚物、乙烯基三甲氧基硅烷/曱基三曱氧基硅烷/笨基三甲氧基硅烷共縮聚物、乙烯基三甲氧基硅烷/苯基三甲氧基硅烷/3-巰基丙基三甲氧基硅烷共縮聚物、烯丙基三甲氧基硅烷/苯基三甲氧基硅烷共縮聚物、3-曱基丙烯酰氧基丙基三曱氧基硅烷/苯基三甲氧基硅烷共縮聚物、3-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷/3-巰基丙基三甲氧基硅烷/苯基三曱氧基硅烷共縮聚物以及對苯乙烯基三甲氧基硅烷/苯基三曱氧基硅烷共縮聚物。在本發(fā)明中，由化合物(al)衍生的構(gòu)成單元的含量比率，基于由(al)和(a2)衍生的重復(fù)單元的合計量，優(yōu)選為5-70重量％,特別優(yōu)選為10-60重量％。若由化合物(al)衍生的構(gòu)成單元的含量比率不足5重量％，則存在在不到250°C的烘焙條件下制得的層間絕緣膜或微透鏡的耐熱性、表面硬度和耐剝離液性下降的傾向，另一方面，若超過70重量％，則存在聚硅氧烷[A]的保存穩(wěn)定性變差的傾向。另外，由化合物(a2)衍生的構(gòu)成單元的含量比率，基于由(al)和(a2)衍生的重復(fù)單元的合計量，優(yōu)選為30~95重量％,特別優(yōu)選為40~90重量％。若由化合物(a2)衍生的構(gòu)成單元不足30重量%，則存在所得感射線性樹脂組合物的保存穩(wěn)定性下降的傾向。另一方面，若超過95重量％，則存在所得層間絕緣膜或微透鏡的耐熱性、表面硬度和耐剝離液性不夠好的可能。本發(fā)明中優(yōu)選使用的聚硅氧烷[A]，可以通過將如上所述的化合物(al)、(a2)優(yōu)選在溶劑中，優(yōu)選在催化劑的存在下進(jìn)行水解和縮合而合成。作為聚硅氧烷[A]的合成中可以使用的溶劑，可以列舉例如醇、醚、乙二醇醚、乙二醇單烷基醚乙酸酯、二甘醇、二甘醇單烷基醚乙酸酯、丙二醇單烷基醚、丙二醇烷基醚乙酸酯、丙二醇烷基醚丙酸酯、芳香族烴、酮、酯等。作為它們的具體例，醇可以列舉例如甲醇、乙醇、芐基醇、2-苯基乙醇、3-苯基-l-丙醇等；作為醚，可以列舉四氬呋喃等；作為乙二醇醚，可以列舉例如乙二醇單曱醚、乙二醇單乙醚等；作為乙二醇單烷基醚乙酸酯，可以列舉例如曱基溶纖劑乙酸酯、乙基溶纖劑乙酸酯、乙二醇單丁醚乙酸酯、乙二醇單乙醚乙酸酯等；作為二甘醇，可以列舉例如二甘醇單甲基醚、二甘醇單乙基醚、二甘醇二曱基醚、二甘醇二乙基醚、二甘醇乙基甲基醚等；作為二甘醇單烷基醚乙酸酯，可以列舉例如二甘醇單乙醚乙酸酯等；作為丙二醇單烷基醚，可以列舉例如丙二醇單曱醚、丙二醇單乙醚、丙二醇單丙醚、丙二醇單丁醚等；作為丙二醇單烷基醚丙酸酯，可以列舉例如丙二醇單曱基醚丙酸酯、丙二醇單乙基醚丙酸酯、丙二醇單丙基醚丙酸酯、丙二醇單丁基醚丙酸酯等；作為丙二醇單烷基醚乙酸酯，可以列舉例如丙二醇單曱基醚乙酸酯、丙二醇單乙基醚乙酸酯、丙二醇單丙基醚乙酸酯、丙二醇單丁基醚乙酸酯等；作為芳香族烴，可以列舉例如曱苯、二曱苯等；作為酮，可以列舉例如甲基乙基酮、曱基異丁基酮、環(huán)己酮、4-羥基-4-曱基-2-戊酮等；作為酯，可以列舉例如乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丙酯、乙酸丁酯、2-羥基丙酸乙酯、2-羥基-2-曱基丙酸甲酯、2-羥基-2-曱基丙酸乙酯、羥基乙酸甲酯、羥基乙酸乙酯、羥基乙酸丁酯、乳酸曱酯、乳酸乙酯、乳酸丙酯、乳酸丁酯、3-羥基丙酸曱酯、3-羥基丙酸乙酯、3-羥基丙酸丙酯、3-羥基丙酸丁酯、2-鞋基-3-曱基丁酸甲酯、曱氧基乙酸曱酯、曱氧基乙酸乙酯、曱氧基乙酸丙酯、曱氧基乙酸丁酯、乙氧基乙酸曱酯、乙氧基乙酸乙酯、乙氧基乙酸丙酯、乙氧基乙酸丁酯、丙氧基乙酸曱酯、丙氧基乙酸乙酯、丙氧基乙酸丙酯、丙氧基乙酸丁酯、丁氧基乙酸曱酯、丁氧基乙酸乙酯、丁氧基乙酸丙酯、丁氧基乙酸丁酯、2-曱氧基丙酸曱酯、2-曱氧基丙酸乙酯、2-曱氧基丙酸丙酯、2-甲氧基丙酸丁酯、2-乙氧基丙酸曱酯、2-乙氧基丙酸乙酯、2-乙氧基丙酸丙酯、2-乙氧基丙酸丁酯、2-丁氧基丙酸曱酯、2-丁氧基丙酸乙酯、2-丁氧基丙酸丙酯、2-丁氧基丙酸丁酯、3-甲氧基丙酸曱酯、3-曱氧基丙酸乙酯、3-甲氧基丙酸丙酯、3-甲氧基丙酸丁酯、3-乙氧基丙酸曱酯、3-乙氧基丙酸乙酯、3-乙氧基丙酸丙酯、3-乙氧基丙酸丁酯、3-丙氧基丙酸曱酯、3-丙氧基丙酸乙酯、3-丙氧基丙酸丙酯、3-丙氧基丙酸丁酯、3-丁氧基丙酸曱酯、3-丁氧基丙酸乙酯、3-丁氧基丙酸丙酯、3-丁氧基丙酸丁酯等。這些溶劑中，優(yōu)選乙二醇烷基醚乙酸酯、二甘醇、丙二醇單烷基醚或丙二醇烷基醚乙酸酯，特別優(yōu)選二甘醇二曱基醚、二甘醇乙基曱基醚、丙二醇曱基醚、丙二醇乙基醚、丙二醇曱基醚乙酸酯或3-甲氧基丙酸曱酯。溶劑的使用量，優(yōu)選使反應(yīng)溶液中的化合物(al)、(a2)的合計量為10~300重量％的量，更優(yōu)選使其為100~200重量％的量。合成聚硅氧烷[A]的水解和縮合反應(yīng)，優(yōu)選在酸催化劑(例如鹽酸、硫酸、硝酸、曱酸、草酸、醋酸、三氟乙酸、三氟甲磺酸、磷酸、酸性離子交換樹脂、各種路易斯酸等)或堿催化劑(例如氨、伯胺類、仲胺類、叔胺類、吡啶等含氮芳香族化合物、堿性離子交換樹脂、氫氧化鈉等氫氧化物、碳酸鉀等碳酸鹽、醋酸鈉等羧酸鹽、各種路易斯堿等)。催化劑的用量，相對于l摩爾單體，優(yōu)選為0.2摩爾以下，更優(yōu)選為0.00001~0.1摩爾。水的用量、反應(yīng)溫度和反應(yīng)時間可以適當(dāng)?shù)?殳定。例如可以采用下述條件。水的用量，相對于化合物(al)中的R'與化合物(a2)中的R5的合計量1摩爾，優(yōu)選為0.1~3摩爾，更優(yōu)選為0.3~2摩爾，進(jìn)一步優(yōu)選為0.5~1.5摩爾的量。反應(yīng)溫度優(yōu)選為40~200°C,更優(yōu)選為50~150°C。反應(yīng)時間優(yōu)選為30分鐘~24小時，更優(yōu)選為1~12小時。可以一次性加入化合物(al)、(a2)、水和催化劑以在同一階段進(jìn)行水解和縮合反應(yīng)，或者也可以將化合物(al)、(a2)、水和催化劑各自分階段加入，在多個階段進(jìn)行水解和縮合反應(yīng)。本發(fā)明中所用的[A]成分的聚苯乙烯換算的重均分子量(以下稱為"Mw")優(yōu)選為5x102~5x104，更優(yōu)選為1xio3~3x104。