專利名稱：預(yù)涂輥?zhàn)忧逑磫卧扒逑捶椒ê突逋糠笱b置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及預(yù)涂輥?zhàn)?Priming Roller)清洗單元及清洗方法和包含所述清洗單元的基板涂敷裝置，尤其涉及利用超聲波增大預(yù)涂輥?zhàn)忧逑茨芰Φ念A(yù)涂輥?zhàn)忧逑磫卧扒逑捶椒ê桶銮逑磫卧幕逋糠笱b置。
背景技術(shù)：
通常，在光刻工藝中用來均勻涂敷光刻膠(Photoresist)的方法有滾涂(Roll Coating)方法、旋涂(Spin Coating)方法、狹縫涂敷(Slit Coating)方法。滾涂是在將光刻膠承載于圓柱形輥?zhàn)油獠恐笫顾鲚佔(zhàn)釉诨迳习匆欢ǚ较驖L動而涂敷光刻膠的方法；旋涂是在圓盤形支撐體上放置基板并在所述基板中央滴落光刻膠之后使基板旋轉(zhuǎn)，從而根據(jù)離心力在基板上涂敷光刻膠的方法；狹縫涂敷是按照一定方向掃過基板的同時(shí)通過狹縫形狀的噴嘴將光刻膠噴到基板而進(jìn)行涂敷的方法。
但是，基板越大越重，越難以使基板高速旋轉(zhuǎn)，而且高速旋轉(zhuǎn)時(shí)基板受到的損傷或能耗也越大。因此，液晶顯示面板所使用的玻璃基板等平板顯示裝置用基板主要使用狹縫涂敷方法。
用來進(jìn)行所述狹縫涂敷的狹縫涂敷裝置包含用于放置基板的基板固定盤(Chuck)；設(shè)在所述基板固定盤一側(cè)的預(yù)噴出部；位于所述基板固定盤及預(yù)噴出部上部的狹縫噴嘴(slit-nozzle)，該狹縫噴嘴一邊水平移動一邊向基板噴出光刻膠。即，狹縫噴嘴先在預(yù)噴出部上部進(jìn)行預(yù)噴出之后，水平移動到放置基板的基板固定盤向基板噴出光刻膠。為了使光刻膠均勻分布在基板上，狹縫噴嘴在噴出光刻膠時(shí)勻速移動。
圖1為具有一般清洗單元的預(yù)噴出部的截面圖。
如圖1所示，預(yù)噴出部包含外殼10、位于所述外殼10內(nèi)部的預(yù)涂輥?zhàn)?2和用于浸漬所述預(yù)涂輥?zhàn)?2一部分的清洗槽15。
所述外殼10上部形成開口，圓筒形預(yù)涂輥?zhàn)?2位于所述外殼10內(nèi)部，預(yù)涂輥?zhàn)?2上部的一部分通過所述外殼10的開口露出。并且，在所述外殼10下部設(shè)置清洗槽15，以用于浸漬所述預(yù)涂輥?zhàn)?2下部的一部分。
沿所述外殼10的內(nèi)壁依次設(shè)置溶劑滴落單元14、第一刮刀(blade)16、第一溶劑噴射器18、第二溶劑噴射器20、第二刮刀22以及利用清洗用干燥空氣的干燥器24(以下稱CDA干燥器)。
即，當(dāng)狹縫噴嘴30在進(jìn)行旋轉(zhuǎn)的預(yù)涂輥?zhàn)?2上部涂敷光刻膠時(shí)，溶劑滴落單元14將溶劑滴到預(yù)涂輥?zhàn)?2上稀釋粘在預(yù)涂輥?zhàn)?2上的光刻膠。經(jīng)稀釋的光刻膠由第一刮刀16以接觸方式清除，接著由第一溶劑噴射器18向預(yù)涂輥?zhàn)?2噴射溶劑而清洗光刻膠。然后，預(yù)涂輥?zhàn)?2浸到清洗槽15內(nèi)，由此清洗附著在預(yù)涂輥?zhàn)?2上的光刻膠。
經(jīng)過清洗的預(yù)涂輥?zhàn)?2表面通過第二溶劑噴射器20及第二刮刀22清除殘留的光刻膠。最后，通過CDA干燥器24對預(yù)涂輥?zhàn)?2進(jìn)行干燥而完成清洗。
