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      抗蝕劑組合物和使用該抗蝕劑組合物的導(dǎo)電圖案的制造方法

      文檔序號:9366484閱讀:271來源:國知局
      抗蝕劑組合物和使用該抗蝕劑組合物的導(dǎo)電圖案的制造方法
      【技術(shù)領(lǐng)域】
      [0001] 本發(fā)明涉及用于形成鍍覆造形物制造用鑄模的抗蝕劑組合物和使用該抗蝕劑組 合物的導(dǎo)電圖案的制造方法。
      【背景技術(shù)】
      [0002] 以往,作為在基板上形成導(dǎo)電圖案、凸塊等鍍覆造形物的方法,使用由抗蝕劑組合 物構(gòu)成的抗蝕劑圖案作為鑄模的鍍覆法是公知的。例如,專利文獻1中記載了在太陽能電 池的制造中,在半導(dǎo)體晶片的表面內(nèi)的摻雜區(qū)域制造金屬觸點的方法,該方法中,記載了在 隔著氧化硅層與上述摻雜區(qū)域接觸的籽晶金屬層上形成鍍覆用抗蝕劑,以該鍍覆用抗蝕劑 作為鑄模在上述籽晶層上鍍覆導(dǎo)電層。被該鍍覆用抗蝕劑覆蓋的區(qū)域內(nèi)不鍍覆導(dǎo)電層。
      [0003] 現(xiàn)有技術(shù)文獻
      [0004] 專利文獻
      [0005] 專利文獻1 :日本特表2006-523025號公報

      【發(fā)明內(nèi)容】

      [0006] 發(fā)明要解決的問題
      [0007] 對于用于形成鍍覆造形物制造用鑄模的抗蝕劑組合物而言,為了使由該抗蝕劑組 合物構(gòu)成的抗蝕劑圖案難以被鍍覆液侵蝕,要求耐鍍敷性優(yōu)異,此外,為了在鍍覆時使鍍覆 液難以滲出至基板與上述抗蝕劑圖案之間的界面,要求對基板具有高密合性。另一方面,在 鍍覆后,期望這種抗蝕劑組合物可以容易的被剝離液剝離。另外,為了削減工序數(shù)量,對于 上述抗蝕劑組合物,要求能夠利用印刷法進行圖案形成。
      [0008] 本發(fā)明是鑒于上述課題而完成的,目的在于提供一種抗蝕劑組合物和使用該抗蝕 劑組合物的導(dǎo)電圖案的制造方法,所述抗蝕劑組合物用于形成鍍覆造形物制造用鑄模,其 印刷至基板時的印刷性、對基板的密合性、耐鍍敷性和利用剝離液的剝離性優(yōu)異。
      [0009] 用于解決問題的手段
      [0010] 本發(fā)明人發(fā)現(xiàn),通過使用SiO2粒子、由規(guī)定的含氮雜環(huán)式化合物構(gòu)成的密合劑、或 它們的組合,可解決上述課題,從而完成了本發(fā)明。具體來說,本發(fā)明提供如下發(fā)明。
      [0011] 本發(fā)明的第一方式是一種抗蝕劑組合物,其是用于形成鍍覆造形物制造用鑄模的 抗蝕劑組合物,其含有:線性酚醛樹脂(A) ;Si02粒子(B)和/或由具有含有至少2個氮原 子的五元芳環(huán)的雜環(huán)式化合物構(gòu)成的密合劑(C);以及溶劑(D)。