如果Mw不足5x102，則會出現(xiàn)顯影余量不夠的情況，使所得覆膜的殘膜率等下降，并且使所得層間絕緣膜或者微透鏡的圖案形狀、耐熱性等變差。另一方面，若超過5xl04，則會出現(xiàn)敏感度下降、圖案形狀變差的情況。含有如上所述的[A]成分的感射線性樹脂組合物，在顯影時不會產(chǎn)生顯影殘留，能夠容易地形成預(yù)定的圖案形狀。「Bl成分本發(fā)明中所用的[B]成分是經(jīng)照射射線能夠產(chǎn)生羧酸的1,2-醌二疊氮化合物，其可以使用酚性化合物或者醇性化合物(以下稱為"具有羥基的母核")或者具有氨基的母核與1,2-萘醌二疊氮磺酰鹵的縮合物。作為上述具有羥基的母核，可以列舉三羥基二笨酮、四羥基二苯酮、五鞋基二苯酮、六鞋基二苯酮、(多羥基苯基)烷烴以及其它具有羥基的母核。作為其具體例子，三羥基二苯酮可以列舉例如2,3,4-三羥基二苯酮、2,4,6-三羥基二苯酮等；四輕基二苯酮可以列舉例如2,2，，4,4，-四羥基二苯酮、2,3,4,3，-四羥基二苯酮、2,3,4，4，-四羥基二苯酮、2,3,4，2，-四羥基-4，-曱基二苯酮、2,3,4，4，-四羥基-3，-曱氧基二苯酮等；五羥基二苯酮可以列舉例如2,3,4,2，，6，-五羥基二苯酮等；六羥基二苯酮可以列舉例如2，4,6，3，，4，，5，-六羥基二苯酮、3,4,5,3，，4，，5，-六羥基二苯酮等;(多羥基苯基)烷烴可以列舉例如二(2，4-二羥基苯基)曱烷、二(對羥基苯基)甲烷、三(對羥基苯基)曱烷、l,l，l-三(對羥基苯基)乙烷、二(2,3,4-三羥基苯基)甲烷、2，2-二(2,3,4-三羥基苯基)丙烷、1,1,3-三(2,5-二曱基-4-羥基苯基)-3-苯基丙烷、4,4，-[1-[4-[1-[4-羥基苯基]-l-曱基乙基]苯基]亞乙基]雙酚、二(2，5-二甲基-4-羥基苯基)-2-羥基苯基曱烷、3,3，3，，3，-四曱基-1,1，-螺雙茚-5,6,7,5，，6，,7，-六醇、2,2,4-三曱基-7，2，,4，-三羥基黃烷等；其它具有羥基的母核可以列舉例如2-曱基-2-(2，4-二羥基苯基)_4-(4-羥基苯基)-7-羥基色滿、2-[二{(5-異丙基-4-羥基-2-曱基)苯基}曱基]、1-[1-(3-{1-(4-羥基苯基)-1-甲基乙基}-4,6,-二羥基苯基)-l-曱基乙基卜3-(1-(3-{1-(4-羥基苯基)-1-曱基乙基}-4,6-二羥基苯基)-l-甲基乙基)苯、4，6-二{1-(4-羥基苯基)-1-曱基乙基}-1,3-二羥基笨等。作為上述具有氨基的母核，可以列舉將上述具有羥基的母核的羥基替換為氨基的化合物等。這些母核當(dāng)中，優(yōu)選2,3,4,4，-四羥基二苯酮、4,4，-[1-[4-[1-[4-羥基苯基卜l-曱基乙基]苯基]亞乙基]雙酚。作為上述1，2-萘醌二疊氮石黃酰卣，優(yōu)選1,2-萘醌二疊氮磺酰氯，作為其具體的例子，可以列舉1,2-萘醌二疊氮-4-磺酰氯和1,2-萘醌二疊氮-5-磺酰氯，其中，優(yōu)選使用1,2-萘醌二疊氮-5-磺酰氯。在縮合反應(yīng)中，相對于酚性化合物或醇性化合物中的OH數(shù)或者具有氨基的母核的氨基數(shù)，優(yōu)選可以使用相當(dāng)于30~85摩爾％的1,2-萘醌二疊氮石黃酰卣，更優(yōu)選相當(dāng)于50~70摩爾％?？s合反應(yīng)可以采用已知的方法進(jìn)行。這些[B]成分可以單獨(dú)或者兩種以上組合使用。成分的使用比例，相對于100重量份[A]成分，優(yōu)選為1~25重量份，更優(yōu)選為520重量份。當(dāng)該比例不足1重量份時，則照射射線的部分與未照射射線的部分對于作為顯影液的堿水溶液的溶解度之差較小，將出現(xiàn)難以形成圖案的情況，并且會出現(xiàn)所得層間絕緣膜或微透鏡的耐熱性和耐溶劑性不夠好的情況。另一方面，當(dāng)該比例超過25重量份時，則照射射線的部分在上述堿水溶液中的溶解度不夠大，將出現(xiàn)難以顯影的情況。其它成分本發(fā)明的感射線性樹脂組合物含有上述[A]成分和[B]成分作為必需成分，但是還可以根據(jù)需要含有與聚硅氧烷中所含的不飽和鍵具有反應(yīng)性的[C]分子中含有兩個以上從具有聚合性不飽和鍵的基團(tuán)、氫硅基和巰基構(gòu)成的群組中選出的至少一種官能基團(tuán)的化合物(但是，[A]成分除外)、[D]熱敏性自由基發(fā)生劑、[E]表面活性劑、[F]粘合助劑等。作為上述[C]分子中含有兩個以上從具有聚合性不飽和鍵的基團(tuán)、氫硅基和巰基構(gòu)成的群組中的至少一種官能基團(tuán)的化合物(但是，[A]成分除外。以下也稱為"[C]交聯(lián)性化合物")，是與聚硅氧烷[A]所具有的聚合性不飽和鍵具有反應(yīng)性的化合物，可用于使聚硅氧烷[A]交聯(lián)，從而提高所得層間絕緣膜或微透鏡的耐熱'性和硬度。交聯(lián)性化合物中，作為分子中具有兩個以上聚合性不飽和鍵的化合物，可以列舉例如二乙烯基苯、1,2,4-三乙烯基環(huán)己烷、己二酸二乙烯基酯、1，3-二乙烯基四曱基二硅氧烷、二乙烯基二曱基硅烷等分子中具有兩個以上乙烯基的化合物；二烯丙基笨、1,5-己二烯、1,7-辛二烯、己二酸二烯丙基酯、1,3-二烯丙基四曱基二硅氧烷、二烯丙基胺、三烯丙基胺、三烯丙基膦、二烯丙基二曱基硅烷、四烯丙基硅烷、鄰苯二曱酸二烯丙基酯、馬來酸二烯丙基酯等分子中具有兩個以上烯丙基的化合物；(曱基)丙烯酸乙二醇酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,9-壬二醇二(曱基)丙烯酸酯、聚丙二醇二(曱基)丙烯酸酯、四甘醇二(甲基)丙烯酸酯、雙(苯氧基乙醇)芴二丙烯酸酯等分子中具有兩個以上(曱基)丙烯酰氧基的化合物；三羥曱基丙烷三(曱基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、三((甲基)丙烯酰氧基乙基)膦酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(曱基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(曱基)丙烯酸酯等分子中具有3個以上(曱基)丙烯酰氧基的化合物；(曱基)丙烯酸乙烯基酯等分子中具有乙烯基和(曱基)丙烯酰氧基的化合物；(甲基)丙烯酸烯丙基酯等分子中具有烯丙基和(曱基)丙烯酰氧基的化合物等。