然而，隨著基板的大型化，預(yù)涂輥?zhàn)?2的軸向長度日益增加，因此需要調(diào)整預(yù)噴出部結(jié)構(gòu)以適應(yīng)預(yù)涂輥?zhàn)?2的長度。尤其，隨著預(yù)噴出部變大，為了正常供應(yīng)和排出溶劑，溶劑滴落單元14、第一及第二刮刀(16、22)、第一及第二溶劑噴射器(18、20)和CDA干燥器24等具有由多個(gè)配管構(gòu)成的復(fù)雜結(jié)構(gòu)。
并且，預(yù)涂輥?zhàn)?2也變大，由于對預(yù)涂輥?zhàn)?2的清洗能力被滴落及噴射到輥?zhàn)?2上的溶劑的流量及壓力等因素所左右，因此若想相對提高清洗能力，就需要更多流量的溶劑。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明是為了解決如上所述的問題而提出的，其目的在于提供一種預(yù)涂輥?zhàn)忧逑磫卧扒逑捶椒ê桶銮逑磫卧幕逋糠笱b置，通過使用超聲波來清洗預(yù)涂輥?zhàn)?，從而簡化裝置結(jié)構(gòu)并提高清洗能力。
為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明所提供的清洗單元用于清洗基板涂敷裝置的預(yù)涂輥?zhàn)?，包含外殼；向所述外殼?nèi)部發(fā)射超聲波的超聲波生成單元。
所述超聲波生成單元包含振子和向所述振子提供信號的超聲波振蕩器。所述振子面向預(yù)涂輥?zhàn)拥囊幻婢哂袑?yīng)所述預(yù)涂輥?zhàn)拥那€。并且，所述振子設(shè)置為多個(gè)，分別提供到所述各振子的高頻電壓控制為具有相同相位。
本發(fā)明所提供的清洗單元還包含設(shè)在所述預(yù)涂輥?zhàn)颖磺逑匆菇n之前位置的溶劑滴落器；設(shè)在所述預(yù)涂輥?zhàn)颖磺逑匆菇n之后位置的刮刀及CDA干燥器。
并且，所述外殼內(nèi)還可以包含裝有清洗夜的清洗槽。
本發(fā)明所提供的用于對基板進(jìn)行涂敷的基板涂敷裝置包含放置基板的涂敷部；具有利用超聲波的清洗單元的預(yù)噴出部；向所述基板噴射涂敷液的噴嘴部。
本發(fā)明所提供的基板涂敷裝置的預(yù)涂輥?zhàn)忧逑捶椒?，包含步驟旋轉(zhuǎn)被噴射光刻膠的輥?zhàn)?；利用超聲波清洗所述光刻膠；對輥?zhàn)舆M(jìn)行干燥。
在所述旋轉(zhuǎn)被噴射光刻膠的輥?zhàn)拥牟襟E之后還可以包含稀釋光刻膠的步驟，在利用超聲波清洗所述光刻膠的步驟之后還可以包含清除輥?zhàn)由系臍埩粑锏牟襟E。


圖1為具有一般清洗單元的預(yù)噴出部的截面圖；圖2及圖3為具有本發(fā)明所提供的超聲波清洗單元的基板涂敷裝置的側(cè)面圖及示意圖；圖4為具有本發(fā)明第一實(shí)施例所提供的超聲波清洗單元的預(yù)噴出部的截面圖；圖5為表示圖4所示的預(yù)噴出部的變形例的截面圖；圖6為具有本發(fā)明第二實(shí)施例所提供的超聲波清洗單元的預(yù)噴出部的截面圖；圖7為表示圖6所示的預(yù)噴出部的變形例的截面圖；圖8為表示本發(fā)明所提供的基板涂敷裝置工作情況的截面圖；圖9為具有本發(fā)明所提供的超聲波清洗單元的預(yù)噴出部清洗方法的流程圖；圖10至圖12為表示具有本發(fā)明所提供的超聲波清洗單元的預(yù)噴出部工作情況的截面圖；圖13為表示本發(fā)明所提供的基板涂敷裝置工作情況的截面圖。
主要符號說明10、310為外殼，12、320為預(yù)涂輥?zhàn)樱?5、330為清洗槽，16、22、350為刮刀，18、20為溶劑噴射器，100為噴嘴部，110為狹縫噴嘴，120為噴出口，200為涂敷部，210為工作臺(Table)，230為水平板(Plate)，250為移送單元，300為預(yù)噴出部，370為振子(Vibrator)，380為高頻振蕩器，500為基板。