      [0012] 本發(fā)明的第二方式是一種導(dǎo)電圖案的制造方法,其包含:抗蝕劑圖案形成工序,其 是使用上述抗蝕劑組合物,通過印刷法在基板的表面上形成抗蝕劑圖案的工序;和導(dǎo)電層 形成工序,其是以上述抗蝕劑圖案作為鑄模,通過鍍覆在上述基板的表面上形成導(dǎo)電層的 工序。
      [0013] 發(fā)明效果
      [0014] 根據(jù)本發(fā)明,可以提供抗蝕劑組合物和使用該抗蝕劑組合物的導(dǎo)電圖案的制造方 法,所述抗蝕劑組合物用于形成鍍覆造形物制造用鑄模,其印刷至基板時的印刷性、對基板 的密合性、耐鍍敷性和利用剝離液的剝離性優(yōu)異。
      【具體實施方式】
      [0015] <抗蝕劑組合物>
      [0016] 本發(fā)明涉及的抗蝕劑組合物用于形成鍍覆造形物制造用鑄模,其含有:線性酚醛 樹脂(A) ;Si02粒子(B)和/或由具有含有至少2個氮原子的五元芳環(huán)的雜環(huán)式化合物構(gòu) 成的密合劑(C);以及溶劑(D)。本發(fā)明涉及的抗蝕劑組合物的印刷至基板時的印刷性、對 基板的密合性、耐鍍敷性和利用剝離液的剝離性優(yōu)異。
      [0017] 以下,對本發(fā)明涉及的抗蝕劑組合物中含有的各成分進行詳細說明。
      [0018] [線性酚醛樹脂(A)]
      [0019] 作為線性酚醛樹脂(A),沒有特別限定,可以使用公知的線性酚醛樹脂。作為線性 酚醛樹脂(A),可以舉出例如使下文列舉的苯酚類與下文列舉的醛類在鹽酸、硫酸、甲酸、草 酸、對甲苯磺酸等酸性催化劑下進行反應(yīng)而得到的線性酚醛樹脂等。
      [0020] 作為苯酚類,可以舉出例如:苯酚;間甲酚、對甲酚、鄰甲酚等甲酚類;2, 3-二甲苯 酚、2, 5-二甲苯酚、3, 5-二甲苯酚、3, 4-二甲苯酚等二甲苯酚類;間乙基苯酚、對乙基苯酚、 鄰乙基苯酚、2, 3, 5-三甲基苯酚、2, 3, 5-三乙基苯酚、4-叔丁基苯酚、3-叔丁基苯酚、2-叔 丁基苯酚、2-叔丁基-4-甲基苯酚、2-叔丁基-5-甲基苯酚等烷基酚類;對甲氧基苯酚、間 甲氧基苯酚、對乙氧基苯酚、間乙氧基苯酚、對丙氧基苯酚、間丙氧基苯酚等烷氧基苯酚類; 鄰異丙烯基苯酚、對異丙烯基苯酚、2-甲基-4-異丙烯基苯酚、2-乙基-4-異丙烯基苯酚等 異丙烯基苯酚類;苯基苯酚等芳基苯酚類;4, 4'-二羥基聯(lián)苯、雙酚A、間苯二酚、對苯二酚、 連苯三酚等多羥基苯酚類等。這些既可以單獨使用,另外也可以組合使用2種以上。上述 苯酚類之中,特別優(yōu)選間甲酚、對甲酚。
      [0021] 作為醛類,可以舉出例如:甲醛、多聚甲醛、三噁烷、乙醛、丙醛、丁醛、三甲基乙醛、 丙烯醛、巴豆醛、環(huán)己烷甲醛、糠醛、呋喃基丙烯醛、苯甲醛、對苯二甲醛、苯乙醛、a -苯基丙 醛、0 -苯基丙醛、鄰羥基苯甲醛、間羥基苯甲醛、對羥基苯甲醛、鄰甲基苯甲醛、間甲基苯甲 醛、對甲基苯甲醛、鄰氯苯甲醛、間氯苯甲醛、對氯苯甲醛、肉桂醛等。這些既可以單獨使用, 另外也可以組合使用2種以上。上述醛類之中,從易于獲得的觀點出發(fā),優(yōu)選甲醛。