:s々h卜3rrn吞n"*,M:/P.厶*.^乂》}+且右新水w卜祐基的化合物，可以列舉例如琉基乙酸、3-巰基丙酸、3-巰基丁酸、3-巰基戊酸等巰基羧酸與乙二醇、四甘醇、丁二醇、三羥曱基丙烷、季戊四醇、二季戊四醇、三季戊四醇、1，3，5-三(2-羥基乙基)氰尿酸酯、山梨糖醇等多元醇的酯化物等。另外，[C]交聯(lián)性化合物中，作為分子中具有兩個以上氫硅基的化合物，可以列舉二苯基硅烷、1,1,3,3-四曱基二硅氧烷、1,1,3,3-四苯基二硅氧烷、以下f卜社生產(chǎn)的化合物中的DMS-H03、DMS-Hll、DMS-H21、DMS-H25、DMS-H31、DMS-H41等氫化物末端的聚二曱基硅氧烷、DMS-H031、DMS-H071、DMS-H082、DMS-H151、DMS-H301、DMS-H501、DMS-H271等聚曱基氫硅氧烷、HMS-991、HMS-992、HMS-993等聚曱基氫硅氧烷、HES-992等聚乙基氫硅氧烷、HDP-lll等聚苯基二曱基氫硅氧基硅烷、HPM-502等曱基氫硅氧烷/苯基曱基硅氧烷共聚物、HAM-301、HAM-3012等曱基氫硅烷/辛基曱基硅氧烷共聚物、HQM-105、HQM-107等。這些[C]交聯(lián)性化合物中，優(yōu)選分子中具有3個以上(甲基)丙烯酰氧基的化合物以及分子中具有兩個以上巰基的化合物，作為分子中具有3個以上(曱基)丙烯酰氧基的化合物，特別優(yōu)選三羥曱基丙烷三(曱基)丙烯酸酯、季戊四醇四(曱基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(曱基)丙烯酸酯，作為分子中具有兩個以上巰基的化合物，特別優(yōu)選三羥甲基丙烷三(3-巰基丙酸酯)、季戊四醇四(3-巰基丙酸酯)、四甘醇二(3-巰基丙酸酯)、二季戊四醇六(3-巰基丙酸酯)、季戊四醇四(巰基乙酸酯)、1,4-二(3-巰基丁酰氧基)丁烷、季戊四醇四(3-巰基丁酸酯)、1,3,5-三(3-巰基丁氧基乙基)-l，3,5-三。秦-2,4，6(1H,3H,5H)-三酮。作為分子中具有3個以上(曱基)丙烯酰氧基的化合物的市售品，可以列舉例如7口二、乂夕7M-309、7口二、乂夕7M-400、了口二7夕7M—405、了口二、乂夕7M—450、了口二、乂夕7M—7100、7口二、乂夕7M—8030、7口二、乂夕7M—8060、7口二，夕7M-8100(以上由東亞合成(4朱)生產(chǎn))；KAYARADTMPTA、KAYARADDPHA、KAYARADDPCA-20、KAYARADDPCA-30、KAYARADDPCA-60、KAYARADDPCA-120(以上由日本化藥(抹)生產(chǎn))；匕、'7〕一卜295、匕、、只〕一卜300、匕、、只〕一卜360、If7〕一卜GPT、匕、、7〕一卜3PA、匕、、7〕一卜400(以上由大阪有機(jī)化學(xué)工業(yè)(株)生產(chǎn))等。上述[C]交聯(lián)性化合物可以單獨(dú)或兩種以上混合使用。交聯(lián)性化合物的使用比率，相對于IOO重量份[A]成分，優(yōu)選為50重量份以下，更優(yōu)選為30重量份以下。通過以這種比率含有[C]成分，可以提高由本發(fā)明感射線性樹脂組合物制得的層間絕緣膜或微透鏡的耐熱性和表面硬度等。如果該使用量超過了50重量份，則會出現(xiàn)在基板上形成感射線性樹脂組合物覆膜的工序中產(chǎn)生膜皸裂的情況。在本發(fā)明的感射線性樹脂組合物中，為了進(jìn)一步提高聚硅氧烷[A]的交聯(lián)性，還可以使用上述[D]熱敏性自由基發(fā)生劑。作為[D〗熱敏性自由基發(fā)生劑，可以使用已知通常作為自由基聚合引發(fā)劑的物質(zhì)。作為這種熱敏性自由基發(fā)生劑，可以列舉例如2,2，-偶氮二(4-甲氧基-2,4-二曱基戊腈)、2,2，-偶氮二(2，4-二曱基戊腈)、2,2，-偶氮二(2-甲基丙腈)、2,2，-偶氮二(2-甲基丁腈)、l,l，-偶氮(環(huán)己烷-l-腈)、l-[(l-氰基-l-甲基乙基)偶氮]曱酰胺等偶氮化合物；過氧化苯曱酰、過氧化月桂酰、叔丁基過氧化特戊酸酯、l,l，-二(叔丁基過氧化)環(huán)己烷等有機(jī)過氧化物；以及過氧化氫等。當(dāng)使用過氧化物作為熱敏性自由基發(fā)生劑時，還可以將過氧化物與還原劑同時使用作為氧化還原型引發(fā)劑。上述[D]熱敏性自由基發(fā)生劑，優(yōu)選在60'C的分解半衰期為IOO分鐘以上，且在200。C的分解半衰期為30分鐘以下。此時，若在60°C下的分解半衰期為IOO分鐘以下，則存在由于在預(yù)烘焙時自由基發(fā)生劑引發(fā)進(jìn)行交聯(lián)反應(yīng)而使敏感度和分辨率下降的可能性。另外，若在200。C的分解半衰期為30分鐘以上，則存在由于在顯影后的加熱工序中由于自由基發(fā)生不夠而不能進(jìn)行交聯(lián)反應(yīng)，從而不能獲得足夠的耐溶劑性和硬度的可能性。作為優(yōu)選的[D]熱敏性自由基發(fā)生劑的具體例子，可以列舉例如2,2，-偶氮二(2-曱基丙腈)、2,2，-偶氮二(2-曱基丁腈)、l，l，-偶氮(環(huán)己烷-l-腈)、l-[(l-氰基-l-曱基乙基)偶氮]曱酰胺等。在本發(fā)明中，[D]熱敏性自由基發(fā)生劑的使用比率，相對于100重量份[A]成分，優(yōu)選為IO重量份以下，更優(yōu)選為1~5重量份。通過使其以這種比率含有[D]成分，可以提高由本發(fā)明感射線性樹脂組合物制得的層間絕緣膜或微透鏡的耐化學(xué)試劑性、耐熱性和表面硬度。在本發(fā)明的感射線性樹脂組合物中，為了進(jìn)一步提高涂敷性，還可以使用[E]表面活性劑。作為這里可以使用的[E]表面活性劑，可適當(dāng)?shù)厥褂梅惐砻婊钚詣?、硅氧烷類表面活性劑和非離子類表面活性劑。作為氟類表面活性劑的具體例子，可以列舉1,1,2,2-四氟辛基(1,1,2,2-四氟丙基)醚、1,1,2,2-四氟辛基己基醚、八乙二醇二(1，1,2,2-四氟丁基)醚、六乙二醇(l,l,2,2,3,3-六氟戊基)醚、八丙二醇二(l,l,2,2-四氟丁基)醚、六丙二醇二(l,l,2,2，3，3-六氟戊基)醚、全氟十二烷基磺酸鈉、1,1,2,2,3,3,9,9,10,10-十氟十二烷、1，1，2,2,3,3-六氟癸烷等，除此之外，還可以列舉氟代烷基苯^t酸鈉類；氟代烷基氧乙烯醚類；碘化氟代烷基銨類；氟代烷基聚氧乙烯醚類；全氟烷基聚氧乙醇類；全氟代烷基烷氧化物類；氟類烷基酯等。