具體實(shí)施例方式
下面參照附圖詳細(xì)說明本發(fā)明的實(shí)施例。但本發(fā)明并不限定于下面公開的實(shí)施例，可以體現(xiàn)為各種不同形態(tài)，下面的實(shí)施例只是為了完整地公開本發(fā)明，并向具有本領(lǐng)域一般知識的人員完整地介紹本發(fā)明的范疇而提供的。附圖中的相同標(biāo)號表示相同的構(gòu)成要素。
圖2及圖3為具有本發(fā)明所提供的超聲波清洗單元的基板涂敷裝置的側(cè)面圖及示意圖。
參照附圖，本發(fā)明的基板涂敷裝置包含涂敷部200、噴嘴部100和具有超聲波清洗單元的預(yù)噴出部300。
涂敷部200包含在基座(Base)400上部以具有高度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)的支撐腳為媒介設(shè)在中心部的工作臺210，工作臺210上形成多個(gè)上下貫通的貫通孔；可升降地設(shè)在所述基座400與工作臺210之間的水平板230，在水平板230上表面設(shè)置多個(gè)頂針(Lift Pin)220。
所述多個(gè)頂針220插入到所述工作臺210的貫通孔中，并隨著所述水平板230的升降突出到所述工作臺210上部或退到所述工作臺210內(nèi)部。所述多個(gè)頂針220起到從工作臺210頂起基板或?qū)⒒宸诺焦ぷ髋_210的作用。
另外，在基座400上表面左右兩側(cè)，即所述工作臺210的左右外側(cè)具有沿縱向延伸的一對導(dǎo)軌240。所述一對導(dǎo)軌240上分別安裝移送單元250使移送單元250沿縱向移動。
所述一對移送單元250支撐位于其中間的噴嘴部100使其橫跨所述工作臺210，所述噴嘴部100將光刻膠等涂敷劑噴到玻璃等基板500上進(jìn)行涂敷。所述噴嘴部100的狹縫噴嘴110呈沿左右橫向延伸的條(Bar)狀，而且通常大于基板的左右寬度。在所述狹縫噴嘴110的下部形成噴出光刻膠的微細(xì)的噴出口120，該噴出口120沿所述橫向延伸。通過所述線形噴出口120向基板500噴出一定量的光刻膠。
并且，所述移送單元250在支撐所述噴嘴部100兩側(cè)的狀態(tài)下以一定速度沿縱向移動，從而在工作臺210上移動噴嘴部100。另外，所述移送單元250可以在垂直方向上調(diào)節(jié)噴嘴部100高度，因此可以考慮所涂敷的光刻膠的量和粘度而對所述狹縫噴嘴110的噴出口120與基板500之間的間距進(jìn)行微細(xì)控制。
另外，向所述噴嘴部100供應(yīng)光刻膠的裝置包含設(shè)在所述移送單元250一側(cè)的光刻膠供應(yīng)部130、連通所述光刻膠供應(yīng)部130和狹縫噴嘴110的第一光刻膠供應(yīng)管140、從外部供應(yīng)源(未圖示)向所述光刻膠供應(yīng)部130供應(yīng)光刻膠的第二光刻膠供應(yīng)管150。
由外部供應(yīng)源通過第二光刻膠供應(yīng)管150向光刻膠供應(yīng)部130供應(yīng)光刻膠。光刻膠供應(yīng)部130利用設(shè)在內(nèi)部的泵向光刻膠施加預(yù)定壓力，使得光刻膠經(jīng)第一光刻膠供應(yīng)管140供應(yīng)到狹縫噴嘴110之后通過狹縫噴嘴110的噴出口120以預(yù)定壓力噴出。
所述涂敷部200一側(cè)設(shè)有預(yù)噴出部300。即，所述預(yù)噴出部300沿噴嘴部100的移動方向設(shè)置，并且設(shè)在所述噴嘴部100下部。
圖4為具有本發(fā)明第一實(shí)施例所提供的超聲波清洗單元的預(yù)噴出部的截面圖，圖5為表示圖4所示的預(yù)噴出部的變形例的截面圖。