      [0022] 線性酚醛樹脂(A)既可以由1種線性酚醛樹脂構(gòu)成,也可以由2種以上線性酚醛 樹脂構(gòu)成。線性酚醛樹脂(A)的質(zhì)均分子量沒有特別限定,優(yōu)選為1000~100000。特別 地,在線性酚醛樹脂(A)由2種以上線性酚醛樹脂構(gòu)成的情況下,各線性酚醛樹脂的質(zhì)均分 子量沒有特別限定,優(yōu)選按照線性酚醛樹脂(A)整體上質(zhì)均分子量為1000~100000的方 式制備。需要說明的是,抗蝕劑組合物中除溶劑(D)以外的成分(固體成分)中,線性酚醛 樹脂(A)的含量優(yōu)選為20~80質(zhì)量%、更優(yōu)選為30~55質(zhì)量%。
      [0023] 作為以上說明的線性酚醛樹脂(A)所共通的特性,可以舉出耐酸性優(yōu)異。
      [0024] [SiO2粒子(B)]
      [0025] SiO2粒子(B)可以單獨地、或者以與由具有含有至少2個氮原子的五元芳環(huán)的雜 環(huán)式化合物構(gòu)成的密合劑(C)組合的方式,對本發(fā)明涉及的抗蝕劑組合物賦予優(yōu)異的印刷 性、密合性和耐鍍敷性。SiO2粒子(B)可以單獨或組合2種以上使用。
      [0026] SiO2粒子⑶的平均粒徑優(yōu)選為3~30nm。SiO2粒子⑶的平均粒徑為上述范 圍內(nèi)時,SiO 2粒子⑶彼此難以凝聚,本發(fā)明涉及的抗蝕劑組合物的增粘性和觸變性不易 降低。另外,SiO2粒子(B)優(yōu)選為親水性。此處所指的"親水性"是指在粒子表面具有羥基 (0H基)。通過使SiO 2S子⑶為親水性,可以提高本發(fā)明涉及的抗蝕劑組合物的印刷精 度。
      [0027] SiO2粒子(B)的含量相對于線性酚醛樹脂(A) 100質(zhì)量份優(yōu)選為20~100質(zhì)量份、 更優(yōu)選為20~40質(zhì)量份。SiO2粒子(B)的含量為上述范圍內(nèi)時,易于充分確保本發(fā)明涉 及的抗蝕劑組合物的印刷性、密合性和耐鍍敷性。
      [0028] [由具有含有至少2個氮原子的五元芳環(huán)的雜環(huán)式化合物構(gòu)成的密合劑(C)]
      [0029] 由具有含有至少2個氮原子的五元芳環(huán)的雜環(huán)式化合物構(gòu)成的密合劑(C)單獨 地、或者以與SiO 2粒子(B)組合的方式,對本發(fā)明涉及的抗蝕劑組合物賦予優(yōu)異的印刷性 和密合性。上述密合劑(C)可以單獨或組合2種以上使用。
      [0030] 作為上述雜環(huán)式化合物,只要具有含有至少2個氮原子的五元芳環(huán)就沒有特別限 定,可以使用公知的雜環(huán)式化合物。作為上述雜環(huán)式化合物,可以舉出例如咪唑系化合物、 三唑系化合物、四唑系化合物、吡唑系化合物,優(yōu)選咪唑系化合物。
      [0031] 作為咪唑系化合物,可以舉出例如:IH-咪唑、2-甲基咪唑、2-^烷基咪唑、2-乙 基-4-甲基咪唑、2-苯基咪唑、苯并咪唑、2-巰基苯并咪唑、2-巰基甲基苯并咪唑等。