作為它們的市售品，可以列舉BM-1000、BM-1IOO(以上，由BMChemie社生產(chǎn))、乂力、77、乂夕F142D、>力、77、乂夕F172、^力'77、乂夕F173、乂力、77、乂夕F183、乂力、77、乂夕F178、^力'777夕F191、^力'77、乂夕F471(以上，由大日本油墨化學(xué)工業(yè)(抹)生產(chǎn))、7口y—KFC—170C、FC—171、FC—430、FC-431(以上，由住友7U—工厶(林)生產(chǎn))、寸一7口乂S-112、廿一7口yS-113、寸一7口乂S-131、寸一7口乂S-141、廿一7口yS-145、廿一7口乂S—382、廿一7口乂SC—101、廿一7口ySC—102、廿一7口乂SC-103、寸一7口ySC-104、寸一7口乂SC-105、廿一7口ySC-106(旭硝子(抹)生產(chǎn))、工7卜、乂7°EF301、工7卜、;/7°EF303、工7卜、乂7。EF352(新秋田化成(抹)生產(chǎn))等。作為上述硅氧烷類表面活性劑，可以列舉例如以DC3PA、DC7PA、FS-1265、SF-8428、SH11PA、SH21PA、SH28PA、SH29PA、SH30PA、SH—190、SH—193、SZ—6032(以上，由東k夕、、々〕一二y夕、、…乂！J〕一乂沐)生產(chǎn))、TSF-4440、TSF-4300、TSF-4445、TSF-4446、TSF-4460、TSF-4452(以上由GE東芝、》Un—y(抹)生產(chǎn))等商品名銷售的硅氧烷類表面活性劑。作為上述非離子類表面活性劑，可以使用例如聚氧乙烯十二烷基醚、聚氧乙烯十八烷基醚、聚氧乙烯油基醚等聚氧乙烯烷基醚類；聚氧乙烯辛基苯基醚、聚氧乙烯壬基苯基醚等聚氧乙烯芳基醚類；聚氧乙烯二月桂酸酯、聚氧乙烯二硬脂酸酯等聚氧乙烯二烷基酯類等；(曱基)丙烯酸類共聚物求u7口一No.57、95(共榮社化學(xué)(抹)生產(chǎn))等。這些表面活性劑可以單獨(dú)或者兩種以上組合使用。這些[E]表面活性劑，相對于100重量份[a]成分，優(yōu)選使用5重量份以下，更優(yōu)選2重量份以下。如果[E]表面活性劑的用量超過5重量份，則在基板上形成涂膜時，會出現(xiàn)涂膜容易產(chǎn)生膜皸裂的情況。本發(fā)明的感射線性樹脂組合物中，為了提高與基體的粘合性，還可以使用[f]粘合助劑。作為這種[f]粘合助劑，優(yōu)選使用官能性硅烷偶合劑，可以列舉例如具有羧酸基、曱基丙烯?；惽杷狨セ?、環(huán)氧基等反應(yīng)性取代基的硅烷偶合劑。具體地，可以列舉三曱氧基硅烷基安息香酸、y-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙酰氧基硅烷、乙烯基三甲氧基硅烷、y-異氰酸酯丙基三乙氧基硅烷、y-環(huán)氧丙氧基丙基三曱氧基硅烷、|3-(3,4-環(huán)氧環(huán)己基)乙基三曱氧基硅烷等。這種[f]粘合助劑，相對于100重量份[a]成分，優(yōu)選使用20重量份以下，更優(yōu)選io重量份以下的量。當(dāng)粘合助劑的量超過20重量份時，則會出現(xiàn)在顯影工序中容易產(chǎn)生顯影殘留的情況。感射線性樹脂組合物本發(fā)明的感射線性樹脂組合物可以通過將上述[a]成分和[b]成分以及如上所述任選添加的其它成分均勻混合而調(diào)制。本發(fā)明的感射線性樹脂組合物優(yōu)選以溶于適當(dāng)溶劑中的溶液狀態(tài)使用。例如可以通過將[a]成分和[b]成分以及任選添加的其它成分以規(guī)定的比例混合而調(diào)制成溶液狀態(tài)的感射線性樹脂組合物。作為調(diào)制本發(fā)明感射線性樹脂組合物所用的溶劑，使用能均勻溶解[A]成分和[B]成分以及任選混合的其它成分中的各成分，且不與各成分反應(yīng)的溶劑。作為這樣的溶劑，可以列舉與作為可以用于合成優(yōu)選的[A]成分聚硅氧烷[A]的溶劑而在上述中例示的溶劑相同的溶劑。在這種溶劑中，從各成分的溶解性、與各成分的反應(yīng)性、形成涂膜的容易性等角度出發(fā)，優(yōu)選使用醇、乙二醇醚、乙二醇烷基醚乙酸酯、酯和二甘醇。其中，可特別優(yōu)選使用千醇、2-苯乙醇、3-苯基-l-丙醇、乙二醇單丁基瞇乙酸酯、二甘醇單乙基醚乙酸酯、二甘醇二乙醚、二甘醇乙基曱基醚、二甘醇二曱醚、丙二醇單曱基醚、丙二醇單甲基醚乙酸酯、3-曱氧基丙酸甲酯、2-乙氧基丙酸乙酯。為提高膜厚的面內(nèi)均勻性，還可以進(jìn)一步與上述溶劑一起聯(lián)用高沸點(diǎn)溶劑。作為可以聯(lián)用的高沸點(diǎn)溶劑，可以列舉例如N-曱基甲酰胺、N，N-二甲基甲酰胺、N-曱基甲酰苯胺、N-甲基乙酰胺、N,N-二曱基乙酰胺、N-曱基吡咯烷酮、二曱基亞砜、芐基乙基醚、二己基醚、丙酮基丙酮、異佛爾酮、己酸、辛酸、l-辛醇、l-壬醇、乙酸,酯、苯甲酸乙酯、草酸二乙酯、馬來酸二乙酯、"丁內(nèi)酯、碳酸乙二酯、碳酸丙二酯、苯基溶纖劑乙酸酯等。其中，優(yōu)選N-曱基吡咯烷酮、y-丁內(nèi)酯、N，N-二曱基乙酰胺。作為本發(fā)明感射線性樹脂組合物的溶劑，當(dāng)聯(lián)用高沸點(diǎn)溶劑時，其用量相對于全部溶劑的量優(yōu)選為50重量％以下，更優(yōu)選為40重量％以下，進(jìn)一步優(yōu)選為30重量％以下。當(dāng)高沸點(diǎn)溶劑的用量超過該用量時，則會出現(xiàn)涂膜厚度均勻性、敏感度和殘膜率下降的情況。當(dāng)將本發(fā)明的感射線性樹脂組合物調(diào)制成溶液狀態(tài)時，溶液中除溶劑以外的成分(即[A]成分和[B]成分以及任選添加的其它成分的合計量)的占有比例(固體含量濃度)，可以根據(jù)使用目的和所需膜厚度值等任意地設(shè)定，優(yōu)選為550重量％，更優(yōu)選為10~40重量％,進(jìn)一步優(yōu)選為15~35重量％。如此調(diào)制的組合物溶液還可以釆用孔徑為0.2|im左右的孩i孔濾器等過濾后再供給使用。