參照附圖，所述預(yù)噴出部300包含外殼310、位于所述外殼310內(nèi)部的預(yù)涂輥?zhàn)?20、用于浸漬所述預(yù)涂輥?zhàn)?20下部的一部分的清洗槽330和設(shè)在所述清洗槽330內(nèi)側(cè)的超聲波生成單元。所述清洗槽330中還可以設(shè)有用于供應(yīng)清洗液的供應(yīng)單元(未圖示)和用于排出被污染的清洗夜的排出單元(未圖示)。
所述外殼310上部形成開口，從而露出位于外殼310內(nèi)部的預(yù)涂輥?zhàn)?20的上部表面。所述外殼310壁面上設(shè)有溶劑滴落器340和刮刀350及CDA干燥器360。
所述溶劑滴落器340形成在外殼310的上部壁面，以在預(yù)涂輥?zhàn)?20進(jìn)行旋轉(zhuǎn)時(shí)滴下溶劑。所述溶劑滴落器340起到稀釋噴射到預(yù)涂輥?zhàn)?20上的光刻膠的作用。并且，所述刮刀350前端為了與所述預(yù)涂輥?zhàn)?20接觸而傾斜設(shè)置，并用來清除經(jīng)所述清洗槽330從預(yù)涂輥?zhàn)?20清除光刻膠之后剩下的殘留光刻膠或溶劑。并且，CDA干燥器360設(shè)在外殼310的內(nèi)側(cè)上部壁面，以用于對清除殘留光刻膠或溶劑之后的預(yù)涂輥?zhàn)?20進(jìn)行干燥。
即，在預(yù)涂輥?zhàn)?20上部噴射光刻膠之后，由溶劑滴落器340向在附圖中依逆時(shí)針方向旋轉(zhuǎn)的預(yù)涂輥?zhàn)?20滴下溶劑而稀釋光刻膠，此后預(yù)涂輥?zhàn)?20經(jīng)清洗槽330，然后通過與預(yù)涂輥?zhàn)?20接觸的刮刀350前端的摩擦清除殘留溶劑。然后，由刮刀350清除殘留溶劑的預(yù)涂輥?zhàn)?20旋轉(zhuǎn)到形成在外殼310上部的CDA干燥器360的設(shè)置位置，并由所述CDA干燥器360對進(jìn)行旋轉(zhuǎn)的預(yù)涂輥?zhàn)?20表面進(jìn)行干燥。
此時(shí)，雖然溶劑滴落器340及CDA干燥器360形成在外殼310的上部壁面，但也可以形成在外殼310側(cè)壁上。并且，雖然預(yù)涂輥?zhàn)?20在附圖中依逆時(shí)針方向旋轉(zhuǎn)，但并不限定于此，也可以依順時(shí)針方向旋轉(zhuǎn)。只是，溶劑滴落器340、刮刀350及CDA干燥器360最好依次布置，使得預(yù)涂輥?zhàn)?20依次經(jīng)過溶劑滴落器340、刮刀350及CDA干燥器360。
所述外殼310內(nèi)側(cè)底面設(shè)有清洗槽330，清洗槽330中盛有清洗夜，以用于浸漬預(yù)涂輥?zhàn)?20下部的一部分。所述清洗槽330利用清洗夜清洗附著在預(yù)涂輥?zhàn)?20上的稀釋的光刻膠。
所述清洗槽330下部設(shè)有超聲波生成單元，超聲波生成單元包含設(shè)在所述清洗槽330內(nèi)側(cè)的振子370和向所述振子370提供信號的高頻振蕩器380。
所述振子370通過粘接劑等粘接在清洗槽330的內(nèi)側(cè)底面，而且其大小足夠大，以充分地向清洗槽330內(nèi)提供超聲波。此時(shí)，所述振子370可以由陶瓷(ceramics)系板材構(gòu)成。
此時(shí)，所述振子370上部呈曲線形狀，以對應(yīng)預(yù)涂輥?zhàn)?20的表面曲線，因此可以利用均勻的超聲波清洗所述預(yù)涂輥?zhàn)?20表面。