      [0032] 作為三唑系化合物,可以舉出例如:苯并三唑、甲基苯并三唑、羧基苯并三唑、 1-羥基苯并三唑、1-[N,N-雙(2-乙基己基)氨基甲基]甲基苯并三唑、1-[N,N-雙(2-乙 基己基)氨基甲基]羧基苯并三唑、3-氨基-1,2, 4-三唑、4-氨基-1,2, 4-三唑、5-氨 基-1,2, 4-三唑、3-巰基-1,2, 4-三唑、環(huán)己烷并[1,2-d]三唑、1,2, 4-三唑-3-醇、5-氨 基-3-巰基-1,2, 4-三唑、5-氨基-1,2, 4-三唑-3-羧酸、1,2, 4-三唑-3-甲酰胺、4-氨基 尿唑、1,2, 4-三唑-5-酮等。
      [0033] 作為四唑系化合物,可以舉出例如IH-四唑、5-氨基-IH-四唑、5, 5' -偶氮 雙-IH-四唑、1-甲基-5-巰基-IH-四唑、1-苯基-5-巰基-IH-四唑等。
      [0034] 作為吡唑系化合物,可以舉出例如吡唑、1,3-二甲基-4-羧甲基吡唑等。
      [0035] 上述密合劑(C)的含量相對于線性酚醛樹脂(A) 100質(zhì)量份優(yōu)選為0. 01~10質(zhì) 量份、更優(yōu)選為〇. 02~1質(zhì)量份。上述密合劑(C)的含量為上述范圍內(nèi)時,易于充分確保 本發(fā)明涉及的抗蝕劑組合物的印刷性、密合性和耐鍍敷性。
      [0036] [溶劑(D)]
      [0037] 作為溶劑(D),沒有特別限定,可以使用公知的溶劑。作為溶劑(D)的具體例,可 以舉出:乙二醇、丙二醇、己二醇、二乙二醇、二丙二醇、甘油等多元醇類;二乙二醇單甲醚、 二乙二醇單乙醚、二乙二醇單丙醚、二乙二醇單丁醚、二乙二醇單苯醚、二乙二醇二乙醚、丙 二醇單甲醚(PGME)、二丙二醇單甲醚、三丙二醇單甲醚、二丙二醇二甲醚、丙二醇丙醚、丙二 醇二乙酸酯、1,3-丁二醇二乙酸酯、乙二醇單丁醚乙酸酯、乙二醇單苯醚乙酸酯、二乙二醇 單甲醚乙酸酯、二乙二醇單乙醚乙酸酯、二乙二醇單丙醚乙酸酯、二乙二醇單苯醚乙酸酯、 二丙二醇單甲醚乙酸酯、二乙二醇單丁醚乙酸酯、丙二醇單甲醚乙酸酯(PGMEA)、乙酸3-甲 基-3-甲氧基丁酯、乙酸3-乙基-3-甲氧基丁酯、乙酸2-甲氧基戊酯、乙酸3-甲氧基戊 酯、乙酸4-甲氧基戊酯、乙酸2-甲基-3-甲氧基戊酯、乙酸3-甲基-3-甲氧基戊酯、乙酸 3_甲基-4-甲氧基戊酯、乙酸4-甲基-4-甲氧基戊酯等多元醇類的衍生物;苯甲醇、萜品醇 等一元醇;二己醚等醚;乙酸芐酯、苯甲酸乙酯、馬來酸二乙酯、y-丁內(nèi)酯、乙酸丁酯、乙酰 乙酸乙酯、乳酸丁酯、草酸二乙酯等其他酯類;環(huán)己酮、甲基正戊基酮、甲基異戊基酮、2-庚 酮等酮類。它們之中,優(yōu)選三丙二醇單甲醚和二乙二醇單乙醚乙酸酯。需要說明的是,作為 溶劑(D),為了溶解上述密合劑(C),也可以使用四氫呋喃(沸點:66°C )、N-甲基-2-吡咯 烷酮(NMP、沸點:202°C )、二甲亞砜(DMSO、沸點:189°C )等非質(zhì)子性極性溶劑。其中,從本 發(fā)明涉及的抗蝕劑組合物的印刷性的方面考慮,優(yōu)選使用N-甲基-2-吡咯烷酮、二甲亞砜 等沸點在150
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