層間絕緣膜、微透鏡的形成接著，對用本發(fā)明感射線性樹脂組合物形成本發(fā)明的層間絕緣膜或微透鏡的方法進(jìn)行說明。本發(fā)明的層間絕緣膜或微透鏡的形成方法按照下述順序包括以下工序。(1)在基板上形成本發(fā)明感射線性樹脂組合物覆膜的工序，(2)對該覆膜的至少一部分照射射線的工序，(3)將照射射線后的覆膜進(jìn)行顯影的工序，和(4)將顯影后的覆膜進(jìn)行加熱的工序。以下，對本發(fā)明層間絕緣膜或微透鏡的形成方法的各工序進(jìn)行詳細(xì)說明。n)在基板上形成本發(fā)明感射線性樹脂組合物覆膜的工序在工序(l)中，將本發(fā)明的組合物溶液涂敷于基板表面上，優(yōu)選通過進(jìn)行預(yù)烘焙除去溶劑，形成感射線性樹脂組合物的覆膜。作為可以使用的基板的種類，可以列舉例如玻璃基板、硅基板以及在它們表面上形成各種金屬的基板。作為組合物溶液的涂敷方法，對其沒有特別的限制，可以采用例如噴涂法、輥涂法、旋轉(zhuǎn)涂布法(旋涂法)、縫模涂敷法、棒涂法、噴墨涂敷法等適當(dāng)?shù)姆椒?，特別優(yōu)選使用旋涂法或縫模涂敷法。作為預(yù)烘焙的條件，根據(jù)各成分的種類和使用比率等而不同。例如，可以在60~ll(TC下進(jìn)行30秒鐘15分鐘左右。所形成的覆膜的厚度，作為預(yù)烘焙后的值，當(dāng)形成層間絕緣膜時，優(yōu)選為例如36pm,當(dāng)形成微透鏡時，優(yōu)選為例如0.53pm。(2)對該覆膜的至少一部分照射射線的工序在工序(2)中，對如上形成的覆膜的至少一部分照射射線。對覆膜一部分照射射線，可以采用例如通過具有所規(guī)定圖案的掩模照射射線的方法。然后，通過用顯影液進(jìn)行顯影處理除去照射了射線的部分以形成圖案。作為此時使用的射線，可以列舉例如紫外線、遠(yuǎn)紫外線、X射線、帶電粒子束等。作為上述紫外線，可以列舉例如含g線(波長436nm)、i線(波長365nm)等的射線。作為遠(yuǎn)紫外線，可以列舉例如KrF準(zhǔn)分子激光等。作為X射線，可以列舉例如同步加速射線等。作為帶電粒子束，可以列舉例如電子束等。其中，優(yōu)選紫外線，尤其是特別優(yōu)選含g線和/或i線的射線。作為射線的照射量(曝光量)，當(dāng)形成層間絕緣膜時，優(yōu)選為501500J/m2,當(dāng)形成微透鏡時，優(yōu)選為50~2000J/m2。(3)將射線照射后的覆膜顯影的工序作為工序(3)的顯影處理中所用的顯影液，可以使用例如氫氧化鈉、氫氧化鐘、>暖酸鈉、>眭酸鈉、偏^i酸鈉、氨、乙胺、正丙胺、二乙胺、二乙氨基乙醇、二正丙胺、三乙胺、曱基二乙基胺、二曱基乙醇胺、三乙醇胺、氫氧化四甲基銨、氫氧化四乙基銨、吡咯、哌啶、1,8-二氮雜二環(huán)[5.4.0卜7-十一碳烯、1,5-二氮雜二環(huán)[4.3.0]-5-壬烷等堿(堿性化合物)的水溶液。此外，還可以將在上述堿水溶液中添加適量的曱醇、乙醇等水溶性有機(jī)溶劑或表面活性劑的水溶液，或者溶解本發(fā)明組合物的各種有機(jī)溶劑作為顯影液使用。作為顯影方法，可以采用例如盛液法、浸漬法、震蕩浸漬法、沖洗法等適當(dāng)?shù)姆椒?。此時的顯影時間，根據(jù)組合物的組成而不同，可以為例如30120秒。另外，對于以往已知的感射線性樹脂組合物，如果顯影時間比最佳值超過20~25秒的程度，則由于形成的圖案會發(fā)生脫落而必須嚴(yán)格控制顯影時間，而對于本發(fā)明的感射線性樹脂組合物的情況，即使比最佳顯影時間超出的時間達(dá)到30秒以上，也可以形成良好的圖案，在制品成品率方面存在優(yōu)勢。(4)顯影后的加熱覆膜的工序如上進(jìn)行了工序(3)的顯影工序之后，對形成圖案的薄膜優(yōu)選進(jìn)行例如流水沖洗的沖洗處理，并且，優(yōu)選采用高壓汞燈等進(jìn)行全面照射射線(后曝光)，對該薄膜中殘存的1,2-醌二疊氮化合物進(jìn)行分解處理，然后，通過將該薄膜用加熱板、烘箱等加熱裝置進(jìn)行加熱處理(后烘焙處理)，對該薄膜進(jìn)行固化處理。在上述后曝光工序中的曝光量，優(yōu)選為2000~5000J/m2左右。并且，該固化處理中的烘焙溫度為例如120以上且不到250°C。加熱時間根據(jù)加熱機(jī)器的種類而不同，例如，當(dāng)用加熱板進(jìn)行加熱處理時，可以為530分鐘，當(dāng)在烘箱中進(jìn)行加熱處理時，可以為3090分鐘。這時，還可以采用進(jìn)行兩次以上加熱工序的分步烘焙法等。另外，由以前已知作為高耐熱材料的聚硅氧烷組成的感光'性材料在基板上形成覆膜時，必須進(jìn)行25(TC以上的高溫處理，而對于本發(fā)明的感射線樹脂組合物的情況，由于該處理溫度可以為不足250°C,而且可以為240。C以下，并且還可以為230°C以下，因此具有也可適用于形成顯示元件的工序中的優(yōu)點(diǎn)。這樣，即可在基板表面上形成相應(yīng)于目標(biāo)層間絕緣膜或者微透鏡的圖案狀薄膜。層間絕緣膜由下述的實(shí)施例可知，如上形成的本發(fā)明層間絕緣膜，對基板的密合性良好，耐溶劑性和耐熱性優(yōu)良，具有高的透光率，介電常數(shù)低，可以適用于作為電子部件的層間絕緣膜。微透鏡由下述的實(shí)施例可知，如上形成的本發(fā)明微透鏡，對基板的密合性良好，耐溶劑性和耐熱性優(yōu)良，且具有高透光率和良好的熔融形狀，適合用作為固態(tài)圖像傳感器的微透鏡。本發(fā)明微透鏡的形狀，如圖l(a)所示，為半凸透鏡形狀，具有良好的聚光性能。實(shí)施例以下通過例示合成例、實(shí)施例對本發(fā)明進(jìn)行更具體的說明，但是本發(fā)明并不局限于以下的實(shí)施例。取19.3g乙烯基三甲氧基硅烷、53.lg曱基三甲氧基硅烷和154.7g苯基三甲氧基硅烷置于500ml的三頸燒瓶中，向其中加入113.5g二甘醇甲基乙基醚使其溶解，一邊用磁力攪拌器攪拌所得溶液，一邊經(jīng)30分鐘升溫至60°C。向其中經(jīng)30分鐘連續(xù)加入含5.9g草酸的70.3g離子交換水后，在60°C下進(jìn)行3小時反應(yīng)。減壓餾出反應(yīng)液中的曱醇和水，再加入二甘醇曱基乙基醚，使其固體含量濃度為35重量％,得到含聚硅氧烷[A-l]的溶液。聚硅氧烷[A-l]的聚苯乙烯換算重均分子量Mw為2600。