所述振子370連接于提供超聲波信號的高頻振蕩器380，所述高頻振蕩器380向振子370接通高頻電壓而進(jìn)行激振，由此振子370以超聲波范圍的頻率進(jìn)行振動。
并且，如圖5所示，可以在清洗槽330底面粘接兩個(gè)所述振子370a、370b，并分別設(shè)置向各振子370a、370b提供超聲波信號并產(chǎn)生超聲波信號的高頻振蕩器380a、380b。即，各高頻振蕩器380a、380b分別向各振子370a、370b傳送超聲波信號，并激發(fā)所述振子370a、370b產(chǎn)生超聲波。此時(shí)，所述高頻振蕩器380a、380b可以分別進(jìn)行相位控制而接通到振子370a、370b，也可以另外設(shè)置一個(gè)相位控制電源390而同時(shí)控制兩個(gè)高頻振蕩器380a、380b。
此時(shí)，需要控制兩個(gè)振子370a、370b具有相同的相位。即，當(dāng)兩個(gè)振子370a、370b上接通不同相位的超聲波信號時(shí)，由于兩個(gè)振子370a、370b之間的間隙中會發(fā)生干涉，因此難以產(chǎn)生均勻的超聲波。所以，最好包含能夠控制兩個(gè)高頻振蕩器380a、380b具有相同相位的相位控制電源390。
雖然前述實(shí)施例中所述振子370附著在清洗槽330的內(nèi)側(cè)底面，但也可以設(shè)在清洗槽330的內(nèi)側(cè)側(cè)面等其他位置。并且，所述振子370數(shù)量不限于1個(gè)或者2個(gè)，也可以設(shè)置多個(gè)。
圖6為具有本發(fā)明第二實(shí)施例所提供的超聲波清洗單元的預(yù)噴出部的截面圖，圖7為表示圖6所示的預(yù)噴出部的變形例的截面圖。
參照圖6及圖7，預(yù)噴出部300包含外殼310、位于所述外殼310內(nèi)的預(yù)涂輥?zhàn)?20、形成在所述外殼310內(nèi)側(cè)底面的超聲波生成單元。此時(shí)，所述外殼310內(nèi)沒有專門的清洗槽，而是由外殼310承擔(dān)清洗槽作用。
即，在裝有清洗夜的外殼310內(nèi)設(shè)置溶劑滴落器340、刮刀350及CDA干燥器360，預(yù)涂輥?zhàn)?20在外殼310內(nèi)通過旋轉(zhuǎn)進(jìn)行清洗。所述預(yù)涂輥?zhàn)?20的旋轉(zhuǎn)方向并沒有被限定，最好在預(yù)涂輥?zhàn)?20的旋轉(zhuǎn)方向上依次設(shè)置溶劑滴落器340、刮刀350及CDA干燥器360。
超聲波生成單元由振子370和向所述振子370提供信號的高頻振蕩器380構(gòu)成，而且既可以如圖6所示，由一個(gè)振子370和連接于所述振子370的高頻振蕩器380構(gòu)成，也可以如圖7所示，包含多個(gè)振子(370a、370b)、與之對應(yīng)的高頻振蕩器(380a、380b)及相位控制電源390。此時(shí)，由于超聲波生成單元的結(jié)構(gòu)及作用與本發(fā)明第一實(shí)施例相同，因此省略其說明。
以下，說明狹縫涂敷裝置的工作情況及清洗方法。
圖8及圖13為表示本發(fā)明所提供的基板涂敷裝置工作情況的截面圖，圖9為具有本發(fā)明所提供的超聲波清洗單元的預(yù)噴出部清洗方法的流程圖，圖10至圖12為表示具有本發(fā)明所提供的超聲波清洗單元的預(yù)噴出部工作情況的截面圖。
首先，參照圖2，形成在工作臺210上的頂針220為了支撐基板500向工作臺210上部移動而突出，而基板500依靠突出到工作臺210上部的頂針220被置于所述工作臺210。被安置的所述基板500由沒有在工作臺210上示出的對準(zhǔn)器(aligner)進(jìn)行對準(zhǔn)，并通過真空吸附孔被真空吸附到工作臺210上，由此裝載基板500。