合成例2[A-2]取71.1g乙烯基三曱氧基硅烷和142.8g苯基三甲氧基硅烷置于500ml的三頸燒瓶中，向其中加入107.0g二甘醇.曱基乙基醚使其溶解，一邊用磁力攪拌器攪拌所得溶液，一邊經(jīng)30分鐘升溫至60°C。向其中經(jīng)30分鐘連續(xù)加入含5.4g草酸的64.9g離子交換水后，在60°C下進(jìn)行3小時反應(yīng)。減壓餾出反應(yīng)液中的曱醇和水，再加入二甘醇甲基乙基醚，使其固體含量濃度為35重量％,得到含聚硅氧烷[A-2]的溶液。聚硅氧烷[A-2]的聚苯乙烯換算重均分子量Mw為2200。合成例3[A—3〗取39.3g3-巰基丙基三甲氧基硅烷、32.0g3-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷和119.0g苯基三曱氧基硅烷置于500ml的三頸燒瓶中，向其中加入93.9g二甘醇曱基乙基醚使其溶解，一邊用磁力攪拌器攪拌所得溶液，一邊經(jīng)30分鐘升溫至60°C。向其中經(jīng)30分鐘連續(xù)加入含4.5g草酸的54.lg離子交換水后，在60°C下進(jìn)行3小時反應(yīng)。減壓餾出反應(yīng)液中的曱醇和水，再加入二甘醇甲基乙基醚，使其固體含量濃度為35重量％,得到含聚硅氧烷[A-3]的溶液。聚硅氧烷[A-3]的聚苯乙烯換算重均分子量Mw為2500。合成例4[A-4]取16.2g烯丙基三甲氧基硅烷、40.9g曱基三甲氧基硅烷和119.0g苯基三甲氧基硅烷置于500ml的三頸燒瓶中，向其中加入88.0g二甘醇曱基乙基醚使其溶解，一邊用磁力攪拌器攪拌所得溶液，一邊升溫至60。C。向其中經(jīng)1小時連續(xù)加入溶解了4.5g草酸的54.1g離子交換水，然后，在60°C下進(jìn)行3小時反應(yīng)后，將所得反應(yīng)液冷卻至40。C，然后，減壓餾出醇，再加入二甘醇曱基乙基醚，使其固體含量濃度為35重量％,得到含聚硅氧烷[A-4]的溶液。聚硅氧烷[A-4]的聚苯乙烯換算重均分子量Mw為2400。合成例5[A-5]取32.0g3-曱基丙烯酰氧基丙基三曱氧基硅烷、53.1g曱基三甲氧基硅烷和154.7g苯基三甲氧基硅烷置于500ml的三頸燒瓶中，向其中加入119.9g二甘醇曱基乙基醚使其溶解，一邊用磁力攪拌器攪拌所得溶液，一邊升溫至60。C。向其中經(jīng)l小時連續(xù)加入溶解了5.0g草酸的59.5g離子交換水，然后，在60'C下進(jìn)行3小時反應(yīng)后，將所得反應(yīng)液冷卻至40°C。在40。C下經(jīng)1分鐘減壓至10Torr,餾出副產(chǎn)物曱醇，向其中經(jīng)30分鐘連續(xù)添加39.6g離子交換水和39.6g二甘醇曱基乙基醚，在40。C下攪拌2小時，然后，減壓餾出醇和水，再加入二甘醇曱基乙基醚，使其固體含量濃度為35重量％,得到含聚硅氧烷[A-5]的溶液。聚硅氧烷[A-5]的聚苯乙烯換算重均分子量Mw為2700。比較合成例1[a-1]取49.Og曱基三曱氧基硅烷和166.6g苯基三曱氧基硅烷置于500ml的三頸燒瓶中，向其中加入107.8g二甘醇甲基乙基醚使其溶解，一邊用磁力攪拌器攪拌所得溶液，一邊升溫至60。C。向其中經(jīng)1小時連續(xù)加入溶解了5.4g草酸的64.9g離子交換水，然后，在60°C下進(jìn)行3小時反應(yīng)后，將所得反應(yīng)液冷卻至40°C,然后，減壓餾出醇和水，再加入二甘醇甲基乙基醚，使其固體含量濃度為35重量％,得到含聚硅氧烷[a-l]的溶液。聚硅氧烷[a-l]的聚苯乙烯換算重均分子量Mw為2800。比較合成例2[a-2]向裝有冷卻管和攪拌器的燒瓶中，加入8重量份2,2'-偶氮二(2,4-二甲基戊腈)和220重量份二甘醇乙基甲基醚。接著加入20重量份苯乙烯、20重量份曱基丙烯酸、40重量份曱基丙烯酸縮水甘油基酯和20重量份甲基丙烯酸三環(huán)[5.2.1.02'6]癸烷-8-基酯，用氮?dú)庵脫Q后，開始緩慢攪拌。使溶液的溫度上升至70°C，保持該溫度5小時，得到含共聚物[a-2]的聚合物溶液。共聚物[a-2]的聚苯乙烯換算重均分子量Mw為7500，分子量分布(Mw/Mn)為2.5。并且，這里所得聚合物溶液的固體含量濃度為31.6重量％。實(shí)施例1將上述合成例1中合成的含聚硅氧烷[A-l]的溶液，以相當(dāng)于100重量份聚硅氧烷[A-l](固體成分)的量，與IO重量份作為成分[B]的4,4，-[1-[4-[1-[4-羥基苯基]-1-曱基乙基]苯基]亞乙基]雙酚(1.0摩爾)同1,2-萘醌二疊氮-5-磺酰氯(2.0摩爾)的縮合物(B-1)進(jìn)行混合，加入二甘醇乙基甲基醚使其固體含量濃度為33重量％,溶解均勻后，用孔徑為0.2pm的濾膜過濾，調(diào)制得到感射線性樹脂組合物的溶液(S-1)。實(shí)施例2~11,比4交例1~2在實(shí)施例1中，除了[A]成分和[B]成分使用如表1中所列的種類、用量以外，與實(shí)施例1同樣地操作，調(diào)制感射線性樹脂組合物的溶液(S-2)~(S-ll)和(s-1)~(s-2)。另外，在實(shí)施例3、4、8、10、11中，添加了[C]成分。在實(shí)施例211中，還添加了[D]成分。實(shí)施例12在實(shí)施例10中，除了溶解于二甘醇乙基曱基醚/丙二醇單甲醚乙酸酯=6/4(重量比)，使其固體成分濃度為20重量％,并且添加作為[E]成分的表面活性劑SH-28PA(由東k.夕、、々〕一二y夕"少U〕一乂(林)生產(chǎn))以外，與實(shí)施例IO同樣地操作，調(diào)制感射線性樹脂組合物的溶液(S-12)。表1<table>tableseeoriginaldocumentpage49</column></row><table>在表1中，各成分的簡稱分別表示以下含義。:4,4'-[1-[4-[1-[4-羥基苯基]-1-曱基乙基]苯基]亞乙基]雙酚(l.O摩爾)與1，2-萘醌二疊氮-5-磺酰氯(3.0摩爾)的縮合物:二季戊四醇六丙烯酸酯(商品名KAYARADDPHA，由曰本化藥(抹)生產(chǎn)):二季戊四醇六(3_巰基丙酸酯):l，l，-偶氮二(環(huán)己烷-l-腈):硅氧烷類表面活性劑(商品名SH-28PA,東^.夕、'々〕一二y夕、、'、>y3—乂(抹)生產(chǎn))。<作為層間絕緣膜的性能評價>實(shí)施例13—24、比較例3~4使用如上調(diào)制的感射線性樹脂組合物，對其作為層間絕緣膜的各種特性如下進(jìn)行評價。[敏感度的評價]對于實(shí)施例13~23和比較例3-4,釆用旋涂器分別將表2中所列的組合物涂敷于硅基板上后，在加熱板上于IOO'C下預(yù)烘焙2分鐘，形成膜厚度為4.0pm的涂膜。對于實(shí)施例24，采用縫模涂敷器進(jìn)行涂敷，在室溫下經(jīng)15秒鐘減壓至0.5Torr,除去溶劑后，在加熱板上于IOO'C下預(yù)烘焙2分鐘，形成膜厚度為4.0pm的涂膜。通過具有3.0pm線條和間隔(IO對l)圖案的掩模，采用年亇乂乂(抹)制造的PLA501F曝光機(jī)(超高壓汞燈)，以不同的曝光時間分別對所得涂膜進(jìn)行曝光后，在2.38重量％的氫氧化四曱基銨水溶液中，通過盛液法于25°C下進(jìn)行顯影80秒。然后用超純水進(jìn)行流水沖洗1分鐘，經(jīng)干燥后，在硅基板上形成圖案。此時，調(diào)查產(chǎn)生0.3pm間隙線寬所必需的最小曝光量。以該最小曝光量作為敏感度列于表2。對于實(shí)施例13~23和比較例3~4,采用旋涂器分別將表2中所列的組合物涂敷于硅基板上后，在加熱板上于IO(TC下預(yù)烘焙2分鐘，形成膜厚度為4.0pm的涂膜。對于實(shí)施例24,采用縫模涂敷器進(jìn)行涂敷，在室溫下經(jīng)15秒鐘減壓至0.5Torr，除去溶劑后，在加熱板上于IO(TC下預(yù)烘焙2分鐘，形成膜厚度為4.0pm的涂膜。通過具有3.0pm線條和間隔(IO對l)圖案的掩模，采用年亇乂乂(株)制造的PLA501F曝光機(jī)(超高壓汞燈)，以相當(dāng)于上述"[敏感度評價]"中調(diào)查的敏感度值的曝光量分別對所得涂膜進(jìn)行曝光后，在2.38重量％的氫氧化四曱基銨水溶液中，采用盛液法于25°C下以不同的顯影時間進(jìn)行顯影。接著用超純水進(jìn)行流水沖洗1分鐘后干燥，在硅基板上形成圖案。這時，以使線條的線寬為3pm所必需的顯影時間作為最佳顯影時間列于表2。并且，在自最佳顯影時間起進(jìn)一步繼續(xù)顯影時，測定直到3.0fxm線條圖案脫落時的時間，以其作為顯影余量列于表2。對于實(shí)施例13-23和比較例3~4，采用旋涂器分別將表2中所列的組合物涂敷于硅基板上后，在加熱板上于IO(TC下預(yù)烘焙2分鐘，形成涂膜。對于實(shí)施例24,采用縫模涂敷器進(jìn)行涂敷，在室溫下經(jīng)15秒鐘減壓至0.5Torr,除去溶劑后，在加熱板上于IO(TC下預(yù)烘焙2分鐘，形成涂膜。采用年亇乂乂(抹)制造的PLA501F曝光機(jī)(超高壓汞燈)以累積照射量為3000J/m2分別對所得涂膜進(jìn)行曝光后，在潔凈烘箱內(nèi)于220。C下加熱1小時，得到膜厚度約為3.0|am的固化膜。測定所得固化膜的膜厚(T1)。然后，將該形成了固化膜的硅基板在溫度控制在70。C的二曱亞砜中浸漬20分鐘后，測定該固化膜的浸漬后膜厚(tl)，算出由浸漬產(chǎn)生的膜厚變化率(|tl-Tl|/T1}x100[%]。結(jié)果列于表2。另外，在耐溶劑性評價中，由于不需要形成圖案，故省略了顯影工序，僅提供對涂膜形成工序、照射射線工序和加熱工序進(jìn)行的評價。與上述"[耐溶劑性的評價]"同樣地在硅基板上形成固化膜，測定所得固化膜的膜厚(T2)。然后，將帶有該固化膜的基板在潔凈烘箱中于240。C下追加烘焙1小時后，測定該固化膜的追加烘焙后的厚度(t2),計算由追加烘焙引起的膜厚變化率{|t2-T2|/T2}x100[%]。結(jié)果列于表2。在上述"[耐溶劑性的評價]"中，除了采用玻璃基板"3—二y夕、'7059"(由〕一二乂夕、'公司制造)代替硅基板以外，同樣地進(jìn)行操作，在玻璃基板上形成固化膜。用分光光度計"150-20型雙光束"((林)日立制作所制造)在400~800nm波長范圍測定該具有固化膜的玻璃基板的透光率。此時的最低透光率值列于表2。對于實(shí)施例13-23和比較例3-4，采用旋涂器分別將表2中所列的組合物涂敷于研磨后的SUS304制基板上后，在加熱板上于IO(TC下預(yù)烘焙2分鐘，形成膜厚度為3.0inm的涂膜。對于實(shí)施例24,采用縫模涂敷器進(jìn)行涂敷，在室溫下經(jīng)15秒鐘減壓至0.5Torr,除去溶劑后，在加熱板上于IO(TC下預(yù)烘焙2分鐘，形成膜厚度為3.0|im的涂膜。采用年亇乂乂(4朱)制造的PLA501F曝光才幾(超高壓汞燈)，以累積照射量為3000J/n^分別對所得涂膜進(jìn)行曝光后，在潔凈烘箱內(nèi)于220。C下加熱l小時，在基板上形成固化膜。采用蒸鍍法在該基板上形成Pt/Pd電極圖案，制造出測定介電常數(shù)用的樣品。采用橫河.t二一k、乂卜八°、乂力一卜"(抹)制造的HP16451B電極和HP4284A精密LCR儀表，通過CV法在10kHz頻率下測定所得樣品的比介電常數(shù)。結(jié)果列于表2。另外，在介電常數(shù)評價中，由于不需要形成圖案，故省略了顯影工序，僅提供對涂膜形成工序、照射射線工序和加熱工序進(jìn)行的評價。與上述"[耐溶劑性的評價]"同樣地在硅基板上形成固化膜，按照J(rèn)ISK-5400-1990之8.4.1鉛筆劃痕硬度試驗(yàn)測定所得固化膜的鉛筆硬度。結(jié)果列于表2。當(dāng)鉛筆硬度為H或更硬時，表面硬度評為良好。在表面上形成了防止鈉離子溢出的Si02膜、并且以規(guī)定形狀蒸鍍了ITO(銦-氧化錫合金)電極的鈉鈣玻璃基板上，采用旋涂法涂敷上述調(diào)制的感射線性樹脂組合物，在100'C的加熱板上預(yù)烘焙2分鐘，形成膜厚為2.0pm的涂膜。在2.38重量％的氫氧化四甲基銨水溶液中，采用浸漬法于25°C下進(jìn)行顯影80秒。然后，采用高壓汞燈，不j吏用光掩才莫，采用含365nm、405nm和436nm各波長的射線以3000J/m2的曝光量對涂膜進(jìn)行曝光。再在220°C下進(jìn)行1小時的后烘焙，形成固化膜。然后，在帶有該固化膜的基板上散布直徑為5.5pm的玻璃珠分隔物后，將其與表面上僅以規(guī)定形狀蒸鍍了ITO電極的鈉4丐玻璃基板相對向方文置，留出液晶注入口，用混合了0.8mm的玻璃珠的密封劑將四邊貼合，注入乂少夕社生產(chǎn)的液晶MLC6608(商品名)后，封閉注入口，制成液晶盒。