接著，如圖8所示，為了進(jìn)行預(yù)噴出狹縫噴嘴110移動到預(yù)噴出部300上部。在狹縫涂敷工藝中，當(dāng)由固體成分和用于溶解該固體成分的揮發(fā)性有機(jī)溶劑構(gòu)成的光刻膠在狹縫噴嘴110的噴出口與空氣接觸時(shí)，由于有機(jī)溶劑蒸發(fā)致使初期噴出的光刻膠不夠均勻，因此為了清除這種不均勻的光刻膠進(jìn)行預(yù)噴出。
然后，狹縫噴嘴110向預(yù)噴出部300內(nèi)的預(yù)涂輥?zhàn)?20噴射光刻膠而開始進(jìn)行噴出，同時(shí)被噴射光刻膠的預(yù)涂輥?zhàn)?20開始在預(yù)噴出部300內(nèi)進(jìn)行清洗。
參照圖9，利用超聲波的清洗方法包含旋轉(zhuǎn)預(yù)涂輥?zhàn)拥牟襟E(S10)、向被噴射光刻膠的預(yù)涂輥?zhàn)拥温淙軇┑牟襟E(S20)，在清洗槽內(nèi)對預(yù)涂輥?zhàn)舆M(jìn)行超聲波清洗的步驟(S30)、清除殘留溶劑的步驟(S40)、對清除溶劑之后的預(yù)涂輥?zhàn)舆M(jìn)行干燥的步驟(S50)。
參照圖10，被噴射光刻膠的預(yù)涂輥?zhàn)?20開始依逆時(shí)針方向旋轉(zhuǎn)。即，光刻膠從狹縫噴嘴110噴射到預(yù)涂輥?zhàn)?20上部表面，而預(yù)涂輥?zhàn)?20為了清洗光刻膠，即為了進(jìn)行各步驟工序而進(jìn)行旋轉(zhuǎn)預(yù)涂輥?zhàn)拥牟襟E(S10)。
如果預(yù)涂輥?zhàn)?20開始旋轉(zhuǎn)，則如圖10所示，由設(shè)在外殼310內(nèi)側(cè)上部的溶劑滴落器340朝被噴射光刻膠的預(yù)涂輥?zhàn)?20上滴落溶劑(S20)。此時(shí)，所述溶劑對光刻膠進(jìn)行稀釋而增加清洗效果。
然后，附著被稀釋的光刻膠的預(yù)涂輥?zhàn)?20進(jìn)一步旋轉(zhuǎn)，如圖11所示，被稀釋的光刻膠浸入清洗槽330內(nèi)。此時(shí)，超聲波生成單元在清洗槽330內(nèi)產(chǎn)生超聲波，即高頻振蕩器380向振子370提供信號，并根據(jù)振子370的振動產(chǎn)生超聲波，由此清洗浸在清洗槽330內(nèi)的光刻膠而進(jìn)行超聲波清洗步驟(S30)。
在清洗槽330中進(jìn)行清洗的光刻膠通過超聲波清洗被清洗掉大部分，只有極少的光刻膠或殘留溶劑剩下。因此，如圖12所示，設(shè)在外殼310內(nèi)側(cè)壁面的刮刀350以與預(yù)涂輥?zhàn)?20接觸的狀態(tài)進(jìn)行最終清除預(yù)涂輥?zhàn)?20上殘留物的步驟(S40)。
由刮刀350清除殘留物之后，利用設(shè)在外殼310內(nèi)側(cè)上部壁面的CDA干燥器360進(jìn)行將預(yù)涂輥?zhàn)?20弄干的步驟(S50)，由此完成清洗作業(yè)。
另外，如上所述完成預(yù)噴出的狹縫噴嘴110如圖13所示，停止噴出光刻膠并移動到基板500前端，然后一邊勻速移動一邊在整個(gè)基板500上噴射均勻的光刻膠。
然后，當(dāng)完成基板的涂敷作業(yè)時(shí)，從涂敷部200卸下完成涂敷的基板500，從而完成基板涂敷工藝。
雖然本發(fā)明實(shí)施例中所述超聲波生成單元的振子設(shè)置在清洗槽或外殼的內(nèi)側(cè)底面，但是所述振子也可以設(shè)在清洗槽或外殼的側(cè)面。并且，當(dāng)使用易燃的有機(jī)溶劑作為清洗液時(shí)，由于存在因運(yùn)行過程中產(chǎn)生的火花而被點(diǎn)燃的危險(xiǎn)，因此可以將振子設(shè)在清洗槽或外殼的外側(cè)底壁或側(cè)壁上，以避免直接接觸清洗液。