將該液晶盒置入6(TC的恒溫層中，采用東陽x夕二力制造的液晶電壓保持率測定系統(tǒng)"VHR-1A型"(商品名)，施加的電壓為5.5V的方形波，測定頻率為60Hz，測定液晶盒的電壓保持率，其電壓保持率為97%。結(jié)果列于表l.另外，這里電壓保持率是由下式求得的值。電壓保持率(％)=(16.7毫秒后液晶盒電勢差/0毫秒時施加的電壓)x100液晶盒的電壓保持率值越小，則在形成液晶屏?xí)r發(fā)生所謂的"燒屏"的麻煩的可能性就越高。電壓保持率越高，則意味著液晶屏的可靠性越高。表2<table>tableseeoriginaldocumentpage55</column></row><table><作為微透鏡的性能評價>實(shí)施例25~36、比4交例5~6使用如上調(diào)制的感射線性樹脂組合物，對其作為微透鏡的各種性能如下進(jìn)行評價。另外，耐溶劑性的評價、耐熱性的評價、透明性的評價參照上述作為層間絕緣膜的性能評價中的結(jié)果。采用旋涂器分別將表3中所列的組合物涂敷于硅基板上后，在加熱板上于100°C下預(yù)烘焙2分鐘，形成膜厚度為2.0pm的涂膜。通過具有規(guī)定圖案的圖案掩模，采用二〕y(抹)制造的NSR1755i7A縮小投影曝光機(jī)(NA二0.50,X=365nm),以不同的曝光時間對所得涂膜進(jìn)行曝光后，再在2.38重量％的氫氧化四曱基銨水溶液中，采用盛液法于25°C下顯影1分鐘。然后用超純水沖洗，經(jīng)干燥后，在硅基板上形成圖案。調(diào)查使0.8|im線條和間隙(l對l)的間隙線寬為0.8|im所必需的最小曝光量。以該最小曝光量作為敏感度列于表3。"中調(diào)查的敏感度值的曝光量對所得涂膜進(jìn)行曝光后，在表3所示濃度的氫氧化四甲基銨水溶液中，采用盛液法于25°C下顯影1分鐘。經(jīng)用水沖洗、干燥，在硅基板上形成圖案。以使50.8pm線條和間隙圖案(1對l)的間隙線寬為0.8pm所必需的顯影時間作為最佳顯影時間列于表3。并且，在自最佳顯影時間起進(jìn)一步繼續(xù)顯影時，測定直到0.8pm寬度的圖案脫落時的時間(顯影余量)，以其作為顯影余量列于表3。[微透鏡的形成]采用旋涂器分別將表3中所列的組合物涂敷于硅基板上后，在加熱板上于100。C下預(yù)烘焙2分鐘，形成膜厚度為2.0jim的涂膜。通過具有4.0pm點(diǎn).2.0pm間隙圖案的圖案掩模，采用二〕乂(林)制造的NSR1755i7A縮小才殳影爆光才幾(NA二0.50，X=365nm),以相當(dāng)于上述"[敏感度的評價]"中調(diào)查的敏感度值的曝光量對所得涂膜進(jìn)行曝光后，在2.38重量％的氫氧化四甲基銨水溶液中，采用盛液法于25°C下顯影1分鐘。然后用超純水沖洗，干燥后，在硅基板上形成圖案。然后，采用年亇乂y(抹)制造的PLA501F曝光機(jī)(超高壓汞燈)，以累積照射量為3000J/m2進(jìn)一步進(jìn)行曝光。然后，在加熱纟反上于160。C下加熱IO分鐘后，進(jìn)一步在230。C下加熱10分鐘，使圖案熔融流動，形成微透鏡。所形成的微透鏡的底部(與基板接合的面)的尺寸(直徑)和斷面形狀如表3所示。當(dāng)微透鏡底部的尺寸超過4.0pm且不足5.0pm時，則可稱之為良好。如果該尺寸為5.0pm以上，則處于與相鄰?fù)哥R之間接觸的狀態(tài)，是不優(yōu)選的。此外，斷面形狀在圖1所示的示意圖中，當(dāng)如(a)那樣的半凸透鏡形狀時為良好，而如(b)那樣的近似梯形時為不良。表3<table>tableseeoriginaldocumentpage58</column></row><table>權(quán)利要求1、一種感射線性樹脂組合物，其特征在于包括[A](a1)下述式(1)表示的硅烷化合物與(a2)下述式(2)表示的硅烷化合物的水解縮合物聚硅氧烷，[B]1，2-醌二疊氮化合物，式(1)中，X1表示乙烯基、烯丙基、(甲基)丙烯酰氧基、苯乙烯基或乙烯基芐氧基，Y1表示單鍵、亞甲基或碳原子數(shù)為2～6的亞烷基，R1表示碳原子數(shù)為1～6的烷氧基或碳原子數(shù)為2～6的酰氧基，R2表示碳原子數(shù)為1～6的烷基或取代或未取代的碳原子數(shù)為6～12的芳基，a和b各自表示1～3的整數(shù)，c表示0～2的整數(shù)，并且a+b+c＝4，SiR5gR6h(2)式(2)中，R5表示取代或未取代的碳原子數(shù)為1～6的烷氧基、取代或未取代的碳原子數(shù)為6～18的芳氧基或碳原子數(shù)為2～6的酰氧基，R6表示取代或未取代的碳原子數(shù)為1～6的烷基或取代或未取代的碳原子數(shù)為6～18的芳基，g表示1～4的整數(shù)，h表示0～3的整數(shù)，并且g+h＝4。2、權(quán)利要求1所述的感射線性樹脂組合物，其進(jìn)一步包括[C]分子中具有兩個以上從聚合性不飽和鍵、氫硅基和巰基構(gòu)成的群組中選出的至少一種官能基團(tuán)的化合物，其中，[A]成分除外。3、權(quán)利要求1所述的感射線性樹脂組合物，其進(jìn)一步包括[D]熱敏性自由基發(fā)生劑。4、權(quán)利要求1所述的感射線性樹脂組合物，其用于形成層間絕緣膜或微透鏡。5、一種層間絕緣膜或微透鏡的形成方法，其特征在于按照下述順序包括以下工序，(l)在基板上形成權(quán)利要求4所述的感射線性樹脂組合物的覆膜的工序，，(2)對該覆膜的至少一部分照射射線的工序，(3)將照射射線后的覆膜進(jìn)行顯影的工序，和(4)將顯影后的覆膜進(jìn)行加熱的工序。6、由權(quán)利要求5所述的方法形成的層間絕緣膜或微透鏡。-2-全文摘要本發(fā)明提供一種感射線性樹脂組合物，其具有高的射線敏感度，并具有在顯影工序中即使超出最佳顯影時間也能形成良好圖案形狀的顯影余量，能夠容易地形成密合性優(yōu)良的圖案狀薄膜，適用于形成層間絕緣膜或微透鏡。該感射線性樹脂組合物包含具有聚合性不飽和鍵的聚硅氧烷和1，2-醌二疊氮化合物。文檔編號C08L83/04GK101515113SQ200910007638公開日2009年8月26日申請日期2009年2月16日優(yōu)先權(quán)日2008年2月19日發(fā)明者吉田伸,有留功,木下芳德,花村政曉申請人:Jsr株式會社