以上，參照附圖及實(shí)施例對本發(fā)明進(jìn)行了說明，但本領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)該能理解在不脫離權(quán)利要求所記載的本發(fā)明技術(shù)思想的范圍內(nèi)可以對本發(fā)明進(jìn)行各種修改及變形。
綜上所述，本發(fā)明提出了利用超聲波對預(yù)噴出涂敷液的預(yù)涂輥?zhàn)舆M(jìn)行清洗的結(jié)構(gòu)及方法。因此，具有提高預(yù)涂輥?zhàn)拥耐糠笠呵逑茨芰Σ⒑喕逑囱b置結(jié)構(gòu)的效果。
權(quán)利要求
1.一種清洗單元，用于清洗基板涂敷裝置的預(yù)涂輥?zhàn)?，其特征在于包含外殼；向所述外殼?nèi)部發(fā)射超聲波的超聲波生成單元。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的清洗單元，其特征在于所述超聲波生成單元包含振子和向所述振子提供信號的超聲波振蕩器。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的清洗單元，其特征在于所述振子面向預(yù)涂輥?zhàn)拥囊幻婢哂袑?yīng)所述預(yù)涂輥?zhàn)拥那€。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的清洗單元，其特征在于所述振子設(shè)置為多個(gè)，分別提供到所述各振子的高頻電壓控制為具有相同相位。
5.根據(jù)權(quán)利要求1至4中任意一項(xiàng)所述的清洗單元，其特征在于還包含設(shè)在預(yù)涂輥?zhàn)颖磺逑匆菇n之前位置的溶劑滴落器；設(shè)在預(yù)涂輥?zhàn)颖磺逑匆菇n之后位置的刮刀及CDA干燥器。
6.根據(jù)權(quán)利要求1至4中任意一項(xiàng)所述的清洗單元，其特征在于還包含裝有清洗夜的清洗槽。
7.一種基板涂敷裝置，用于對基板進(jìn)行涂敷，其特征在于包含放置基板的涂敷部；具有利用超聲波的清洗單元的預(yù)噴出部；向所述基板噴射涂敷液的噴嘴部。
8.一種清洗方法，用于清洗基板涂敷裝置的預(yù)涂輥?zhàn)?，其特征在于包含步驟旋轉(zhuǎn)被噴射光刻膠的輥?zhàn)?；利用超聲波清洗所述光刻膠；對輥?zhàn)舆M(jìn)行干燥。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的清洗方法，其特征在于在所述旋轉(zhuǎn)被噴射光刻膠的輥?zhàn)拥牟襟E之后還包含稀釋光刻膠的步驟。
10.根據(jù)權(quán)利要求8或9所述的清洗方法，其特征在于在利用超聲波清洗所述光刻膠的步驟之后還包含清除輥?zhàn)由系臍埩粑锏牟襟E。
全文摘要
本發(fā)明涉及用于清洗基板涂敷裝置的預(yù)涂輥?zhàn)拥那逑磫卧?，尤其涉及包含外殼和向所述外殼?nèi)部發(fā)射超聲波的超聲波生成單元的清洗單元及包含該清洗單元的基板涂敷裝置。本發(fā)明具有提高預(yù)涂輥?zhàn)拥耐糠笠呵逑茨芰Σ⒑喕逑囱b置結(jié)構(gòu)的效果。
文檔編號B05C21/00GK101085446SQ200710107408
公開日2007年12月12日 申請日期2007年5月10日 優(yōu)先權(quán)日2006年6月9日
發(fā)明者權(quán)晟 申請人:K.C.科技股份有限公司